具体实施方式

《结构》

对包括基板清洗装置等的基板处理装置的实施方式进行说明。

如图1所示，本实施方式的基板处理装置具有大致矩形状的壳体310和载置有储存大部分的基板W的基板盒的装载端口312。装载端口312与壳体310邻接配置。在装载端口312能够搭载开放式盒、SMIF(Standard Mechanical Interface：标准机械接口)舱或FOUP(Front Opening Unified Pod：前开式传送盒)。SMIF舱、FOUP是能够在内部收纳基板盒，且能够通过以隔壁遮盖来保持与外部空间独立的环境的密闭容器。能够列举例如半导体晶片等作为基板W。

在壳体310的内部收容有：多个(图1所示的形态为四个)研磨单元314a～314d；对研磨后的基板W进行清洗的第一清洗单元316及第二清洗单元318；以及使清洗后的基板W干燥的干燥单元320。研磨单元314a～314d沿着基板处理装置的长度方向排列，清洗单元316、318及干燥单元320也沿着基板处理装置的长度方向排列。本实施方式的基板处理装置能够在直径为300mm或者450mm的半导体晶片、平板、CMOS(Complementary Metal OxideSemiconductor：互补金属氧化物半导体)、CCD(Charge Coupled Device：电荷耦合器件)等图像传感器、MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory：磁阻随机存取存储器)的磁性膜的制造工序中，对各种基板W进行研磨处理。此外，也可以是，将在壳体310内不设置对基板W进行研磨的研磨单元就进行基板W的清洗处理和干燥处理的装置作为其他实施方式的基板处理装置。

在由装载端口312、位于装载端口312侧的研磨单元314a以及干燥单元320所围成的区域配置有第一输送机械手322。另外，与研磨单元314a～314d、清洗单元316、318以及干燥单元320平行地配置有输送单元324。第一输送机械手322从装载端口312接收研磨前的基板W并将研磨前的基板W交接至输送单元324，或从输送单元324接收从干燥单元320取出的干燥后的基板W。

在第一清洗单元316和第二清洗单元318之间配置有第二输送机械手326，该第二输送机械手326在这些第一清洗单元316和第二清洗单元318之间进行基板W的交接，并且在第二清洗单元318和干燥单元320之间配置有第三输送机械手328，该第三输送机械手328在这些第二清洗单元318和干燥单元320之间进行基板W的交接。而且，在壳体310的内部配置有对基板处理装置的各设备的动作进行控制的控制部350。在本实施方式中，虽然对在壳体310的内部配置有控制部350的形态进行了说明，但是并不限定于此，也可以在壳体310的外部配置控制部350，控制部350也可以设置于遥远的地方。

也可以使用辊型清洗装置作为第一清洗单元316，该辊型清洗装置在存在清洗液的情况下，使横跨基板W的直径的几乎全长地直线状延伸的辊型清洗部件110与基板W接触，并一边绕与基板W平行的中心轴自转一边刷洗基板W的表面。另外，也可以使用笔型清洗装置作为第二清洗单元318，该笔形清洗装置在存在清洗液的情况下，使在铅垂方向上延伸的圆柱状的笔型清洗部件的接触面与基板W接触，且一边使笔型清洗部件自转一边朝向一方向移动，从而刷洗基板W的表面。另外，也可以使用旋转干燥单元作为干燥单元320，该旋转干燥单元从移动的喷射喷嘴朝向保持在水平并旋转的基板W喷出IPA蒸汽而使基板W干燥，进一步使基板W高速地旋转而通过离心力使基板W干燥。

此外，也可以不使用辊型清洗装置而使用与第二清洗单元318相同的笔型清洗装置，或者也可以使用通过双流体喷射来清洗基板W的表面的双流体喷射清洗装置作为第一清洗单元316。另外，也可以不使用笔型清洗装置而使用与第一清洗单元316相同的辊型清洗装置，或者也可以使用通过双流体喷射来清洗基板W的表面的双流体喷射清洗装置作为第二清洗单元318。

本实施方式的清洗液包括纯水(DIW)等冲洗液、氨过氧化氢(SC1)、盐酸过氧化氢(SC2)、硫酸过氧化氢(SPM)、硫酸加水、或氟酸等药液。另外，也可以是将这些作为主成分的混合液、稀释液。在本实施方式中，除非另有说明，则清洗液是指冲洗液、药液或者冲洗液和药液这双方。此外，本实施方式的清洗包括使辊型清洗部件110等清洗部件一边旋转一边与基板接触并且向基板供给清洗液来进行刷洗的形态、不使部件与基板接触地仅供给清洗液的形态。

