一种基于plc可编程控制器的烘干设备

文档序号:519465 发布日期:2021-06-01 浏览:4次 >En<

阅读说明:本技术 一种基于plc可编程控制器的烘干设备 (Drying equipment based on PLC (programmable logic controller) ) 是由 刘月霞 于 2021-02-06 设计创作,主要内容包括:本发明公开了一种基于PLC可编程控制器的烘干设备,其结构包括底座、机体、前置门、控制器,机体安装在底座顶部,前置门与机体正面铰链连接,控制器设置在底座正面,机体设有烘干腔、气流管、置物板、收集机构,烘干腔位于机体内部,气流管垂直固定在烘干腔内顶部,由于上层陶瓷碗外壁的水珠沿着置物板的网孔滴落到下层的陶瓷碗外壁,通过收集机构中的收集管对陶瓷碗滴落的水珠收集,能够减少下层的陶瓷碗外壁的水珠,有利于上下层的陶瓷碗烘干均匀,由于陶瓷碗外壁的水珠较多时,水珠滴落的速度缓慢,通过支撑管的承托板上下移动产生动力,使得陶瓷碗震动,加快陶瓷碗外壁的水珠抖动滴落,加快对陶瓷碗的烘干速度。(The invention discloses a drying device based on a PLC (programmable logic controller), which structurally comprises a base, a machine body, a front door and a controller, wherein the machine body is arranged at the top of the base, the front door is hinged with the front surface of the machine body, the controller is arranged at the front surface of the base, the machine body is provided with a drying cavity, an airflow pipe, a storage plate and a collecting mechanism, the drying cavity is positioned in the machine body, the airflow pipe is vertically fixed at the top in the drying cavity, water drops on the outer wall of an upper ceramic bowl drop to the outer wall of a lower ceramic bowl along meshes of the storage plate, the water drops dropping from the ceramic bowl are collected by a collecting pipe in the collecting mechanism, water drops on the outer wall of the lower ceramic bowl can be reduced, the ceramic bowl drying on the upper layer and the lower layer is facilitated, when the water drops on the outer wall of the ceramic bowl are more, the dropping speed of the water drops is slow, power is generated, the shaking and dripping of water drops on the outer wall of the ceramic bowl are accelerated, and the drying speed of the ceramic bowl is accelerated.)

一种基于PLC可编程控制器的烘干设备

技术领域

本发明属于含有PLC可编程控制器的加工设备领域,更具体的说,尤其涉及到一种基于PLC可编程控制器的烘干设备。

背景技术

采用烘干机对陶瓷碗烘干杀菌处理,将清洗后的陶瓷碗放置在烘干腔中的置物板上,热气流通过气流管在烘干腔中扩散,使得陶瓷碗外壁的水份子受热蒸发,为了增加对陶瓷碗烘干的数量,置物板设有两层,同时通过PLC控制器对烘干机控制;现有技术中采用烘干机对陶瓷碗烘干杀菌处理时,为了减少水珠堆积在置物板表面上,置物板为网板状,当陶瓷碗外壁的水珠滴落时,上层陶瓷碗外壁的水珠沿着置物板的网孔滴落到下层的陶瓷碗外壁,导致下层的陶瓷碗外壁的水珠增多,造成上下层的陶瓷碗烘干不均匀。

发明内容

为了解决上述技术采用烘干机对陶瓷碗烘干杀菌处理时,为了减少水珠堆积在置物板表面上,置物板为网板状,当陶瓷碗外壁的水珠滴落时,上层陶瓷碗外壁的水珠沿着置物板的网孔滴落到下层的陶瓷碗外壁,导致下层的陶瓷碗外壁的水珠增多,造成上下层的陶瓷碗烘干不均匀,本发明提供一种基于PLC可编程控制器的烘干设备。

为了实现上述目的,本发明是通过如下的技术方案来实现:一种基于PLC可编程控制器的烘干设备,其结构包括底座、机体、前置门、控制器,所述机体安装在底座顶部,所述前置门与机体正面铰链连接,所述控制器设置在底座正面。

所述机体设有烘干腔、气流管、置物板、收集机构,所述烘干腔位于机体内部,所述气流管垂直固定在烘干腔内顶部,所述置物板水平安装在烘干腔内壁,所述收集机构放置在置物板上表面。

作为本发明的进一步改进,所述收集机构设有支撑座、支撑管、引流槽,所述支撑座位于收集机构下方,所述支撑管垂直固定在支撑座顶部中心位置,所述引流槽凹陷在支撑座顶部,所述引流槽为凹陷的圆环状,且位于支撑管外侧。

作为本发明的进一步改进,所述支撑座设有收集管、堆积腔、进液口、推杆、移动板、气流口,所述收集管位于支撑座中部,所述堆积腔设在收集管内部,所述进液口贯穿收集管外壁与堆积腔相连通,所述推杆固定在堆积腔内中部,所述移动板与推杆外端活动配合,所述气流口穿过支撑座外壁,所述进液口与引流槽相连通,所述推杆为弹簧材质,所述收集管为金属材质。

