具体实施方式

在此将参照附图更完整地描述各实施方式，附图中给出了示例性实施方式。只要可能，在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。但是，权利要求可以包含具有各个实施方式的许多不同实施方式，并且不应被理解成受限于本文提出的实施方式。

图1根据本公开的实施方式，例示了屏幕保护物101的示意图。在一些实施方式中，屏幕保护物101可以包括玻璃基基材103。在一些实施方式中，如图1所示，屏幕保护物101可以包括位于玻璃基基材103中的孔109a、109b。在一些实施方式中，至少一个孔可以对应于屏幕保护物101被设计用于保护的装置227(见图2)上的扬声器、麦克风、按钮、开关或摄像头的位置。

如图1所示，屏幕保护物101可以包括长度111和宽度113。在一些实施方式中，屏幕保护物101的长度111可以大于或等于约1毫米(mm)，大于或等于约30mm，大于或等于约50mm，大于或等于约100mm，大于或等于约130mm，大于或等于约150mm，大于或等于约160mm，大于或等于约200mm，小于或等于约500mm，小于或等于约300mm，或者小于或等于约200mm。在一些实施方式中，屏幕保护物101的长度111可以在以下范围内：约1mm至约500mm，约1mm至约300mm，约1mm至约200mm，约1mm至约200mm，约30mm至约500mm，约30mm至约300mm，约30mm至约200mm，约50mm至约500mm，约50mm至约300mm，约50mm至约200mm，约100mm至约500mm，约100mm至约300mm，约100mm至约200mm，约120mm至约200mm，约130mm至约200mm，约50mm至约160mm，约50mm至约150mm，以及其间的所有范围和子范围。在一些实施方式中，屏幕保护物101的宽度113可以大致等于、大于或小于屏幕保护物101的长度111。在一些实施方式中，屏幕保护物101的宽度113可以包括上文关于屏幕保护物的长度111所提出的范围。在一些实施方式中，屏幕保护物101的长度111和宽度113可以与屏幕保护物101被设计用于保护的装置227(参见图2)或装置227的部分(例如，装置的屏幕)的对应尺寸相同。在一些实施方式中，屏幕保护物101的长度111和宽度113可以与屏幕保护物101被设计用于保护的装置227(参见图2)或装置227的部分(例如，装置的屏幕)的对应尺寸成比例。在一些实施方式中，屏幕保护物101的长度111和/或宽度113可以小于或大于屏幕保护物101被设计用于保护的装置227或装置227的部分(例如，装置的屏幕)的对应尺寸。

如上所述，屏幕保护物可以包括玻璃基基材103。如本文所用的“玻璃基”包括玻璃和玻璃陶瓷两者，其中，玻璃陶瓷具有一个或多个晶相以及无定形的残余玻璃相。玻璃基基材103可以包括无定形材料(例如玻璃)以及任选的一种或多种结晶材料(例如陶瓷)。构成玻璃基基材103的无定形材料和玻璃基材料可以是经过热强化或化学强化的，如下所述。可以不含或者可以含有氧化锂的示例性玻璃基材料包括钠钙玻璃、碱金属铝硅酸盐玻璃、含碱金属的硼硅酸盐玻璃、碱金属铝磷硅酸盐玻璃和碱金属铝硼硅酸盐玻璃。在一个或多个实施方式中，以摩尔百分比(摩尔％)计，玻璃基基材103可以包括：约40摩尔％至约80摩尔％的SiO₂，约10摩尔％至约30摩尔％的Al₂O₃，约0摩尔％至约10摩尔％的B₂O₃，约0摩尔％至约5摩尔％的ZrO₂，约0摩尔％至约15摩尔％的P₂O₅，约0摩尔％至约2摩尔％的TiO₂，约0摩尔％至约20摩尔％的R₂O，以及0摩尔％至约15摩尔％的RO。如本文所用的R₂O可以指碱金属氧化物，例如，Li₂O、Na₂O、K₂O、Rb₂O和Cs₂O。如本文所用的RO可以指MgO、CaO、SrO、BaO和ZnO。在一些实施方式中，玻璃基基材103可以任选地进一步包括约0摩尔％至约2摩尔％的以下中的各种：Na₂SO₄、NaCl、NaF、NaBr、K₂SO₄、KCl、KF、KBr、As₂O₃、Sb₂O₃、SnO₂、Fe₂O₃、MnO、MnO₂、MnO₃、Mn₂O₃、Mn₃O₄、Mn₂O₇。在一些实施方式中，玻璃基基材103可以是透明的，这意味着玻璃基基材103在400纳米(nm)至700nm的光学波长内包括约85％或更高、约86％或更高、约87％或更高、约88％或更高、约89％或更高、约90％或更高、约91％或更高、或者约92％或更高的平均光透射率。

