发明内容

本发明的目的在于提供一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置及方法，通过采用高压喷雾冲洗、风刀风干及洁净检测一体式的清洗装置和驱动控制，自动化程度高，需要切换的工艺设备少，用水量少、需要后续处理的水量少。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明为一种液晶玻璃基板研磨残留清洗装置，清洗装置包括位移驱动机构，位移驱动机构输出连接有位移支架，位移支架一端安装有主安装基板。主安装基板的下侧嵌设有喷淋机构，主安装基板的下侧嵌设有位于喷淋机构两侧的侧位风刀，主安装基板的下侧固定安装有位于喷淋机构、侧位风刀外围的外围防护圈板。主安装基板的两侧端安装有边位安装架，两个边位安装架之间安装有位于主安装基板一侧的第一边位板和位于主安装基板另一侧的第二边位板，第一边位板的下侧嵌入安装有若干光电传感器，第二边位板的下侧嵌入安装有若干超声波传感器。

作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案：承载基盘上设置有一组位于玻璃基板外侧边缘的导向凸起；主安装基板的下侧嵌设有用于传感检测导向凸起的校准传感器，校准传感器位于外围防护圈板的外围。

作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案：校准传感器采用光电距离传感器，导向凸起的凸起高度尺寸小于外围防护圈板的高度尺寸。

作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案：喷淋机构上配置有若干均匀分布的高压喷雾嘴，高压喷雾嘴呈横向“一”字形排列，侧位风刀与喷淋机构平行设置。

作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案：主安装基板的两侧端都开设有边位安装缺槽，边位安装架的中部位置卡合安装在主安装基板的边位安装缺槽位置处。

作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案：主安装基板侧端的两侧面都开设有边位安装螺孔，边位安装架上开设有与边位安装螺孔相配合的边架嵌入安装孔，同侧位置的边架嵌入安装孔、边位安装螺孔上安装有嵌入式内六角槽螺栓。

作为本发明中研磨残留清洗装置的一种优选技术方案：位移驱动机构内设置有位置编码器或行程开关器，第一边位板上的光电传感器、第二边位板上的超声波传感器的位移范围都覆盖承载基盘上的玻璃基板的放置范围。

本发明涉及一种液晶玻璃基板研磨残留清洗方法，包括以下内容：

㈠导向移动定位

承载基盘转动到位后，主安装基板上的两个校准传感器同时检测到的距离都为凸位点距离时，控制系统判定当前承载基盘处于“正位”。

㈡顺向超声检测

控制系统驱动位移驱动机构，带动第二边位板上的超声波传感器顺向运动，超声波传感器顺向扫略玻璃基板研磨面，并将扫略检测到的信息传输至控制系统。

㈢逆向高压清洗

顺向超声检测结束后，控制系统根据超声检测到的玻璃基板表面的研磨残留物密度分布，驱动位移驱动机构带动主安装基板逆向运动，逆向路径式驱控高压喷雾嘴对玻璃基板研磨面进行冲洗[就是根据原来路径上采集到的玻璃基板研磨残留情况，进行反方向的清洗]。

㈣顺向风刀风干

高压喷雾嘴逆向清洗结束后，位移驱动机构驱动主安装基板再次顺向移动，主安装基板上的侧位风刀在顺向移动过程中全程开启，对玻璃基板研磨面进行风干；超声波传感器同步开启，对已经顺向风干的玻璃基板研磨面进行二次检测，若检测到玻璃基板研磨面上任意一位置点出现异常，位移驱动机构将位置参数传输至控制系统，待完全风干、检测完玻璃基板，对玻璃基板上的异常位置点进行二次高压喷雾嘴清洗，清洗后再次风干。

㈤最终洁净检测

超声波传感器检测玻璃基板研磨面无异常后，位移驱动机构逆向带动主安装基板运动，同时开启光电传感器，光电传感器逆向对玻璃基板进行最终光滑度检测。

作为本发明中研磨残留清洗方法的一种优选技术方案：控制系统内预设校准传感器正对于导向凸起时校准传感器传感检测到的距离为凸位点距离；当前承载基盘未处于“正位”状态，则控制系统驱动承载基盘进行“左右”摇摆，辅助校准传感器寻找符合凸位点距离参数的位置。

作为本发明中研磨残留清洗方法的一种优选技术方案：设超声波传感器检测到玻璃基板研磨面任意一位置处的研磨残留参考值为Δx，设高压喷雾嘴的喷雾压力为p，则存在F(p)∝F(Δx)。

本发明具有以下有益效果：

1.本发明通过位移驱动机构带动主安装基板进行升降式移动，并在主安装基板内侧配置若干高压喷雾嘴，对玻璃基板上的研磨残留进行高压喷雾清洗，并受重力自然下流排出，并采用风刀装置进行风干式清理；

2.本发明在高压喷雾嘴的一侧配置超声波传感器，在清洗前后辅助检测玻璃基板的研磨液、研磨粉的清洁程度，通过二次位置针对性的高压喷雾清洗、风干，完成对玻璃基板研磨残留的清洁；

3.本发明采用的高压喷雾冲洗、风刀风干及洁净检测一体式的清洗装置和清洗方法，自动化程度高，需要切换的工艺设备少，用水量少、需要后续处理的水量少。

当然，实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。