作为本发明的进一步改进,所述气流口设有卡板、衔接轴、复位条、磁块,所述卡板外端通过衔接轴衔接安装在气流口靠外端内壁,所述复位条夹在卡板底面和气流口内壁之间,所述磁块套在卡板内端内部,所述卡板两端的磁块磁性相反。

作为本发明的进一步改进,所述支撑管设有底置板、承托板、推条、磁铁块、气腔、推块、排气孔,所述底置板位于支撑管下方,所述承托板通过推条安装在底置板上方,所述磁铁块与承托板底面连为一体,所述气腔穿过在底置板上表面和内部之间,所述推块套在气腔内部,所述排气孔贯穿气腔顶端两侧内壁和底置板上表面之间,所述气腔顶端的直径较小,所述气腔设有两个。

作为本发明的进一步改进,所述推块设有磁板、卡槽、反弹块、反弹条、配合环,所述磁板嵌固在推块顶部中心位置,所述卡槽凹陷在推块底面,所述反弹块套在卡槽中,所述反弹条安装在反弹块上表面和卡槽内壁之间,所述配合环分别衔接安装在推块两侧表面,所述磁板与磁铁块的磁性相同,所述反弹块设有三个。

有益效果

与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:

1、由于上层陶瓷碗外壁的水珠沿着置物板的网孔滴落到下层的陶瓷碗外壁,通过收集机构中的收集管对陶瓷碗滴落的水珠收集,能够减少下层的陶瓷碗外壁的水珠,有利于上下层的陶瓷碗烘干均匀。

2、由于陶瓷碗外壁的水珠较多时,水珠滴落的速度缓慢,通过支撑管的承托板上下移动产生动力,使得陶瓷碗震动,加快陶瓷碗外壁的水珠抖动滴落,加快对陶瓷碗的烘干速度。

附图说明

图1为本发明一种基于PLC可编程控制器的烘干设备的结构示意图。

图2为本发明一种机体内部正视的结构示意图。

图3为本发明一种收集机构的结构示意图。

图4为本发明一种支撑座俯视剖面的结构示意图。

图5为本发明一种气流口内部俯视的结构示意图。

图6为本发明一种支撑管正面剖视的结构示意图。

图7为本发明一种推块正面剖视的结构示意图。

图中:底座-1、机体-2、前置门-3、控制器-4、烘干腔-21、气流管-22、置物板-23、收集机构-24、支撑座-a1、支撑管-a2、引流槽-a3、收集管-s1、堆积腔-s2、进液口-s3、推杆-s4、移动板-s5、气流口-s6、卡板-d1、衔接轴-d2、复位条-d3、磁块-d4、底置板-r1、承托板-r2、推条-r3、磁铁块-r4、气腔-r5、推块-r6、排气孔-r7、磁板-t1、卡槽-t2、反弹块-t3、反弹条-t4、配合环-t5。

具体实施方式

以下结合附图对本发明做进一步描述:

实施例1:

如附图1至附图5所示:

本发明提供一种基于PLC可编程控制器的烘干设备,其结构包括底座1、机体2、前置门3、控制器4,所述机体2安装在底座1顶部,所述前置门3与机体2正面铰链连接,所述控制器4设置在底座1正面。

所述机体2设有烘干腔21、气流管22、置物板23、收集机构24,所述烘干腔21位于机体2内部,所述气流管22垂直固定在烘干腔21内顶部,所述置物板23水平安装在烘干腔21内壁,所述收集机构24放置在置物板23上表面。

其中,所述收集机构24设有支撑座a1、支撑管a2、引流槽a3,所述支撑座a1位于收集机构24下方,所述支撑管a2垂直固定在支撑座a1顶部中心位置,所述引流槽a3凹陷在支撑座a1顶部,所述引流槽a3为凹陷的圆环状,且位于支撑管a2外侧,有利于支撑管a2顶部陶瓷碗外壁的水珠往下滴落沿着引流槽a3流动。

其中,所述支撑座a1设有收集管s1、堆积腔s2、进液口s3、推杆s4、移动板s5、气流口s6,所述收集管s1位于支撑座a1中部,所述堆积腔s2设在收集管s1内部,所述进液口s3贯穿收集管s1外壁与堆积腔s2相连通,所述推杆s4固定在堆积腔s2内中部,所述移动板s5与推杆s4外端活动配合,所述气流口s6穿过支撑座a1外壁,所述进液口s3与引流槽a3相连通,有利于堆积在引流槽a3中的水珠沿着进液口s3通入到堆积腔s2腔中收集,所述推杆s4为弹簧材质,具有伸缩性,有利于往进液口s3通入的水珠逐渐减少,而推杆s4将移动板s5推动贴合在堆积腔s2内壁,能够对水珠阻挡,减少水珠沿着进液口s3倒流,所述收集管s1为金属材质,具有良好的导热性,有利于收集管s1受到气流口s6进入的热气流作用而温度升高,加快堆积腔s2内部的水份蒸发。