在一些实施方式中，如图2-6所示，玻璃基基材103可包括第一主表面105、403、503、603，其包括第一平面部分201、409、509、609；以及第二主表面207、405、505、605，其可以与对应的第一主表面105、403、503、603相对。第二主表面207、405、505、605可包括第二平面部分209、417、517、617，其可以平行于第一平面部分201、409、509、609。在一些实施方式中，玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603可以包括一个或多个表面涂层。在一些实施方式中，表面涂层可以包括易清洁涂层、低摩擦涂层、疏油涂层、类金刚石涂层、耐刮擦涂层、耐磨损涂层或其组合。构成涂层的材料可包括硬质氧化物、氮化物或氮氧化物层，任选地，其与金属层组合。例如，耐刮擦涂层可以包括氮氧化物，例如，氮氧化铝或氮氧化硅。在一些实施方式中，耐磨损层可以包括与耐刮擦层相同的材料。在一些实施方式中，耐刮擦涂层的物理厚度可以在以下范围内：约1nm至10μm、约25nm至约10μm、约200nm至约10μm、约500nm至约10μm、约1μm至约10μm、约100nm至约5μm、约500nm至约5μm、约1μm至约5μm、约1μm至约2μm，以及其间的所有范围和子范围。在一些实施方式中，低摩擦涂层可以包括高度氟化的硅烷偶联剂，例如，烷基氟硅烷，其中，在硅原子上侧接有氧基甲基。在一些实施方式中，易清洁涂层可以包括与低摩擦涂层相同的材料。在另一些实施方式中，易清洁涂层可以包括可质子化的基团，例如，胺，例如，烷基氨基硅烷，其中在硅原子上侧接有氧基甲基。在一些实施方式中，疏油涂层可以包括与易清洁涂层相同的材料。在一些实施方式中，类金刚石涂层包括碳，并且可以通过在烃等离子体的存在下施加高压电位来产生。

在本公开全文中，如图3-6所示，玻璃基基材103的厚度217可定义为在厚度217的厚度方向217a上，在玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603的第一平面部分201、409、509、609上的第一点与第二主表面207、405、505、605的第二平面部分209、417、517、617上的第二点之间的距离，其中，对第一点和第二点进行选择，以使得它们尽可能地靠近。不希望囿于理论，当两个平行平面之间的区段垂直于这两个平面时，该区段将包括最小距离。在一些实施方式中，厚度217可以大于或等于约100微米(μm)，大于或等于约200μm，大于或等于约250μm，大于或等于约300μm，小于或等于约1,000μm，小于或等于约800μm，小于或等于约600μm，小于或等于约550μm，小于或等于约500μm，小于或等于约450μm，小于或等于约400μm，或者小于或等于约350μm。在一些实施方式中，厚度217可以在以下范围内：约100μm至约1,000μm，约200μm至约1,000μm，约250μm至约1,000μm，约300μm至约1,000μm，约100μm至约800μm，约200μm至约800μm，约250μm至约800μm，约300μm至约800μm，约100μm至约600μm，约200μm至约600μm，约250μm至约600μm，约300μm至约600μm，约100μm至约550μm，约200μm至约550μm，约250μm至约550μm，约300μm至约550μm，约100μm至约500μm，约200μm至约500μm，约250μm至约500μm，约300μm至约500μm，约100μm至约450μm，约200μm至约450μm，约200μm至约450μm，约250μm至约450μm，约300μm至约450μm，约100μm至约400μm，约200μm至约400μm，约250μm至约400μm，约300μm至约400μm，约100μm至约350μm，约200μm至约350μm，约250μm至约350μm，约300μm至约350μm，以及其间的所有范围和子范围。