如图2所示，基板清洗装置也可以具有支承半导体晶片等基板W的周缘部并使基板W水平旋转的多个(在图2中，为四个)支柱(基板支承部)40。如图2的箭头所示，这些支柱40能够在水平方向上移动。另外，基板清洗装置也可以具有升降自如地配置于基板W的上方的上侧辊臂42和升降自如地配置于基板W的下方的下侧辊臂44。

支柱40在上部也可以具有作为基板支承部的辊80。在辊80的外周侧面形成有嵌合槽80a。并且，使基板W的周缘部位于该嵌合槽80a内，从而将辊80向基板W按压并使其旋转。由此，基板W如图2的箭头E所示的那样水平地旋转。在此处图示的实施方式中，与将所有四个辊80与未图示的驱动机构连结而向基板W施加旋转力。此外，也可以是，四个辊中的两个辊80向基板W施加旋转力(驱动机构并未图示)，另外的两个辊80作为接受基板W的旋转的轴承而发挥功能。

在图2所示的上侧辊臂42，水平延伸的圆柱状的辊型清洗部件(辊型海绵)110被支承为旋转自如。该辊型清洗部件110例如如图2的箭头F₁所示的那样旋转。在图2所示的下侧辊臂44，水平延伸的圆柱状的辊型清洗部件(辊型海绵)110被支承为旋转自如。该辊型清洗部件110如图2的箭头F₂所示的那样旋转。也可以是，上侧辊臂42经由测力传感器54而设置于在水平方向上延伸的支撑臂58。也可以是，在测力传感器54与支撑臂58的自由端之间设置有将上侧辊臂42支承成能够倾动的倾斜机构70。这样的倾斜机构也可以设置于下侧辊臂44。

在图2所示的形态中，配置有两个上侧供给喷嘴50，该两个上侧供给喷嘴50位于由支柱40支承并旋转的基板W的上方，向基板W的正面(上表面)供给药液和纯水(冲洗液)。也可以是两个上侧供给喷嘴50中的一个供给药液，另一个供给纯水。另外，也可以是，配置有两个下侧供给喷嘴52，该两个下侧供给喷嘴52位于由支柱40支承并旋转的基板W的下方，向基板W的背面(下表面)供给药液和纯水(冲洗液)。也可以是两个下侧供给喷嘴52中的一个供给药液，另一个供给纯水。

支柱40是支承基板W的基板支承部的一例，但是基板支承部也可以将基板W保持在水平方向上延伸，也可以将基板保持在铅垂方向上延伸，也可以将基板保持为从水平方向倾斜。也可以采用与上述那样的支柱40不同的、将基板W卡住或者吸附而保持并旋转的形态作为基板支承部。

如图3及图4所示，基板清洗装置具有：清洗部件保持部200，该清洗部件保持部200能够安装具有用于对基板W进行清洗的辊型清洗部件110等清洗部件的清洗部件组件100，并且能够在安装了清洗部件组件100的状态下旋转；以及部件旋转部180，该部件旋转部180使被清洗部件保持部200保持的清洗部件组件100旋转。

清洗部件组件100也可以具有清洗部件安装部105和安装于清洗部件安装部105的表面的清洗部件。以下，使用辊型清洗部件110作为清洗部件的一例进行说明。如图7所示，辊型清洗部件110也可以是由具有多个小块(突起部件)115的海绵构成。也可以将小块115的顶部的面积设为5cm²以下。也可以使用PVDF、PTFE作为清洗部件安装部105的材料。另外，如图8所示，辊型清洗部件110也可以是不具有小块(突起部件)115的形态。

图8所示的清洗部件安装部105在作为安装部的端部具有一对突出部105a，在一对突出部105a之间形成有键凹部105b。在图8及图9所示的形态中，通过将清洗部件保持部200的键凸部205b嵌入键凹部105b而将清洗部件组件100安装于清洗部件保持部200。此时，设置有键凸部205b的突出部205a被定位在成对的突出部105a之间。在像这样的图8及图9所示的形态中，清洗部件安装部105和清洗部件保持部200具有方向特性，并且是不在规定的方向就不能安装这两者的结构。

