具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明。

实施例

如图1所示的一种远红外负离子日用陶瓷的原料研磨设备，包括底座1，底座1上设有对陶瓷原料进行研磨的壳体2，壳体2的内部设有两个对称设置的固定研磨盘一6、固定研磨盘二7，且壳体2的内部通过两个固定研磨盘分隔成研磨腔8和位于研磨腔8左右两侧的储料腔一9、储料腔二10，研磨腔8、储料腔一9、储料腔二10的内部分别设有移动研磨盘19、转动研磨盘一17、转动研磨盘二18，且壳体2的内部设有一个可驱动移动研磨盘19、转动研磨盘一17、转动研磨盘二18进行转动还可同时驱动移动研磨盘19在研磨腔8内部进行左右移动并对陶瓷原料进行挤压式研磨的驱动机构，转动研磨盘一17、转动研磨盘二18分别与固定研磨盘一6、固定研磨盘二7配合并可对从研磨腔8中排出的碎屑进行再一次的研磨；

如图1所示，固定研磨盘一6、固定研磨盘二7的左右两侧分别呈向内凹陷且相互连通的锥形结构，转动研磨盘一17、转动研磨盘二18分别与固定研磨盘一6的左侧、固定研磨盘二7的右侧对接并且对接面形状相同，且移动研磨盘19的左右两端分别与固定研磨盘一6的右侧、固定研磨盘二7的左侧对接且对接面形状相同，移动研磨盘19在驱动机构的作用下可间歇式的与固定研磨盘一6右侧、固定研磨盘二7的左侧对接并对陶瓷原料进行研磨；

如图1所示，壳体2的顶端设有两个均与研磨腔8连通的进料口一22、进料口二23，且壳体2的的顶端中部设有与进料口一22、进料口二23连通的储料槽21，移动研磨盘19在驱动机构的作用下可间歇式的与进料口一22、进料口二23接触，移动研磨盘19在驱动机构的作用下间歇式的与进料口一22、进料口二23接触的设置，使移动研磨盘19一侧在对陶瓷原料进行挤压式研磨的同时，陶瓷原料会通过其中一个进料口并进入移动研磨盘19另一侧，即该装置在一边对陶瓷原料进行研磨的同时还能对陶瓷原料进行进料，以此提高该装置对陶瓷原料的研磨效率；

如图1所示，壳体2的底端设有两个分别与储料腔一9、储料腔二10内底部连通的出料口33，两个出料口33的设置，使该装置能够对不同区域上已经研磨好的物料进行排放，以提高该装置的出料效率；

如图4、5、6所示，驱动机构包括左端贯穿壳体2左侧壁且右端位于固定研磨盘一6内侧的转轴一12、右端贯穿壳体2右侧壁且左端位于固定研磨盘二7内侧的转轴二13、通过限位机构滑动设于转轴一12和转轴二13内部且右端始终位于转轴二13右端外侧的连接轴11，连接轴11靠近其右端的外围周圈上设有螺纹区域14，且壳体2的右端侧壁上安装有呈L型的支撑板25，并且支撑板25的竖直部位开设有供连接轴11右端穿过且与螺纹区域14相适配的栓孔26，转轴一12的左端连接有安装在壳体2侧壁上的电机24，转轴一12、转轴二13、连接轴11在电机24驱动下同时进行转动，且连接轴11在转动时在螺纹区域14与栓孔26的配合下还能左右移动，由于连接轴11是通过滑块15与滑槽16的配合与转轴一12、转轴二13滑动连接，而转轴一12、转轴二13分别与壳体2的左右两侧转动连接，该种设置使电机24在转动时，能够转轴一12、转轴二13以及连接轴11一起进行转动，与此同时在连接轴11右端上螺纹区域14与支撑板25上栓孔26的螺纹连接，使连接轴11在转动的同时还能进行左右的移动，以此为连接轴11上移动研磨盘19能够左右移动提供动力，综上可得，电机24在转动时，不仅会带动转轴一12、转轴二13转动并使固定套接在转轴一12、转轴二13上的转动研磨盘一17、转动研磨盘二18进行转动并对陶瓷原料进行研磨，同时还能使固定套接在连接轴11上的移动研磨盘19能够以旋转挤压的形式对陶瓷原料进行研磨，该种通过对陶瓷原料进行两次研磨的设置，大大提高了该装置对陶瓷原料的研磨效果；