在一些实施方式中，第一主表面105、403、503、603可以进一步包括第一周围部分203、411、511、611，其从第一主表面105、403、503、603的第一平面部分201、409、509、609向外延伸。第一主表面105、403、503、603的周围部分203、411、511、611可向着第二主表面207、405、505、605延伸。在一些实施方式中，如图3和5-6所示，对应的第一主表面105、503、603的周围部分203、511、611可包括平坦表面。在另一些实施方式中，如图4所示，第一主表面403的周围部分411可包括弯曲表面。

在本公开中，玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603的周围部分203、411、511、611的高度202可定义为在厚度方向217a上，在第一点204a与第二点204b之间的距离，所述第一点204a位于玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603的周围部分203、411、511、611与第一平面部分201、409、509、609的相交处，所述第二点204b位于玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603与外周围边缘107、407、507、607的相交处，其中，对第一点204a和第二点204b进行选择，以使得它们在厚度方向217a上相距得尽可能远。在一些实施方式中，周围部分203、411、511、611的高度202可以大于或等于约1μm，大于或等于约5μm，大于或等于约10μm，大于或等于约20μm，大于或等于约50μm，小于或等于约400μm，小于或等于约300μm，小于或等于约200μm，小于或等于约150μm，或者小于或等于约100μm。在一些实施方式中，周围部分203、411、511、611的高度202可在以下范围内：约1μm至约400μm，约5μm至约400μm，约10μm至约400μm，约20μm至约400μm，约50μm至约400μm，约1μm至约300μm，约5μm至约300μm，约10μm至约300μm，约20μm至约300μm，约30μm至约300μm，约1μm至约200μm，约5μm至约200μm，约10μm至约200μm，约20μm至约200μm，约50μm至约200μm，约1μm至约150μm，约5μm至约150μm，约10μm至约150μm，约20μm至约150μm，约50μm至约150μm，约1μm至约100μm，约5μm至约100μm，约10μm至约100μm，约20μm至约100μm，约50μm至约100μm，以及其间的所有范围和子范围。

在本公开中，玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603的周围部分203、411、511、611的宽度206可定义为在垂直于厚度方向217a的宽度方向上，在第一点204a与第二点204b之间的距离，所述第一点204a位于玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603的周围部分203、411、511、611与第一平面部分201、409、509、609的相交处，所述第二点204b位于玻璃基基材103的第一主表面105、403、503、603与外周围边缘107、407、507、607的相交处，其中，对第一点204a和第二点204b进行选择，以使得它们在宽度方向上尽可能得接近。在一些实施方式中，周围部分203、411、511、611的宽度206可以大致等于周围部分203、411、511、611的高度202，但是在一些实施方式中，宽度206可以大于或小于高度202。在一些实施方式中，周围部分203、411、511、611的宽度206可以大于或等于约10μm，大于或等于约50μm，大于或等于约100μm，大于或等于约200μm，大于或等于约300μm，小于或等于约5mm，小于或等于约2mm，小于或等于约1mm，小于或等于约800μm，或者小于或等于约600μm。在一些实施方式中，周围部分203、411、511、611的宽度206可在以下范围内：约10μm至约5mm，约50μm至约5mm，约100μm至约5mm，约200μm至约5mm，约300μm至约5mm，约10μm至约2mm，约50μm至约2mm，约100μm至约2mm，约200μm至约2mm，约300μm至约2mm，约10μm至约1mm，约50μm至约1mm，约100μm至约1mm，约200μm至约1mm，约300μm至约1mm，约10μm至约800μm，约50μm至约800μm，约100μm至约800μm，约200μm至约800μm，约300μm至约800μm，约10μm至约600μm，约50μm至约600μm，约100μm至约600μm，约200μm至约600μm，约300μm至约600μm，以及其间的所有范围和子范围。