清洗部件组件100也可以是将清洗部件安装部105和辊型清洗部件110一体地构成，也可以是在清洗部件安装部105上成形辊型清洗部件110。另外，清洗部件安装部105和辊型清洗部件110也可以是作为不同部件而构成，拆卸自如。辊型清洗部件110也可以是由PVA(polyvinyl alcohol：聚乙烯醇)海绵材料、使PVA反应而成的PVFM(polyvinyl formal：聚乙烯醇缩甲醛)构成。该PVA海绵材料能够通过聚乙烯乙酸酯的均聚物等进行调整。作为辊型清洗辊件110的材料，能够使用尼龙、聚氨酯或者聚氨酯和PVA的组合，或者不划伤基板W表面，为过程提供合适的材料去除的其他共聚物等其他可成形材料。

如图3及图4所示，基板清洗装置也可以具有向辊型清洗部件110内供给清洗液的内部清洗液供给部410和从辊型清洗部件110的外侧供给清洗液的外部清洗液供给部420。辊型清洗部件110的旋转速度例如为50rpm(转/分)～400rpm。

虽然内部清洗液供给部410和外部清洗液供给部420可以供给相同的清洗液，但并不限定于这样的形态，也可以是，内部清洗液供给部410和外部清洗液供给部420供给不同的清洗液。

在供给内部清洗液和外部清洗液的清洗液时，也可以使用由10nm左右的网眼构成的过滤器412、422(参照图3和图4)。通过使用这样的过滤器412、422，能够去除包含于清洗液的垃圾。外部清洗液供给部420也可以具有由上述喷嘴50、52等构成的外部清洗液供给部件以及与外部清洗液供给部件连结且向外部清洗液供给部件供给清洗液的外部清洗液贮存部424。在该情况下，也可以在外部清洗液贮存部424与外部清洗液供给部件之间设置过滤器422。另外，也可以在内部清洗液供给部410与清洗部件保持部200之间设置过滤器412。

如图3及图4所示，清洗部件安装部105也可以具有主体130、在主体130的内部延伸的清洗液导入部(空隙)135、以及与清洗液导入部135连通的多个清洗液供给孔140。清洗部件安装部105也可以由具有中空区域的圆筒形状构成。也可以是，该中空区域为清洗液导入部135且清洗液供给孔140与清洗液导入部135连通，被供给至清洗液导入部135的清洗液浸入辊型清洗部件110，从而在清洗基板W时被利用。图3及图4是在未设置有小块115的位置切断辊型清洗部件110等的剖面。

也可以是，清洗液经由设置于清洗部件保持部200的内部的供给管215导入清洗液导入部135。

如图5及图6所示，基板清洗装置具有移动部150，该移动部150在拆卸了清洗部件组件100的状态下，使清洗部件保持部200沿轴向移动，并定位于限制清洗部件保持部200的旋转的旋转固定位置。移动部150也可以是弹簧等弹性部件150a。也可以是，弹性部件150a收容于收容部120内，并且设置于与保持辊型清洗部件110的一侧相反的一侧(在图5及图6中，为左侧)的端部。在设置有这样的弹性部件150a的情况下，当清洗部件组件100从清洗部件保持部200被拆卸时，清洗部件保持部200受到来自弹性部件150a的弹性力而沿着轴向移动，从而定位于图6所示的旋转固定位置。但是，并不限于这样的形态，移动部150也可以具有电机等驱动部(未图示)，驱动部使清洗部件保持部200沿着轴向移动。

清洗部件保持部200也可以具有保持主体部210和从保持主体部210向周缘外侧突出的周缘突出部220。保持主体部210和周缘突出部220也可以一体地构成。周缘突出部220也可以从保持主体部210向周缘外侧突出2mm～5mm左右。

虽然图5是清洗部件组件100被安装于清洗部件保持部200的状态，但是在该状态下，弹性部件150a通过清洗部件组件100被按压向清洗部件组件100的相反侧，周缘突出部220成为从收容部120离开的状态。虽然图6是清洗部件组件100从清洗部件保持部200被拆卸的状态，但是在该状态下，通过弹性部件150a按压清洗部件保持部200，周缘突出部220成为与收容部120抵接的状态。

