一种光刻胶树脂单体及其合成方法和应用

文档序号:29294 发布日期:2021-09-24 浏览:42次 >En<

阅读说明:本技术 一种光刻胶树脂单体及其合成方法和应用 (Photoresist resin monomer and synthetic method and application thereof ) 是由 傅志伟 潘新刚 薛富奎 刘司飞 纪兴跃 李静 于 2021-06-22 设计创作,主要内容包括:本发明属于光刻胶树脂单体,公开了一种光刻胶树脂单体及其合成方法和应用,涉及光刻胶领域,所述树脂单体的结构为式Ⅰ:该结构中,n为1~10的整数,R1为氢、甲基或者氟代烷烃,R2为氢或者一价有机基团,且R2为一价有机基时,R2通过与相邻的O原子形成酯基或者碳酸酯基与多元环相连,且该结构的多元环上的氢原子可以被1~10个碳原子数的烷基取代。本发明提供了一种新的光刻胶树脂单体,有利于改善光刻图形的线宽粗糙度、焦点深度(DOF)和断面的矩形性,并且可以在一定程度上抑制光刻过程后烘导致的模收缩,提高光刻图形的分辨率。(The invention belongs to a photoresist resin monomer, discloses a photoresist resin monomer and a synthetic method and application thereof, and relates to the field of photoresist, wherein the structure of the resin monomer is as shown in formula I:)

一种光刻胶树脂单体及其合成方法和应用

技术领域

本发明涉及光刻胶领域,公开了一种光刻胶树脂单体及其制备方 法和应用。

背景技术

光刻技术是指利用光刻材料(特指光刻胶)在可见光、紫外线、 电子束等作用下的化学敏感性,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程, 将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。

光刻材料(特指光刻胶),又称光致抗蚀剂,是光刻技术中涉及 的最关键的功能性化学材料,主要成分是树脂、光致酸产生剂、以及 相应的添加剂和溶剂,这类材料具有光(包括可见光、紫外线、电子 束等)化学敏感性,经光化学反应,本身在显影液中的溶解性发生变 化。根据光化学反应机理不同,光刻胶分为正性光刻胶与负性光刻胶: 曝光后,光刻胶在显影液中溶解性增加,得到与掩膜版相同图形的称 为正性光刻胶;曝光后,光刻胶在显影液中溶解性降低甚至不溶,得 到与掩膜版相反图形的称为负性光刻胶。

随着光刻技术的发展,光刻图案的尺寸要求越来越小,对光刻图 案的分辨率和边缘粗糙度也提出了更高的要求,开发新的光刻抗蚀剂 是很有必要的。

发明内容

本发明的目的是提供一种光刻胶树脂单体,提供其制备方法是本 发明的另一个目的。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种光刻胶树脂单体,该树脂单体的结构为式Ⅰ:

该结构中,n为1~10的整数,R1为氢、甲基或者氟代烷烃,R2为氢或者一价有机基团,且R2为一价有机基时,R2通过与相邻的O原 子形成酯基或者碳酸酯基与多元环相连,且该结构的多元环上的氢原 子可以被1~10个碳原子数的烷基取代。

较为优选的式Ⅰ选自以下结构式Ⅱ、式Ⅲ和式Ⅳ之一:

其中,n为1 或2,R3为烷基,R1为氢、甲基或者三氟甲基。

进一步地,该树脂单体的具体选自以下结构但不限于以下结构:

上述结构中,R1为氢、甲基或者三氟甲基。

树脂单体的具体选自以下结构:

此外,提供一种上述式Ⅱ树脂单体的合成方法:

其中,n为1或2,R1为氢、甲基或者三氟甲基;

步骤a.惰性气体保护下,将二氯化钛和锌加入到二氯甲烷中,再 加入三甲基乙腈,冷却到0~5摄氏度,然后加入环酮Ⅱ-1的二氯甲 烷溶液,在20~30摄氏度下反应,后处理纯化后得到中间体Ⅱ-2;

步骤b.在碱性条件下,中间体Ⅱ-2与丙烯酰氯或者取代丙烯酰氯 在二氯甲烷中发生酯化反应,经后处理纯化得到式Ⅱ树脂单体;

进一步地,式Ⅲ树脂单体的合成方法为:

其中,n为1或2,R3为烷基,R1为氢、甲基或者三氟甲基;

步骤c.在碱性条件下,式Ⅱ树脂单体与烷基酰氯在二氯甲烷中 发生酯化反应,经后处理纯化得到式Ⅲ树脂单体。

进一步地,式Ⅳ树脂单体的合成方法为:

