单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜

文档序号:57955 发布日期:2021-10-01 浏览:23次 >En<

阅读说明:本技术 单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜 (Monoclonal antibody photoelectric protective film preparation method and monoclonal antibody photoelectric protective film ) 是由 刘冬 严卫国 于 2021-07-08 设计创作,主要内容包括:本发明公开了一种单抗光电保护膜制备方法,包括步骤:S1、放卷;S2、涂胶;S3、烘干;S4、收卷;在所述步骤S2中,通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面,由搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌,同时由抽气装置吸收从胶液中溢出的气体。本发明的单抗光电保护膜制备方法,通过设置搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌,避免胶液长期静止不动而发生凝固,提高双抗光电保护膜的良率,同时设置的抽气装置能够及时将有毒气体抽走,避免有毒气体散发到空气中,改善工作环境。本发明还公开了一种单抗光电保护膜。(The invention discloses a preparation method of a monoclonal antibody photoelectric protective film, which comprises the following steps: s1, unwinding; s2, gluing; s3, drying; s4, rolling; in step S2, the glue solution in the glue tank is coated on the surface of the base film by the glue coating roller, the glue solution in the glue tank is stirred by the stirring device, and the gas overflowing from the glue solution is absorbed by the air exhaust device. According to the preparation method of the single-antibody photoelectric protective film, the glue solution in the glue tank is stirred by the stirring device, so that the glue solution is prevented from being solidified due to long-term standing, the yield of the double-antibody photoelectric protective film is improved, meanwhile, the arranged air exhaust device can timely exhaust toxic gas, the toxic gas is prevented from being emitted into the air, and the working environment is improved. The invention also discloses a monoclonal antibody photoelectric protective film.)

单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜

技术领域

本发明属于保护膜生产

技术领域

,具体地说,本发明涉及一种单抗光电保护膜制备方法及单抗光电保护膜。

背景技术

玻璃片材用单抗(单面抗静电)光电保护膜的表面需要涂胶处理,在单抗光电保护膜表面形成保护层。目前的单抗光电保护膜涂胶工艺为将放卷后的保护膜通过涂胶辊将胶槽中的胶液均匀的涂覆在基膜表面,由于胶槽中的胶液流动性相对较差,胶液若长期静止不动会发生凝固,导致基膜表面涂胶易出现不均匀的情况,会降低双抗光电保护膜的良率。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提供一种单抗光电保护膜制备方法,目的是提高单抗光电保护膜的良率。

为了实现上述目的,本发明采取的技术方案为:单抗光电保护膜制备方法,包括步骤:

S1、放卷;

S2、涂胶;

S3、烘干;

S4、收卷;

在所述步骤S2中,通过涂胶辊将胶槽中的胶液涂覆在基膜表面,由搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌,同时由抽气装置吸收从胶液中溢出的气体。

所述搅拌装置包括驱动电机、竖直设置的搅拌轴、设置于搅拌轴上的搅拌叶片以及与驱动电机和搅拌轴连接的动力传递机构,搅拌叶片位于所述胶槽中。

所述搅拌轴的高度可调节,搅拌轴与升降机构连接。

所述升降机构包括托座和与托座连接且用于控制托座进行升降的升降执行器,所述搅拌轴的下端设置于托座上。

所述动力传递机构包括套设于所述搅拌轴上的轴套以及与驱动电机和轴套连接的传动机构,轴套与搅拌轴通过花键连接,搅拌轴穿过轴套,所述升降机构位于轴套下方。

所述传动机构为锥齿轮机构。

所述抽气装置包括吸气罩、与吸气罩连接的输气管和用于向输气管中提供吸力的抽气风机,吸气罩设置在所述胶槽的上端。

所述吸气罩设置多个,所有吸气罩围绕所述胶槽的上端边缘进行布置。

本发明还提供了一种根据单抗光电保护膜制备方法制备得到的单抗光电保护膜。

所述单抗光电保护膜由下至上依次包括基膜层、粘胶层,所述基膜层由A、B、A三层基膜复合而成,所述B层为抗静电基膜层;所述背离粘胶层的基膜层的A层表面涂覆有离型液。

所述A层为PET基膜层、PP基膜层、PVC基膜层、POE基膜层的任意一种。

所述B层为在PET基膜层、PP基膜层、PVC基膜层、POE基膜层的任意一种的表面涂覆静电液后经烘干得到。

所述B层的阻抗值≥107Ω/cm2

本发明的单抗光电保护膜制备方法,通过设置搅拌装置对胶槽中的胶液进行搅拌,避免胶液长期静止不动而发生凝固,提高双抗光电保护膜的良率,同时设置的抽气装置能够及时将有毒气体抽走,避免有毒气体散发到空气中,改善工作环境。

本发明的单抗光电保护膜,可有效保护保护电子元器件,避免因静电放电引起的电子元器件击穿损坏和造成器件的性能劣化或参数指标下降,并可以减小产品对空气中灰尘的吸附,可应用于电子产品的临时固定、各类镜片及屏膜工程的保护、以及电子产品运输过程中的表面保护。