如图6所示，也可以是周缘突出部220与收容清洗部件保持部200的至少一部分的收容部120的内表面面接触，通过周缘突出部220被按压向收容部120的内表面，从而限制(固定)清洗部件保持部200的旋转。在移动部150由弹簧等弹性部件150a构成的情况下，通过受到来自弹性部件150a的弹性力，周缘突出部220与收容部120的内表面面接触，从而限制清洗部件保持部200的旋转。虽然周缘突出部220也可以是相对于辊型清洗部件110的旋转轴在周缘方向上整体突出(参照图10)，但是也可以是多个周缘突出部220隔开间隔地配置(参照图11)。然而，由于与收容部120的内表面的接触面积大的一方容易限制清洗部件保持部200的旋转，因此从该观点来看，周缘突出部220相对于辊型清洗部件110的旋转轴在周缘方向上整体突出的形态是有益的。

周缘突出部220的与收容部120的内表面面接触的面也可以具有凹凸形状，也可以是粗糙面。另外，也可以是，在周缘突出部220的与收容部120的内表面面接触的面设置有橡胶等弹性部件220a，当周缘突出部220被按压向收容部120的内表面时，橡胶等的弹性部件220a变形(参照图25A及图25B)。通过采用这样的形态，能够提高与收容部120的内表面之间的阻力值。另外，在移动部150由弹簧等弹性部件150a构成的情况下，不需要采用弹簧常数极高的部件作为弹性部件150a。作为弹簧常数，例如能够考虑使用0.03kg/mm～0.10kg/mm的弹簧。

周缘突出部220的与收容部120的内表面面接触的面也可以由平坦面构成。在该情况下，能够将来自移动部150的力均匀地向收容部120的内表面传递，并且能够在收容部120的内表面的整体在与周缘突出部220之间产生摩擦力。另外，通过采用这样的平坦面，能够防止周缘突出部220与收容部120的内表面抵接时产生未预期到的粉尘等。

也可以是，清洗部件组件100的一端部由清洗部件保持部200从动地保持，另一端部由具有电机等驱动部的部件旋转部180驱动(参照图3)。在该情况下，清洗部件保持部200具有由部件旋转部180驱动的第二清洗部件保持部205b和从动地被驱动的第一清洗部件保持部200a。在像这样的形态中，由弹性部件150a等构成的移动部150也可以设置于从动部。

辊型清洗部件110不需要是双支承式结构，也可以是如图4所示的悬臂式结构。在该情况下，在保持有辊型清洗部件110的一侧设置部件旋转部180。

周缘突出部220也可以是在纵剖面中，清洗部件组件100侧的厚度(在图5及图6中，为右侧)比辊型清洗部件110的相反侧(在图5及图6中，为左侧)的厚度厚。在图5及图6所示的形态中，在纵剖面中，周缘突出部220的厚度是随着朝向清洗部件组件100侧而变厚的形态。然而，并不限定于这样的形态，也可以是采用周缘突出部220的厚度随着断续地(例如阶梯状)朝向清洗部件组件100侧而变厚的形态。另外，如图23A及图23B所示，也可以是，周缘突出部220的横截面为矩形，并且其厚度均匀。

如图13所示，也可以是，清洗部件保持部200具有向周缘外侧突出的第一突出部230，收容清洗部件保持部200的收容部120在内表面具有收容第一突出部230的第一凹部190。在该情况下，通过第一突出部230收容于第一凹部190内来限制清洗部件保持部200的旋转。另外，在设置有一个或者多个第一突出部230的情况下，也可以设置多个第一凹部190(参照图14)。第一突出部230的数量不需要与第一凹部190的数量一致，只要第一凹部190的数量大于第一突出部230的数量即可。在该情况下，通过第一突出部230收容于某个第一凹部190内来限制清洗部件保持部200的旋转。第一突出部230也可以是销形状，并且其长度也可以是2mm～5mm左右。

另外，与上述形态不同，如图15所示，也可以是，收容清洗部件保持部200的收容部120在内表面具有第二突出部195，并且清洗部件保持部200具有收容第二突出部195的第二凹部240。在该情况下，通过第二突出部195收容于第二凹部240内来限制清洗部件保持部200的旋转。另外，在设置有一个或者多个第二突出部195的情况下，也可以设置多个第二凹部240(参照图16)。第二突出部195的数量不需要与第二凹部240的数量一致，并且只要第二凹部240的数量大于第二突出部195的数量即可。第二突出部195也可以是销形状，并且其长度也可以是2mm～5mm左右。