其中,n为1或2,R3为烷基, R1为氢、甲基或者三氟甲基;

步骤d.在碱性条件下,式Ⅱ树脂单体与酸酐化合物在溶剂Ⅱ中 发生反应,经后处理纯化得到树脂单体Ⅳ。

进一步地,步骤b中所述取代丙烯酰氯为甲基丙烯酰氯或三氟甲 基丙烯酰氯。

上述光刻胶树脂单体用于制备光刻胶。

与现有技术相比,本发明实现的有益效果:该树脂单体可以与其 它树脂单体进行聚合形成光刻胶树脂,有利于改善光刻图形的线宽粗 糙度、焦点深度(DOF)和断面的矩形性,并且可以在一定程度上抑 制光刻过程后烘导致的模收缩,提高光刻图形的分辨率。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清 楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例, 而不是全部的实施例。

实施例1

氮气保护下,将二氯化钛(7.1g,59.8mmol)和锌(4g,61.2mmol) 加入到二氯甲烷(50mL)中,再加入三甲基乙腈(19.8g,238mmol), 冷却到0摄氏度,向反应液中加入环戊酮(5g,59.4mmol)的二氯甲 烷溶液(5mL),在氮气保护下,25摄氏度下继续反应16小时,反 应液加入饱和氯化铵(20mL)淬灭,用二氯甲烷(20mL×3)萃取, 合并有机相,有机相依次用饱和碳酸氢钠(20mL)、饱和食盐水(20mL) 洗涤,再用无水硫酸钠干燥后,在真空下浓缩得到粗品,粗品用柱层 析纯化得到中间体1-2(8.4g,49.3mmol,83.0%).

将中间体1-2(2g,11.7mmol)加入到二氯甲烷(15mL)中,加 入三乙胺(3.6g,35.6mmol),冷却到0摄氏度,慢慢滴加丙烯酰氯 (1.1g,12.2mmol),升温到25摄氏度继续搅拌2小时,反应液冰 水冷却到0~5摄氏度,加入碳酸氢钠水溶液(10mL),用二氯甲烷 (10mL×3)进行萃取,合并有机相,有机相用饱和氯化钠(15mL)洗涤, 无水硫酸钠干燥后真空浓缩,经柱层析纯化后得到树脂单体M1(2.5g,11.1mmol,94.9%)。

实施例2

将树脂单体M1(2g,8.9mmol)溶解在二氯甲烷(15mL),加入 三乙胺(1.5g,13.6mmol),冷却到0摄氏度,滴加乙酰氯(0.7g, 8.9mmol)的二氯甲烷(3mL)溶液,升到25摄氏度搅拌2小时,加 入饱和碳酸氢钠溶液(10mL),用二氯甲烷(10mL×3)萃取,有机 相合并后用饱和氯化钠洗涤,无水硫酸钠干燥,真空浓缩得到粗品, 粗品经柱层析纯化得到树脂单体M2(2.2g,8.3mmol,92.6%)。

实施例3

将树脂单体M1(2g,8.9mmol)溶解在二氯甲烷(15mL)中,加入 4-二甲氨基吡啶(20mg,0.2mmol)和三乙胺(1.5g,13.6mmol), 冷却到0摄氏度,慢慢滴加草酰氯单乙酯(1.3g,9.5mmol),滴加 结束后,升到25摄氏度继续搅拌2小时,加入饱和碳酸氢钠溶液(10mL),用二氯甲烷(15mL×3)萃取,有机相合并后用饱和氯化 钠洗涤,无水硫酸钠干燥,真空浓缩得到粗品,粗品经柱层析纯化得 到树脂单体M3(2.6g,8.0mmol,89.9%)。

实施例4

将树脂单体M1(2g,8.9mmol)溶解在乙腈(15mL)中,加入4- 二甲氨基吡啶(20mg,0.2mmol),冷却到0摄氏度,慢慢滴加二碳酸 二叔丁酯(2.3g,10.5mmol),升到25摄氏度搅拌三小时,反应液 冷却到0~5摄氏度,加入饱和碳酸氢钠水溶液,用乙酸乙酯(10mL ×3)萃取,有机相合并后用饱和氯化钠(20mL)洗涤;无水硫酸钠 干燥后,真空下浓缩得到粗品,粗品经柱层析纯化后得到树脂单体 M4(2.6g,8.0mmol,89.9%)。

实施例5

合成方法和实施例1相同,得到树脂单体M5(9.5g,37.7mmol, 92.2%)。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范 围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技 术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改 变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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