阅读说明：本技术 一种lcd液晶显示屏蚀刻标识、辅助观察设备及方法 (Etching identification and auxiliary observation equipment and method for LCD (liquid crystal display) ) 是由 马小飞 程秀文 丁军 于 2021-09-09 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种LCD液晶显示屏蚀刻标识、辅助观察设备及方法,涉及LCD蚀刻技术领域。本发明中：边围空置区域的上侧表配置涂色边框槽,涂色边框槽内围形成标识蚀刻区域,涂色边框槽的内围侧均匀设有若干位于标识蚀刻区域边界位置处的定位色斑。若干定位色斑的内围区域设有若干层蚀刻标识圈,蚀刻标识圈的径向宽度尺寸由内向外依次增大,相邻的蚀刻标识圈之间形成有空白环域,空白环域的径向宽度尺寸大于蚀刻标识圈的最大径向宽度尺寸。本发明通过高效完成平行标刻线与蚀刻标识圈的位置匹配,观察各组层平行标刻线内的蚀刻标识圈是否存在,精准、快速的判断LCD玻璃基板对应的实时蚀刻宽度,有利于及时的停止蚀刻,提高了蚀刻精度和效果。(The invention discloses an LCD (liquid crystal display) etching identifier, auxiliary observation equipment and method, and relates to the technical field of LCD etching. In the invention: the upper side surface of the margin vacant area is provided with a color-coated frame groove, the inner margin of the color-coated frame groove forms an identification etching area, and the inner margin side of the color-coated frame groove is uniformly provided with a plurality of positioning color spots positioned at the boundary position of the identification etching area. The inner peripheral areas of the positioning color spots are provided with a plurality of layers of etching identification rings, the radial width sizes of the etching identification rings are sequentially increased from inside to outside, a blank annular area is formed between every two adjacent etching identification rings, and the radial width size of the blank annular area is larger than the maximum radial width size of the etching identification rings. According to the invention, the position matching of the parallel marking lines and the etching identification rings is efficiently completed, whether the etching identification rings exist in each group of layers of parallel marking lines is observed, the real-time etching width corresponding to the LCD glass substrate is accurately and quickly judged, the etching is stopped in time, and the etching precision and effect are improved.)

一种LCD液晶显示屏蚀刻标识、辅助观察设备及方法

技术领域

本发明涉及LCD蚀刻技术领域，尤其涉及一种LCD液晶显示屏蚀刻标识、辅助观察设备及方法。

背景技术

LCD液晶显示屏的生产流程分为前段、中段、后段。工序包括：曝光、蚀刻、脱膜、清洗、摩擦等步骤。其中蚀刻指将曝光后的LCD玻璃浸泡于蚀刻液内，对其表面的图案和内部线路进行蚀刻。蚀刻时间越久，对LCD玻璃线路的腐蚀性越强，蚀刻时间越短，对其走线腐蚀性越弱。此操作过程中，蚀刻不足可能导致比较细的线路未被蚀刻，出现线路短路或者电阻不稳定；而蚀刻过度可能导致原本不应被蚀刻部分被蚀刻，出现短路，图案变形等情况。

针对上述问题，LCD玻璃在蚀刻不足或蚀刻过度都可能导致对液晶玻璃的损害，影响其良率；由于LCD做PCB板行业蚀刻工艺生产中，线路宽度管控需购买昂贵的设备才能检测，增加生产成本。在低成本的条件下，高效、高精准的观察、控制LCD液晶玻璃蚀刻线路的实时进度，成为提高LCD液晶玻璃蚀刻品质的重要基础。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种LCD液晶显示屏蚀刻标识、辅助观察设备及方法，通过高效完成平行标刻线与蚀刻标识圈的位置匹配，观察各组层平行标刻线内的蚀刻标识圈是否存在，精准、快速的判断LCD玻璃基板对应的实时蚀刻宽度，有利于及时的停止蚀刻，提高了蚀刻精度和效果。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明涉及一种LCD液晶显示屏蚀刻标识，包括玻璃基板，玻璃基板的边缘侧设有一定距离宽度的边围空置区域，边围空置区域的上侧表配置涂色边框槽，涂色边框槽内围形成标识蚀刻区域，涂色边框槽的内围侧均匀配置有若干位于标识蚀刻区域边界位置处的定位色斑。若干定位色斑的内围区域设有若干层蚀刻标识圈，蚀刻标识圈的径向宽度尺寸由内向外依次增大，相邻的蚀刻标识圈之间形成有空白环域，空白环域的径向宽度尺寸大于蚀刻标识圈的最大径向宽度尺寸。