如图4、5所示，限位机构包括开设于转轴一12、转轴二13的内部且供连接轴11两端水平滑动的滑腔27，连接轴11上设有两组对其与转轴一12、转轴二13之间进行滑动连接的滑块15，且每个滑腔27的内部均开设有供滑块15滑动的滑槽16，通过滑块15与滑槽16的滑动配合，使转轴一12在转动时能够带动转轴二13、连接轴11一起进行转动，以此为设置在该装置左右两侧的研磨机构提供动能；

如图1、2、3所示，壳体2的底端通过转动结构与底座1连接，且转轴一12、转轴二13上设有对壳体2左右两端进行扯拽并使壳体2发生倾斜的拉动机构；

如图1、2、3所示，转动结构包括分别安装于底座1顶端、壳体2底端的连接块一3和连接块二4，连接块二4通过铰接轴5与连接块一3转动连接；

如图4、5、7所示，拉动机构包括固定套接于转轴一12左端外围周圈上的收卷辊一28、一端缠绕于收卷辊一28上且另一端绕过底座1并与壳体2底端左侧固定连接的扯拽绳一29、固定套设于转轴二13右端外围侧壁上的收卷辊二30、一端缠绕于收卷辊二30上且另一端绕过底座1并与壳体2底端右侧固定连接的扯拽绳二31，底座1顶端的左右两侧均转动安装有对相应扯拽绳进行导向的限位辊32，当转轴一12在正向转动时，移动研磨盘19向左侧移动并对研磨腔8内的物料进行旋转挤压式的研磨，此时固定套接在转轴一12上的收卷辊一28处于收卷的状态，而位于转轴二13上的收卷辊二30处于放卷的状态，即通过收卷辊一28与收卷辊二30上扯拽绳收放卷的配合，使壳体2的左端能够向左下方倾斜，以此可为研磨腔8内左侧物料向储料腔一9内的移动提供一定的动能，并可减少研磨后物料在研磨腔8内的残留，相反地，当转轴一12反向转动时，壳体2的右端在两个收卷辊的配合下向右下方进行倾斜，以此为研磨腔8内右侧物料向储料腔二10内的移动提供一定的动能，并可减少研磨后物料在研磨腔8内的残留；

转轴一12上的收卷辊一28以及转轴二13上的收卷辊二30至少设有一个；

上述一种远红外负离子日用陶瓷的原料研磨工艺，包括以下步骤：

S1、左侧上料：将陶瓷原料投入储料槽21内，并通过进料口一22将陶瓷原料输送至研磨腔8内；

S2、左侧预研磨：通过电机24的正向转动使移动研磨盘19转动并在螺纹区域14与栓孔26的配合向靠近固定研磨盘一6的一侧进行移动与转动，从而对研磨腔8内的物料进行挤压式的研磨。

S3、左侧二次研磨：在S2中电机24正向转动时，还能带动转动研磨盘一17进行转动，且在转动研磨盘一17与固定研磨盘一6左端面的配合下对从研磨腔8中排出的物料进行再一次的研磨；

S4、左侧出料：经二次研磨的碎屑进入储料腔一9并从储料腔一9低端处的出料口33进行排料，排料时通过收卷辊一28与收卷辊二30收放卷的配合，使壳体2的左端向左下方进行倾斜，以此可为研磨腔8内左侧物料向储料腔一9内的移动提供一定的动能，并可减少研磨后物料在研磨腔8内的残留；

S5、右侧上料：将陶瓷原料投入储料槽21内，并通过进料口二23将陶瓷原料输送至研磨腔8内，该过程在S2中移动研磨盘19向左移动并转动的过程中完成；

S6、右侧预研磨：通过电机24的反向转动使移动研磨盘19转动并在螺纹区域14与栓孔26的配合向靠近固定研磨盘二7的一侧进行移动与转动，从而对研磨腔8内的物料进行挤压式的研磨；相同地，在该过程中将完成研磨腔8左侧的进料；

S7、右侧二次研磨：在S6中电机24反向转动时，还能带动转动研磨盘二18进行转动，在转动研磨盘二18与固定研磨盘二7左端面的配合下对从研磨腔8中排出的物料进行再一次的研磨；

S8、左侧出料：经二次研磨的碎屑进入储料腔二10并从储料腔二10低端处的出料口33进行排料，排料时，壳体2的右端在两个收卷辊的配合下向右下方进行倾斜，以此为研磨腔8内右侧物料向储料腔二10内的移动提供一定的动能，并可减少研磨后物料在研磨腔8内的残留；

S9、重复上述步骤，实现对陶瓷原料连续的研磨加工。

本技术领域中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本发明，而并非用作为对本发明的限定，只要在本发明的实质精神范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本发明的权利要求范围内。