另外，也可以组合上述的形态。例如，也可以采用周缘突出部220与第一突出部230以及第一凹部190的组合，也可以采用周缘突出部220与第二突出部195以及第二凹部240的组合。

在图17所示的形态中，示出采用了周缘突出部220与第一突出部230以及第一凹部190的组合的形态。在图18所示的形态中，示出采用了周缘突出部220与第二突出部195以及第二凹部240的组合的形态。

另外，在采用周缘突出部220与第一突出部230以及第一凹部190的组合的情况下，也可以是图19A及图19B所示的形态。另外，如图21A及图21B所示，也可以采用多个第一突出部230和第一凹部190。

另外，在采用周缘突出部220与第二突出部195以及第二凹部240的组合的情况下，也可以是图20A及图20B所示的形态。另外，如图22A及图22B所示，也可以采用多个第二突出部195和第二凹部240。

如图5及图6所示，轴承260也可以具有两个以上的轴承部件261。也可以是，在轴承部件261的轴向之间供给用于湿润轴承260的润滑流体。该润滑流体可以由清洗液构成，尤其也可以是冲洗液。另外，也可以是，在内侧部件280的周缘外侧设置有密闭部290。该密闭部也可以具有第一密闭部291和与第一密闭部291相邻地设置的第二密闭部292。第一密闭部291和第二密闭部292各自也可以是O型圈。

如图12所示，周缘突出部220也可以具有一个以上的槽部220a。用于湿润轴承260的润滑流体能够经由该槽部220a向收容部120的清洗部件组件100侧流动。

使用图5、图6、图8及图9所示的形态对将清洗部件组件100安装于清洗部件保持部200时和从清洗部件保持部200拆卸清洗部件组件100时的步骤进行说明。

在将清洗部件组件100安装于清洗部件保持部200时，通过将清洗部件组件100压入从动部侧的清洗部件保持部200而使弹性部件150a收缩。在图8及图9所示的形态中，在突出部205a定位于一对突出部105a之间后，将键凸部205b嵌入键凹部105b，从而将清洗部件组件100压入清洗部件保持部200侧。在该状态下，由于清洗部件保持部200的安装部201旋转自如，因此使清洗部件组件100旋转至适当的位置，并且将清洗部件组件100的另一端安装在驱动部侧(部件旋转部180侧)的清洗部件保持部200。此外，在驱动部侧的清洗部件保持部200，也是在突出部205a位于一对突出部105a之间后，将键凸部205b嵌入键凹部105b。

在将清洗部件组件100从清洗部件保持部200拆卸时，通过将清洗部件组件100压入从动部侧的清洗部件保持部200而使弹性部件150a收缩后，从驱动部侧(部件旋转部180侧)的清洗部件保持部200拆卸清洗部件组件100的另一端。随后，将清洗部件组件100的一端从从动部侧的清洗部件保持部200拆卸。通过像这样从清洗部件保持部200拆卸清洗部件组件100，周缘突出部220通过弹性部件150a与收容清洗部件保持部200的收容部120的内表面面接触。通过像这样周缘突出部220被按压向收容部120的内表面来限制(固定)清洗部件保持部200的旋转。

此外，在为清洗部件安装部105和辊型清洗部件110分体的清洗部件组件100的情况下，拆卸用于将辊型清洗部件110固定于清洗部件安装部105的螺母等安装部件，通过将新的或者清洗后的辊型清洗部件110安装于清洗部件安装部105，能够更换辊型清洗部件110。

如图26所示，内部清洗液供给部410、外部清洗液供给部420、部件旋转部180、作为基板支承部的支柱40以及供操作者输入信息的输入部400等通过有线或者无线而与控制部350连接，构成为从这些部件接收信息、向这些部件给出指令。此外，在图26中，将第一输送机械手322、输送单元324、第二输送机械手326以及第三输送机械手328等输送机构统称为输送部300。

