具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明：

如附图1所示，本发明为一种双面线路触摸屏制备方法，所述的双面线路触摸屏制备方法的制备步骤为：S1.基材1A面Metal镀膜，形成A面Metal层2，基材1B面Metal镀膜，形成B面Metal层3；S2.基材1A面的A面Metal层2黄光显影，基材1B面的B面Metal层3黄光显影；S3.A面Metal层2和B面Metal层3蚀刻；S4.A面Metal层2外进行ITO镀膜，形成A面ITO层5，B面Metal层3外进行ITO镀膜，形成B面ITO层6；S5.A面ITO层5显影，B面ITO层6显影，A面ITO层5蚀刻，B面ITO层6蚀刻，完成双面线路触摸屏制备。上述步骤，针对现有技术中存在的问题，基于独特巧妙的构思，提出全新的技术方案。本申请是在相当成熟的工艺及产品上提出改进，改进空间相当有限，做出新的改进需要付出相当的劳动。而本申请的改进，能够产生相当的技术效果。在大规模投产的工艺中，能够为企业带来许意想不到的经济效益和技术效益。针对现有技术，本发明调整构思，有效将制备步骤从15个减少到8个，并且确保制备的产品的质量不会受到影响，而制备效率得到明显的提升。本发明所述的双面线路触摸屏结构及制备方法，相比现有技术能够减少之别步骤，降低产品生产成本，从而有效降低制备成本，提高制备效率。

所述的基材1A面Metal镀膜和基材1B面Metal镀膜时，Metal镀膜同时进行。所述的A面Metal层2蚀刻和B面Metal层3蚀刻时，蚀刻同时进行。所述的A面Metal层2外进行ITO镀膜和B面Metal层3外进行ITO镀膜时，ITO镀膜同时进行。所述的A面ITO层5蚀刻和B面ITO层6蚀刻时，蚀刻同时进行。所述的基材2先进行清洗，然后基材2再进行Metal镀膜。所述的基材2的Metal层进行清洗后，再进行ITO镀膜。本发明的技术中，为解决现有问题，实际上包含两种技术方案。方案一：A面Metal镀膜、B面Metal镀膜、A面Metal黄光显影、B面Metal黄光显影、A/B面Metal同时蚀刻、A面ITO镀膜、B面ITO镀膜、A面ITO显影、B面ITO显影、A/B面ITO同时蚀刻；制程短(共10个制程)；方案二：A面和B面Metal同时镀膜、A面Metal黄光显影、B面Metal黄光显影、A/B面Metal同时蚀刻、A面和B面ITO同时镀膜、A面ITO显影、B面ITO显影、A/B面ITO同时蚀刻；制程短(共8个制程)；以上两种方案的产品金属线区域后续均不需要做OC或者油墨进行保护(ITO的抗氧化效果要优于部分金属，不用在ITO上面做OC或者绝缘油墨保护层)，有效简化工序。

所述的A面Metal层2走线在A面ITO层5走线下面，A面Metal层2走线的线宽小于A面ITO层5走线的线宽；B面Metal层3走线在B面ITO层6走线下面，B面Metal层3走线的线宽小于B面ITO层6走线的线宽。上述结构，ITO层可靠实现对Metal层的保护。

本发明还涉及一种结构简单，相比现有技术能够减少之别步骤，降低产品生产成本，从而有效降低制备成本，提高制备效率的一种双面线路触摸屏结构。

所述的双面线路触摸屏结构包括基材1，基材1A面Metal镀膜形成A面Metal层2，基材1B面Metal镀膜形成B面Metal层3，A面Metal层2外ITO镀膜形成A面ITO层5，B面Metal层3外ITO镀膜形成B面ITO层6。所述的ITO层为氧化铟锡，Metal层为Mo/Al/Mo材质或Cu材质。

本发明的制备方法，进行制备时，具体实施例的技术方案为：

1、基材A面Metal镀膜：将清洗干净的玻璃在镀膜机(磁控溅射)进行镀膜，按照线阻要求，镀相应的金属膜层和对应的膜层厚度；

2、将A面Metal膜层镀好的玻璃进行清洗，在镀膜机内进行B面Metal镀膜；

3、将两面金属膜层镀好的玻璃在黄光车间进行清洗、涂布、前烘烤、曝光、显影、后烘烤完成A/B面Metal的线路图形；

4、将步骤3完成的玻璃在黄光车间重新进行清洗、涂布、前烘烤、曝光、显影、后烘烤完成B/A面Metal的线路图形；

5、将步骤4完成的玻璃在黄光车间使用金属蚀刻液进行蚀刻，金属蚀刻机需要同时使用浸泡和喷淋模式；完成后将玻璃表面的光阻使用有机脱膜液进行脱膜；

6、将步骤5完成的玻璃清洗干净后，在镀膜机(磁控溅射)里面进行A面ITO镀膜；

7、将步骤6完成的玻璃在镀膜机里面进行B面ITO镀膜；

8、将步骤7完成的玻璃在黄光车间进行清洗、涂布、前烘烤、曝光、显影、后烘烤完成A/B面ITO的线路图形；

9、将步骤8完成的玻璃在黄光车间重新进行清洗、涂布、前烘烤、曝光、显影、后烘烤完成B/A面ITO的线路图形；

10、将步骤9完成的玻璃在黄光车间使用ITO蚀刻液进行蚀刻，ITO蚀刻机需要同时使用浸泡和喷淋模式；蚀刻时间的选择取决于阻值比较低的ITO那面的蚀刻时间；蚀刻完成后将玻璃表面的光阻使用脱膜液进行脱膜。

本发明所述的双面线路触摸屏结构及制备方法，基于独特巧妙的构思，提出全新的技术方案。本申请是在相当成熟的工艺及产品上提出改进，改进空间相当有限，做出新的改进需要付出相当的劳动。而本申请的改进，能够产生相当的技术效果。在大规模投产的工艺中，能够为企业带来许意想不到的经济效益和技术效益。针对现有技术，本发明调整构思，有效将制备步骤从15个减少到8个，并且确保制备的产品的质量不会受到影响，而制备效率得到明显的提升。本发明所述的双面线路触摸屏结构及制备方法，相比现有技术能够减少之别步骤，降低产品生产成本，从而有效降低制备成本，提高制备效率。

上面结合附图对本发明进行了示例性的描述，显然本发明具体的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其他场合的，均在本发明的保护范围内。