具体实施方式

下面将结合具体的实施方案对本发明进行进一步的解释，但并不局限本发明。

如图1至图4所示，本发明一方面提供了基于可调平面的陶瓷柱支撑高度的测量装置，其中，所述陶瓷柱设置于加热盘4上，所述加热盘4的外周设置有精加工的第一环形台阶面，该测量装置包括：归零基准件1、测量基准件2和测量件3，其中，所述归零基准件1用于为测量基准件2提供一基准平面11，所述测量基准件2包括基准底面21、调节装置22和千分表23，所述调节装置22和千分表23均为3个，所述千分表23固定于基准底面21上且沿以基准底面21的中心为圆心的圆上均匀分布，所述调节装置22与千分表23一一对应设置于所述基准底面21上且位于同一分度圆的半径上，当将所述测量基准件2配合放置于所述归零基准件1时，所述基准底面21与归零基准件1提供的基准平面11平行且千分表23的测头与基准平面11接触，当将所述测量基准件2配合放置于所述加热盘4的第一环形台阶面上时，通过所述调节装置22可调整基准底面21与接触面的距离，所述接触面为由位于加热盘4上且与千分表23的测头接触的三个点形成的平面，通过所述千分表23的读数，可将基准底面21调节至与接触面平行，所述测量件3可垂直放置于所述基准底面21上，用于以基准底面21为参考面来测量加热盘4上的陶瓷柱的支撑高度。

该基于可调平面的陶瓷柱支撑高度的测量装置，利用归零基准件可以对测量基准件进行归零，之后，将该测量基准件配合放置于加热盘上，通过调节调节装置，并配合千分表，可以将基准底面与接触面调平行，之后，通过测量件即可以所述基准底面为参考面来测量加热盘上的陶瓷柱的支撑高度。

作为技术方案的改进，如图1所示，所述归零基准件1还包括精加工的第二环形台阶面12，所述第二环形台阶面12与所述基准平面11平行，所述基准底面21下方固定设置有多个高度相同的放置座211，所述放置座211可配合放置于所述第一环形台阶面和第二环形台阶面12上。

作为技术方案的改进，所述放置座211为3个，所述调节装置22与放置座211一一对应设置且螺纹连接。

作为技术方案的改进，如图1、图3、图4所示，所述测量基准件2还包括连接件24，所述连接件24与千分表23固定连接且通过螺栓固定连接于基准底面21上。

作为技术方案的改进，如图2所示，所述测量件3为千分表，所述千分表固定于支撑座31上，所述支撑座31底部与所述基准底面21的上表面面接触。

作为技术方案的改进，所述基准底面21上设置有与加热盘4上的陶瓷柱配合的测量通孔，通过所述测量通孔可测量各陶瓷柱相对基准底面的支撑高度。

本发明还提供了一种基于可调平面的陶瓷柱支撑高度的测量方法，利用上述的基于可调平面的陶瓷柱支撑高度的测量装置，包括如下步骤：

S1：将所述测量基准件2配合放置于所述归零基准件1上，基准底面21与基准平面11平行，此时，将各个千分表23归零；

S2：将所述测量基准件2配合放置于加热盘4上，调节调节装置22至各个千分表23的读数相同，此时，基准底面21与接触面平行；

S3：利用测量件3获得加热盘4上各陶瓷柱相对基准底面的支撑高度。

该基于可调平面的陶瓷柱支撑高度的测量方法，利用上述测量装置，首先利用归零基准件对测量基准件进行归零，之后，将该测量基准件配合放置于加热盘上，通过调节调节装置，并配合千分表，使各千分表的读数相同，可以将基准底面与接触面调平行，最后，利用测量件可基于所述基准底面来测量加热盘上的各陶瓷柱的支撑高度。

本发明还提供了基于可调平面的陶瓷柱支撑高度的测量方法在陶瓷柱支撑高度一致性调节上的应用，包括如下步骤：

利用上述基于可调平面的陶瓷柱支撑高度的测量方法获得各陶瓷柱相对基准底面的支撑高度；

将各陶瓷柱相对基准底面的支撑高度调节至相同。

获得所述支撑高度后，通过调节所述支撑高度，可以保证各陶瓷柱相对基准底面的支撑高度一致，进而使其与晶圆较好接触，降低晶圆表面成膜厚差异，提高晶圆良品率。

本发明的具体实施方式是按照递进的方式进行撰写的，着重强调各个实施方案的不同之处，其相似部分可以相互参见。

上面结合附图对本发明的实施方式做了详细说明，但是本发明并不限于上述实施方式，在本领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本发明宗旨的前提下作出各种变化。