《效果》

接着，以由上述的结构构成的本实施方式的效果、尚未说明的效果为中心进行说明。即使是未在“结构”中记载的情况下，在本发明中也能够采用在“效果”中说明的所有结构。

一般而言，由于清洗部件保持部200具有轴承260，因此是旋转自如的结构。因此，在不采用本实施方式的形态的情况下，清洗部件保持部200的清洗部件组件100侧的部分(图5的右侧部分)将旋转自如。在安装的场所，由于无法目视清洗部件保持部200的旋转位置，因此在清洗部件保持部200安装辊型清洗部件110将花费工夫。作为一例，在图8及图9所示的结构中，虽然通过将键凸部205b嵌入键凹部105b内而将清洗部件组件100安装于清洗部件保持部200，但是由于在无法目视的状态下，清洗部件保持部200的安装部201将旋转自如，因此将突出部205a定位于一对突出部105a之间将花费工夫。此外，与如图8及图9所示的设置有突出部205a和一对突出部105a的形态不同，在采用了未设置有这些突出部205a和一对突出部105a而在清洗部件保持部200的任一方向上都能够安装清洗部件组件100的形态(完全不具有方向特性的形态)的情况下，虽然解决了关于安装的工夫的问题，但是会产生不能够从清洗部件保持部200向清洗部件组件100适当地传递旋转动力的其他问题。

在本实施方式中，采用了移动部150，该移动部150在拆卸了清洗部件组件100的状态下使清洗部件保持部200沿着轴向移动，并且定位于限制清洗部件保持部200的旋转的旋转固定位置，在该情况下，在拆卸了清洗部件组件100的状态下，能够限制(固定)清洗部件保持部200的旋转。因此，能够容易地将清洗部件组件100安装于清洗部件保持部200。在以往的形态中，如上所述由于清洗部件保持部200会旋转自如，因此即使在清洗部件保持部200安装清洗部件组件100，也会花费工夫和时间。根据本形态，能够解决这样的问题。此外，在花费将清洗部件组件100安装于清洗部件保持部200的时间时，会污染辊型清洗部件110，从而会产生清洗度降低的问题。

在移动部150由弹簧等弹性部件150a构成的情况下，能够不导入电机等驱动部地限制清洗部件保持部200的旋转。因此，能够简单且低价地限制清洗部件保持部200的旋转。

由于在清洗部件保持部200的从动部侧不存在由电机等部件旋转部180导致的锁紧机构，因此容易产生清洗部件保持部200旋转自如的问题。在这一点上，通过在从动部设置限制清洗部件保持部200的旋转的移动部150，能够解决该问题。另一方面，在部件旋转部180中，由于被伺服锁这样的锁定机构限制了旋转，因此将不会旋转自如。但是，在解除了伺服锁这样的锁定机构的情况下，由于驱动部侧(部件旋转部180侧)的清洗部件保持部200也会旋转自如，因此也可以在驱动部侧(部件旋转部180侧)设置将清洗部件保持部200定位于旋转固定位置的移动部150。

如图10及图11所示，清洗部件保持部200具有在周缘外侧突出的周缘突出部220，周缘突出部220与收容清洗部件保持部200的收容部120的内表面面接触，并且通过周缘突出部220被按压至收容部120的内表面而限制清洗部件保持部200的旋转，在采用了该形态的情况下，能够通过周缘突出部220的表面处的阻力(滑动阻力)来限制清洗部件保持部200的旋转。在使用弹性部件150a作为移动部150的情况下，为了限制清洗部件保持部200的选择，虽然考虑使用弹簧常数较大的弹性部件150a，但是从通过使周缘突出部220与收容部120的内表面面接触，不需要使用弹簧常数极大的弹性部件150a就能够限制清洗部件保持部200的旋转这点上来看，是有益的。

如图12所示，在采用了周缘突出部220具有一个以上的槽部220a的形态的情况下，能够将经由槽部220a向轴承260供给的润滑流体导向清洗部件组件100侧。因此，即使周缘突出部220的清洗部件组件100侧的表面附着有垃圾等，也能够通过润滑流体进行冲洗。在安装有清洗部件组件100并清洗基板W时，由于周缘突出部220从收容部120离开并旋转自如，因此能够通过润滑流体容易地清洗周缘突出部220的清洗部件组件100侧的表面。

如图5及图6所示，在采用了周缘突出部220在纵剖面中的清洗部件组件100侧的厚度比辊型清洗部件110的相反侧的厚度厚的形态的情况下，从润滑流体供给管121供给的润滑流体越过周缘突出部220而容易导向清洗部件组件100侧。因此，如上所述，即使在周缘突出部220的清洗部件组件100侧的面附着有垃圾等，也能够通过润滑流体进行冲洗。另外，在采用了该形态的情况下，能够使周缘突出部220的旋转轴侧(根部)的厚度变厚，从而能够提高强度。