作为本发明中LCD液晶显示屏蚀刻标识的一种优选技术方案：涂色边框槽相对于玻璃基板的边围空置区域表层的高度为-0.2～-0.5mm，定位色斑、蚀刻标识圈位于同一贴片上，该贴片贴合在标识蚀刻区域。

作为本发明中LCD液晶显示屏蚀刻标识的一种优选技术方案：定位色斑相对于贴片表层的高度为-0.1～-0.3mm，贴片采用PTFE材质。

作为本发明中LCD液晶显示屏蚀刻标识的一种优选技术方案：定位色斑为半圆状，若干定位色斑的数目为4个，4个定位色斑相隔90°分布在蚀刻标识圈的外围。

本发明涉及一种LCD液晶显示屏蚀刻标识的辅助观察设备，包括以下内容：

辅助观察设备包括显微放大器，显微放大器包括放大区域，显微放大器的放大区域环形阵列配置有若干与定位色斑位置相配合的辅助定位线框，辅助定位线框的内侧边线中部位置设有一段定位内凹口，辅助定位线框的定位内凹口的开口宽度尺寸与半圆状的定位色斑的直径尺寸等比放大配合。显微放大器的放大区域设有若干组与蚀刻标识圈相配合的平行标刻线，每组的两个平行标刻线关于蚀刻标识圈的同一直径线对称且相互平行。若干组平行标刻线都相互平行，同组的两个平行标刻线之间的距离与标识蚀刻区域内一蚀刻标识圈的外侧直径尺寸等比放大配合。

辅助观察设备包括用于驱动调节显微放大器位置的调节架，调节架的一端连接有多向调节装置。

作为本发明中辅助观察设备的一种优选技术方案：若干个辅助定位线框的定位内凹口的位置与若干定位色斑在标识蚀刻区域的位置相对应。

作为本发明中辅助观察设备的一种优选技术方案：设定位内凹口的开口宽度尺寸为La，定位色斑的直径尺寸为Da，存在La：Da＝M，M为放大倍数；设标识蚀刻区域内的任一个蚀刻标识圈的外直径尺寸为Db，与该蚀刻标识圈相对应的一组平行标刻线之间的距离为Lb，存在Lb：Db＝M，M为放大倍数；存在La：Lb＝Da：Db。

本发明涉及一种LCD液晶显示屏蚀刻标识的辅助观察设备观察方法，包括以下内容：

㈠操控多向调节装置，将显微放大器的放大区域放置在标识蚀刻区域上方，调节显微放大器焦距，使其放大区域的显像清晰。

㈡调节显微放大器的水平位置，将四个辅助定位线框的定位内凹口对准标识蚀刻区域的定位色斑。

㈢观察放大区域中最内层的一组平行标刻线范围内：条件一，仅存在完整的一组蚀刻标识圈，且该组平行标刻线与该组蚀刻标识圈的外圈层相切，则平行标刻线处于参考基准位置；若不满足条件一，则重新调节步骤㈠、㈡。

㈣开始对LCD玻璃进行蚀刻，观察各层平行标刻线范围内的完整蚀刻标识圈的蚀刻情况，当第N组层的平行标刻线范围内的蚀刻标识圈被蚀刻消失，则说明LCD玻璃的线路蚀刻程度达到与该组层平行标刻线代表的蚀刻宽度尺寸。

与现有的技术相比，本发明的有益效果是：

1、本发明通过以不同环径宽度的若干层蚀刻标识圈组合成多线程的蚀刻标识圈，可放置于整版液晶玻璃四周，减少在蚀刻时相关设备的消耗，可以更方便的使用目检确认液晶玻璃的蚀刻程度；