玻璃基基材103还可包括在第一主表面105、403、503、603与第二主表面207、405、505、605之间的外周围边缘107、407、507、607。在一些实施方式中，外周围边缘107、407、507、607可以与第一主表面105、403、503、603的周围部分203、411、511、611相遇。外周围边缘107、407、507、607可以包括外周围表面205、413、513、613，其从第一主表面105、403、503、603向着第二主表面207、405、505、605延伸。在一些实施方式中，如图3-4和6所示，对应的外周围边缘107、507、607的外周围表面205、413、613可包括平坦表面。在另一些实施方式中，如图5所示，外周围边缘507的外周围表面513可包括弯曲表面。应理解，边缘的平坦或弯曲的外周围表面可与如上所述的第一主表面的平坦或弯曲的周围部分组合使用。另外，如图5所示，外周围边缘507的弯曲的外周围表面513可与第一主表面503的平坦的周围部分511组合来提供。在另外的实施方式中，图5的外周围边缘507的弯曲的外周围表面513可与图4所示的第一主表面403的弯曲的周围部分411组合来提供。

在本公开中，外周围边缘107、407、507、607的外周围表面205、413、513、613可包括最外周围范围。参考图5，最外周围范围514可包括在外周围边缘507的外周围表面513的表面轮廓上的点或线。在一些实施方式中，外周围边缘507的外周围表面513的最外周围范围514可以包括垂直于厚度方向217a的线。在其他另外的实施方式中，最外周围范围514可以包括沿着外周围边缘507的外周围表面513并且不垂直于厚度方向217a的线。在一些实施方式中，最外周围范围514可以包括外周围表面513上的点。在另一些实施方式中，如图2-4和6所示，最外周围范围可以包括对应的外周围边缘107、407、607的整个外周围表面205、413、613。在另一些实施方式中，最外周围范围可以包括小于边缘的整个外周围表面的部分。

在本公开全文中，如图3-6所示，玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的外周围表面205、413、513、613的高度219可定义为在如上所定义的第二点204b与第三点204c之间的距离，所述第三点204c在厚度方向217a上，在玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的外周围表面205、413、513、613上，其中，对第二点204b和第三点204c进行选择，以使得它们在厚度方向217a上尽可能得间隔开。在一些实施方式中，玻璃基基材103的外周围边缘107的外周围表面205的高度219可以是玻璃基基材103的厚度217的约60％或更大，约65％或更大，约70％或更大，约75％或更大，或者约80％或更大。在一些实施方式中，玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的外周围表面205、413、513、613的高度219可以是玻璃基基材103的厚度217的约100％或更小，约99％或更小，约98％或更小，约95％或更小，约90％或更小，约85％或更小，或者约80％或更小。在一些实施方式中，玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的外周围表面205、413、513、613的高度219可以是玻璃基基材103的厚度217的约60％至约99％，约65％至约99％，约70％至约99％，约75％至约99％，约80％至约99％，约60％至约98％，约65％至约98％，约70％至约98％，约75％至约98％，约80％至约99％，约60％至约95％，约65％至约95％，约70％至约95％，约75％至约95％，约80％至约95％，约60％至约90％，约65％至约90％，约70％至约90％，约75％至约90％，约80％至约90％，约60％至约85％，约65％至约85％，约70％至约85％，约75％至约85％，约60％至约80％，约65％至约80％，约70％至约80％，以及其间的所有范围和子范围。

在一些实施方式中，外周围边缘107、407、507、607可进一步包括凹切处208、415、515、615。凹切处208、415、515、615可在外周围边缘107、407、507、607的外周围表面205、413、513、613与第二主表面207、405、505、605之间延伸。在一些实施方式中，如图3-5所示，对应的外周围边缘107、407、507的凹切处208、415、515可包括平坦表面。在一些实施方式中，如图6所示，外周围边缘607的凹切处615可包括弯曲表面。应理解，边缘的平坦或弯曲的凹切处可与如上所述的边缘的平坦或弯曲的外周围表面以及第一主表面的平坦或弯曲的周围部分组合。