附图说明

本说明书包括以下附图,所示内容分别是:

图1是胶槽的俯视图;

图2是搅拌装置的结构示意图;

图3是搅拌轴端部结构示意图;

图4是单抗光电保护膜的结构示意图;

图中标记为:1、胶槽;2、搅拌轴;3、搅拌叶片;4、轴套;5、驱动电机;6、升降执行器;7、托座;8、传动机构;9、锁紧螺母;901、第一限位部;902、第二限位部;903、连接部;904、第一螺纹孔;905、第二螺纹孔;10、密封套;11、吸气罩;12、锁紧螺栓;13、第一轴承;14、第二轴承;15、基膜层;16、粘胶层。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明,目的是帮助本领域的技术人员对本发明的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解,并有助于其实施。

需要说明的是,在下述的实施方式中,所述的“第一”和“第二”并不代表结构和/或功能上的绝对区分关系,也不代表先后的执行顺序,而仅仅是为了描述的方便。

本发明提供了一种单抗光电保护膜制备方法,包括如下的步骤:

S1、放卷;

S2、涂胶;

S3、烘干;

S4、收卷。

具体地说,在上述步骤S1中,通过放卷筒进行基膜放卷,通过导辊将放卷的基膜输送至涂布机。在上述步骤S2中,旋转的涂胶辊将胶液涂覆至基膜的表面上。在上述步骤S3中,涂胶后的保护膜通过导辊输送至烘干箱中进行烘干处理。在上述步骤S4中,烘干后的保护膜通过导辊输送至收卷筒处进行收卷。

如图1和图2所示,在上述步骤S2中,通过涂胶辊将胶槽1中的胶液涂覆在基膜表面,由搅拌装置对胶槽1中的胶液进行搅拌,同时由抽气装置吸收从胶液中溢出的有毒气体。在涂胶过程中,通过设置搅拌装置对胶槽1中的胶液进行搅拌,避免胶液长期静止不动而发生凝固,提高双抗光电保护膜的良率,同时设置的抽气装置能够及时将有毒气体抽走,避免有毒气体散发到空气中,改善工作环境。

如图1和图2所示,搅拌装置包括驱动电机5、竖直设置的搅拌轴2、设置于搅拌轴2上的搅拌叶片3以及与驱动电机5和搅拌轴2连接的动力传递机构,搅拌叶片3位于胶槽1中。搅拌轴2的高度可调节,搅拌轴2与升降机构连接。升降机构用于控制搅拌轴2沿竖直方向进行移动,搅拌轴2带动搅拌叶片3同步移动,实现高度的调节,以与胶槽1中胶液量相适应,使搅拌叶片3处于合适的高度位置处,确保搅拌效果。胶槽1中胶液量较多时,搅拌叶片3处于较高的位置处;胶槽1中胶液量较少时,搅拌叶片3处于较低的位置处。搅拌轴2的下端与升降机构连接,升降机构和驱动电机5位于胶槽1的下方,搅拌叶片3固定设置在搅拌轴2的上端。

如图1和图2所示,升降机构包括托座7和与托座7连接且用于控制托座7进行升降的升降执行器6,搅拌轴2的下端设置于托座7上。升降执行器6为竖直设置,升降执行器6的上端与托座7连接,升降执行器6为可伸缩的构件,升降执行器6控制托座7沿竖直方向进行移动,托座7带动搅拌轴2沿竖直方向同步进行移动,从而可以实现搅拌轴2的高度的调节。搅拌轴2为可旋转的设置于托座7上,升降执行器6伸长时,推动托座7向上移动,托座7带动搅拌轴2向上移动,搅拌叶片3在胶槽1中的高度增加;升降执行器6收缩时,推动托座7向下移动,托座7带动搅拌轴2向下移动,搅拌叶片3在胶槽1中的高度减小。在本实施例中,升降执行器6为电缸。

如图2所示,托座7具有让搅拌轴2的穿过的安装孔,搅拌轴2包括第一轴段和第二轴段,第一轴段和第二轴段为竖直设置且第一轴段和第二轴段同轴,第一轴段的直径大于第二轴段的直径,第二轴段的上端与第一轴段的下端固定连接,第一轴段的长度大于第二轴段的长度,第二轴段插入安装孔中,该安装孔为在托座7上贯穿设置的通孔,第一轴段与第二轴段之间形成轴肩。第二轴段上设置第一轴承13、第二轴承14和锁紧螺母9,托座7位于第一轴承13和第二轴承14之间,第一轴承13位于第一轴承13和托座7之间,第二轴承14位于托座7和锁紧螺母9之间,第一轴承13和第二轴承14均为推力轴承。锁紧螺母9与第二轴段为螺纹连接,第二轴段的外圆面设置外螺纹,锁紧螺母9的中心处设置让第二轴段插入的第一螺纹孔904,锁紧螺母9用于在竖直方向上对第一轴承13、第二轴承14和托座7起到限位作用,第一轴承13对搅拌轴2起到限位作用,并使得搅拌轴2相对于托座7可以旋转。