2、本发明中在多圈层便于相邻间蚀刻标识圈的区分，蚀刻标识圈的半径尺寸较大，容易区分观察；

3、本发明在标识蚀刻区域配置多个定位色斑，通过辅助定位线框的定位配合，高效完成平行标刻线与蚀刻标识圈的位置匹配，通过观察各组层平行标刻线内的蚀刻标识圈是否存在，精准、快速的判断LCD玻璃基板对应的实时蚀刻宽度，有利于及时的停止蚀刻，提高了蚀刻精度和效果。

附图说明

图1为本发明的整版液晶玻璃在四周空白区域增加蚀刻标识的结构示意图；

图2为图1中A处局部放大的结构示意图；

图3为本发明中用于观察检测蚀刻标识的观察设备(俯视)结构示意图；

图4为本发明中观察设备放大观察蚀刻标识的配合示意图；

其中：1-玻璃基板；2-边围空置区域；3-涂色边框槽；4-标识蚀刻区域；5-定位色斑；6-蚀刻标识圈；7-空白环域；8-显微放大器；9-放大区域；10-辅助定位线框；11-定位内凹口；12-平行标刻线；13-调节架；14-多向调节装置。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例一

请参阅图1、图2所示，整版玻璃基板1的边缘位置存在边围空置区域2，在边围空置区域2位置可以设置用于配合观察实时蚀刻进度的蚀刻标识。其中，可以将蚀刻标识圈6、定位色斑5为整体并以贴片形式贴合在涂色边框槽3包围的标识蚀刻区域4位置处。涂色边框槽3，可以是涂覆红色等醒目颜色，便于后续观察时快速寻找标识蚀刻区域4。

在将贴片向标识蚀刻区域4贴合前，先向涂色边框槽3内滴入适量的涂色剂，形成醒目区。而涂色边框槽3也是需要设置在玻璃基板1的边围空置区域2的特定位置，需要与后续观察设备的调节机构位置相配合，这样能够保证后续观察设备较快的完成定位，无需进行大幅度调节。

如图2中，多圈层的蚀刻标识圈6中，由内向外，其径向环形宽度尺寸依次为0.03mm、0.04mm、0.05mm、0.06mm......，其中，空白环域7的径向环形宽度尺寸不低于0.1mm，这样在后续放大观察时，不用放大很多倍，就能够明显的将环形的蚀刻标识圈6快速区分开[放大后的蚀刻标识圈6通过人眼看来可能还只是成线条状]。

实施例二

请参阅图2、图3、图4所示，基于实施例一，显微放大器8可以采用低放大倍数的物镜+目镜组合结构，例如物镜采用4倍、目镜采用5倍，整个显微放大器8的倍数在20倍，装置成本和技术成本都比较低，也能达到预期的观察效果。

其中，放大区域在目镜上，目镜表面设置黑色线条状的辅助定位线框10和平行标刻线12，通过多向调节装置14，将标识蚀刻区域4范围内的定位色斑5与辅助定位线框10的定位内凹口11对应，再观察最内层的一组平行标刻线12内是否只有一个完整的蚀刻标识圈6、最外层的一组平行标刻线12外是否没有蚀刻标识圈6，从而完成各组平行标刻线12与各个蚀刻标识圈6一一对应。

完成蚀刻标识圈6与平行标刻线12的对应定位后，开设注入蚀刻液，对LCD液晶玻璃进行蚀刻，蚀刻液对LCD上的蚀刻线路进行蚀刻的同时，蚀刻标识圈6也逐渐开始蚀刻，通过实时观察显微放大器8中放大的图像，通过观察由内向外第几层范围内的蚀刻标识圈6已经被完全蚀刻，即可判断当前LCD蚀刻的线宽所达到的进度，当即将达到LCD线路蚀刻宽度标准时，快速的取出LCD玻璃基板或排出蚀刻液，高效高精准的完成LCD液晶玻璃线路的蚀刻。

实施例三

在本发明中，显微放大器8的放大区域9内，若干平行标刻线12由内向外两两对称成组，例如图3、图4中所示，最内层的两个平行标刻线12形成第一组平行标刻线12，外部的两个平行标刻线12形成第二组平行标刻线12，以此类推，形成了多组平行标刻线12，与经过放大定位后的蚀刻标识圈6形成位置对应关系。其中，每组的两个平行标刻线12之间的距离与放大后蚀刻标识圈6的外径尺寸相配合[可以略大，但不能达到下一个蚀刻标识圈6的内径尺寸]。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。