如图13及图14所示，在采用了清洗部件保持部200具有向周缘外侧突出的第一突出部230，并且在收容清洗部件保持部200的收容部120在内表面具有收容第一突出部230的第一凹部190的形态的情况下，通过将第一突出部230收容于第一凹部190，能够限制清洗部分保持部200的旋转。在该情况下，能够更可靠地防止清洗部件保持部200的清洗部件组件100侧的端部(安装部)进行旋转。但是，在该形态中，由于需要将第一突出部230收容于第一凹部190，因此与周缘突出部220在保持主体部210的周缘突出的形态相比，方便性较差。此外，通过使清洗部件保持部200的清洗部件组件100侧的端部(安装部201)旋转，使第一突出部230自动地收容于第一凹部190内，以将第一突出部230收容于第一凹部190。

在设置有多个第一凹部190的情况下，由于能够增加可收容第一突出部230的第一凹部190的数量，因此能够在拆卸清洗部件组件100时，使第一突出部230收容于第一凹部190的工夫变得简单。在分别设置一个第一突出部230和第一凹部190的情况下，在拆卸清洗部件组件100时，能够使清洗部件保持部200始终定位于相同位置。因此，在采用图8及图9所示的结构的情况下，在拆卸清洗部件组件100时，能够将突出部205a大致定位于相同位置，从而容易将突出部205a定位于一对突出部105a之间。

如图15及图16所示，在采用了收容清洗部件保持部200的收容部120在内表面具有第二突出部195，并且清洗部件保持部200具有收容第二突出部195的第二凹部240的形态的情况下，通过将第二突出部195收容于第二凹部240，能够限制清洗部件保持部200的旋转。但是，在该形态下，由于需要将第二突出部195收容于第二凹部240，因此在拆卸清洗部件组件100时，需要确认第二突出部195和第二凹部240的位置，在这一点上，与周缘突出部220在保持主体部210的周缘突出的形态相比，方便性较差。在分别设置一个第二凹部240和第二突出部195的情况下，与上述形态相同，在拆卸清洗部件组件100时，能够将清洗部件保持部200始终定位于相同位置。因此，在采用图8及图9所示的结构的情况下，在拆卸清洗部件组件100时，能够将突出部205a大致定位于相同位置，从而容易将突出部205a定位于一对突出部105a之间。

如图24所示，在采用了周缘突出部220的形态中，清洗部件保持部200的安装部201也可以设置有缺口等标记270。该标记270可以仅设置在一个地方，也可以以180度的位置关系设置一对。通过设置这样的标记270，能够使清洗部件保持部200的安装部201定位于规定的位置，该清洗部件保持部200能够定位于旋转方向的任意位置，并且能够使安装部201根据与驱动部侧(部件旋转部180侧)的清洗部件保持部200的关系而定位于容易安装的位置。

在设置有多个第二凹部240的情况下，由于能够增加可收容第二突出部195的第二凹部240的数量，因此能够在拆卸清洗部件组件100时，使第二突出部195收容于第二凹部240的工夫变得简单。

从制造的容易程度来看，第一突出部230和第一凹部190的组合优于第二突出部195和第二凹部240的组合。

此外，一实施方式的清洗部件所清洗的处理对象物并不限定于半导体晶片，也可以是硅晶片、玻璃基板、印刷配线基板、液晶面板以及太阳能面板。另外，处理对象物的平面的形状既可以是圆形也可以是矩形，平面的厚度也可以是容许面内的挠曲的厚度。处理的基板包括方形基板和圆形基板。另外，方形基板包括矩形等多边形的玻璃基板、液晶基板、印刷基板以及其他多边形的镀覆对象物。圆形基板包括半导体晶片、玻璃基板以及其他圆形的镀覆对象物。

能够应用高温纯水、APM(Ammonium Hydrogen-peroxide Mixture、氨和过氧化氢水的混合液)、SPM(Sulfuric-Acid Hydrogen Peroxide Mixture、硫酸和过氧化氢水的混合液)、碳酸水、超声波水、臭氧水等作为清洗液。

上述的各实施方式的记载及附图的公开仅是用于说明要保护的发明的一例，要保护的发明并不限定于上述的各实施方式的记载或者附图的公开。另外，申请当时的发明要保护的范围的记载仅是一例，能够基于说明书、附图的记载而适当变更要保护的发明的记载。