如图2和图3所示,锁紧螺母9包括第一限位部901、第二限位部902以及与第一限位部901和第二限位部902连接的连接部903,第一限位部901和第二限位部902之间具有间隙,连接部903位于第一限位部901和第二限位部902之间且连接部903与第一限位部901和第二限位部902固定连接。第一限位部901和第二限位部902之间为同轴设置的圆环形结构,第一螺纹孔904为沿第一限位部901和第二限位部902的厚度方向贯穿设置,第一螺纹孔904从第一限位部901的中心处延伸至第二限位部902的中心处,第一限位部901的厚度(第一限位部901的厚度方向也即第一限位部901的轴向)大于第二限位部902的厚度(第二限位部902的厚度方向也即第二限位部902的轴向),在外力作用下,第二限位部902相对于第一限位部901可以产生微小角度的偏转,第二限位部902用于与第二轴承14相接触,第二限位部902位于第一限位部901和第二轴承14之间。第一限位部901上设置锁紧螺栓12,第一限位部901上设置让锁紧螺栓12拧入的第二螺纹孔905,锁紧螺栓12与第一限位部901为螺纹连接,第二螺纹孔905为沿第一限位部901的厚度方向贯穿设置,锁紧螺栓12用于对第二限位部902施加压力,使第二限位部902相对于第一限位部901发生偏转。在安装时,将锁紧螺母9拧紧在第二轴段上后,第二限位部902与第二轴承14接触,再将锁紧螺栓12拧入第二螺纹孔905中,锁紧螺栓12接触第二限位部902后,再拧紧锁紧螺栓12,锁紧螺栓12对第二限位部902之间压力,这样可以消除第一限位部901的内螺纹与第二轴段的外螺纹之间的间隙,同时锁紧螺栓12将第二限位部902压紧在第二轴承14上,这样加大锁紧螺母9的预紧力,防止长期使用后锁紧螺母9出现松动,提高可靠性。

如图2所示,动力传递机构包括套设于搅拌轴2上的轴套4以及与驱动电机5和轴套4连接的传动机构8,驱动电机5为固定连接,轴套4与搅拌轴2通过花键连接,搅拌轴2穿过轴套4,升降机构位于轴套4下方。传动机构8为锥齿轮机构,该传动机构8的主动锥齿轮与驱动电机5的电机轴固定连接,该传动机构8的从动锥齿轮与轴套4为同轴固定连接。搅拌轴2相对于轴套4可沿轴向进行移动,轴套4套设于第一轴段上,轴套4的长度小于第一轴段的长度,第一轴段上设置外花键,轴套4设置内花键,驱动电机5通过传动机构8带动轴套4旋转,轴套4带动搅拌轴2同步旋转,搅拌轴2带动搅拌叶片3同步旋转,实现对胶槽1中胶液的搅拌。

如图2所示,搅拌装置还包括与搅拌轴2和轴套4连接的密封套10,密封套10位于胶槽1的内腔体中,密封套10为可伸缩的构件,密封套10位于搅拌叶片3的下方,密封套10的上端与搅拌轴2密封连接,密封套10的下端与轴套4的上端密封连接,轴套4的上端插入胶槽1中,轴套4的上端与胶槽1密封连接,减少胶液的泄漏。密封套10随着搅拌轴2的高度升降而进行伸缩,搅拌轴2向上移动时,搅拌轴2带动密封套10进行伸长;搅拌轴2向下移动时,搅拌轴2带动密封套10进行收缩,密封套10用于避免胶液进入搅拌轴2与轴套4之间。

如图1所示,抽气装置包括吸气罩11、与吸气罩11连接的输气管和用于向输气管中提供吸力的抽气风机,吸气罩11固定设置在胶槽1的上端。搅拌叶片3位于胶槽1的中心处,吸气罩11设置多个,所有吸气罩11围绕胶槽1的上端边缘进行布置。吸气罩11具有进气口和出气口,吸气罩11的进气口朝向下方的胶液吸气罩11的出气口与输气管的一端连接,输气管的另一端与毒气处理装置连接,抽气风机设置在输气管的出口端。抽气风机为鼓风机,抽气风机运转后,输气管和吸气罩11中产生吸力,胶液中溢出的有毒气体被抽吸,然后被输送至毒气处理装置中,由毒气处理装置进行收集和处理。

本发明还提供了一种根据单抗光电保护膜制备方法制备得到的单抗光电保护膜。

如图4所示,所述单抗光电保护膜由下至上依次包括基膜层15、粘胶层16,所述基膜层由A、B、A三层基膜复合而成,所述B层为抗静电基膜层;所述背离粘胶层的基膜层的A层表面涂覆有离型液。

所述A层为PET基膜层、PP基膜层、PVC基膜层、POE基膜层的任意一种。

所述B层为在PET基膜层、PP基膜层、PVC基膜层、POE基膜层的任意一种的表面涂覆静电液后经烘干得到。所述B层的阻抗值≥107Ω/cm2

以上结合附图对本发明进行了示例性描述。显然,本发明具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进;或未经改进,将本发明的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

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