其中,所述气流口s6设有卡板d1、衔接轴d2、复位条d3、磁块d4,所述卡板d1外端通过衔接轴d2衔接安装在气流口s6靠外端内壁,所述复位条d3夹在卡板d1底面和气流口s6内壁之间,所述磁块d4套在卡板d1内端内部,所述卡板d1两端的磁块d4磁性相反,有利于磁块d4产生相互吸引的作用力,使得卡板d1相互接触,而气流口s6呈闭合状,能够减少引流槽a3中的水珠沿着气流口s6倒流。

本实施例的具体使用方式与作用:

本发明中,打开烘干机的前置门3将陶瓷碗放入到机体2内部的置物板23上的收集机构24顶部,热气流通过气流管22通入到烘干腔21中对陶瓷碗烘干,陶瓷碗外壁的水珠往下滴落至支撑座a1的引流槽a3中,随着引流槽a3中的液体增多,收集管s1内部的移动板s5受到液体的推力将推杆s4推动收缩并移动,使得进液口s3呈畅通状,液体沿着进液口s3通入到堆积腔s2中堆积,堆积腔s2中的液体增多时,移动板s5受到液体和推杆s4的推力复位,移动板s5对进液口s3阻挡,减少堆积腔s2中的液体倒流,气流在烘干腔21中流动,支撑座a1的气流口s6中的卡板d1受到气流的推动力以衔接轴d2为支点往下摆动,并将复位条d3推动收缩,气流通过气流口s6进入到引流槽a3中,使得收集管s1受热堆积腔s2中的液体受热蒸发,气流的推力减小时,复位条d3将卡板d1推动复位,卡板d1之间的磁块d4通过磁力相吸对卡板d1限位,使得气流口s6呈闭合状,减少引流槽a3中的液体沿着气流口s6流动排放,通过收集机构24中的收集管s1对陶瓷碗滴落的水珠收集,能够减少上层陶瓷碗外壁的水珠沿着置物板23的网孔滴落到下层的陶瓷碗外壁,能够减少下层的陶瓷碗外壁的水珠,有利于上下层的陶瓷碗烘干均匀。

实施例2:

如附图6至附图7所示:

其中,所述支撑管a2设有底置板r1、承托板r2、推条r3、磁铁块r4、气腔r5、推块r6、排气孔r7,所述底置板r1位于支撑管a2下方,所述承托板r2通过推条r3安装在底置板r1上方,所述磁铁块r4与承托板r2底面连为一体,所述气腔r5穿过在底置板r1上表面和内部之间,所述推块r6套在气腔r5内部,所述排气孔r7贯穿气腔r5顶端两侧内壁和底置板r1上表面之间,所述气腔r5顶端的直径较小,有利于推块r6与气腔r5内壁活动卡合,能够对推块r6限位,所述气腔r5设有两个,能够增大气腔r5中的气流扩散的量,能够增大气流对承托板r2的推动力,能够加快承托板r2来回移动的速度,使得承托板r2产生震动力,有利于加快陶瓷碗外壁的水珠抖动滴落。

其中,所述推块r6设有磁板t1、卡槽t2、反弹块t3、反弹条t4、配合环t5,所述磁板t1嵌固在推块r6顶部中心位置,所述卡槽t2凹陷在推块r6底面,所述反弹块t3套在卡槽t2中,所述反弹条t4安装在反弹块t3上表面和卡槽t2内壁之间,所述配合环t5分别衔接安装在推块r6两侧表面,所述磁板t1与磁铁块r4的磁性相同,能够使得磁板t1与磁铁块r4产生相排斥的推动力,有利于加快承托板r2来回移动速度,所述反弹块t3设有三个,能够增大反弹块t3的反弹力,加快推块r6受到弹力复位。

本实施例的具体使用方式与作用:

本发明中,陶瓷碗放置在收集机构24的支撑管a2顶部时,支撑管a2顶部的承托板r2受到陶瓷碗的重力作用往下移动,并将推条r3推动收缩,承托板r2往下移动时,磁铁块r4与推块r6顶部的磁板t1产生相排斥的推力将推块r6往气腔r5中推动,气腔r5中的气流沿着排气孔r7扩散,使得承托板r2受到气流的推力上移,使得承托板r2上下移动产生动力,同时推块r6底部的反弹块t3和反弹条t4受到推块r6的推力产生弹力,加快推块r6的移动速度,进一步加快推块r6和承托板r2配合,加快承托板r2的移动速度,且推块r6移动时,通过配合环t5和气腔r5内壁配合,加快推块r6的移动速度,通过支撑管a2的承托板r2上下移动产生动力,使得陶瓷碗震动,加快陶瓷碗外壁的水珠抖动滴落,加快对陶瓷碗的烘干速度。

利用本发明所述技术方案,或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本发明的保护范围。

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