在本公开全文中，玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的凹切处208、415、515、615的高度221可定义为在厚度方向217a上，在如上所定义的第三点204c与第四点204d之间的距离，所述第四点204d在玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的凹切处208、415、515、615与第二主表面207、405、505、605的相交处，其中，对第三点204c和第四点204d进行选择，以使得它们在厚度方向217a上尽可能得接近。

在本公开全文中，玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的凹切处208、415、515、615的宽度222可定义为在垂直于厚度方向217a的宽度方向上，在如上所定义的第三点204c与如上所定义的第四点204d之间的距离，其中，第三点204c和第四点204d在宽度方向上尽可能得接近。在一些实施方式中，凹切处208的宽度222可以大致等于凹切处208的高度221，但是在另一些实施方式中，凹切处208的宽度222可以大于或小于凹切处208的高度221。

在一些实施方式中，凹切处208、415、515、615的高度221和/或宽度222可以小于或等于约50微米(μm)，小于或等于约40μm，小于或等于约30μm，小于或等于约20μm，小于或等于约10μm，大于或等于约100纳米(nm)，大于或等于约200nm，大于或等于约500nm，或者大于或等于约1μm。在一些实施方式中，凹切处208、415、515、615的高度221和/或宽度222可在以下范围内：约100nm至约50μm，约200nm至约50μm，约500nm至约50μm，约1μm至约50μm，约100nm至约40μm，约200nm至约40μm，约500nm至约40μm，约1μm至约40μm，约100nm至约30μm，约200nm至约30μm，约500nm至约30μm，约1μm至约30μm，约100nm至约20μm，约200nm至约20μm，约500nm至约20μm，约1μm至约20μm，约100nm至约10μm，约200nm至约10μm，约500nm至约10μm，约1μm至约50μm，以及其间的所有范围和子范围。

在一些实施方式中，可以使用机械研磨、机械抛光或酸处理对凹切处208、415、515、615进行抛光。除非另有指示，否则本公开中提出的所有表面粗糙度值是平均表面粗糙度(Ra)，其使用表面轮廓的绝对偏差的算术平均值，由垂直于10μm×10μm的测试区域表面的方向上的平均位置计算得到，除非凹切处的尺寸小于或等于约10μm，否则10μm×10μm的测试区域使用原子力显微镜法(AFM)来测量，在凹切处的尺寸小于或等于约10μm的情形中，测试区域为矩形，但是仍然包括约100μm²的面积。凹切处208、415、515、615的表面可以包括小于或等于约50nm、小于或等于约40nm、小于或等于约30nm、小于或等于约20nm、或者小于或等于约10nm的平均表面粗糙度(Ra)。在一些实施方式中，凹切处208、415、515、615的表面的平均表面粗糙度(Ra)可以在以下范围内：约1nm至约50nm，约2nm至约50nm，约5nm至约50nm，约10nm至约50nm，约1nm至约40nm，约2nm至约40nm，约5nm至约40nm，约10nm至约40nm，约1nm至约30nm，约2nm至约30nm，约5nm至约30nm，约10nm至约30nm，约1nm至约20nm，约2nm至约20nm，约5nm至约20nm，约10nm至约20nm，约1nm至约10nm，约2nm至约10nm，约5nm至约10nm，以及其间的所有范围和子范围。

在一些实施方式中，玻璃基基材103可以是经强化的，从而产生经强化的玻璃基基材。产生经强化的玻璃基基材的方法包括化学强化，热强化，或者化学强化和热强化的组合。经强化的玻璃基基材(例如，玻璃基基材103)可通过中心张力(CT)表征，所述中心张力(CT)可定义为在经强化的玻璃基基材内的最大拉伸应力，这使用本领域已知的散射光偏振镜(SCALP)技术来测量。在一些实施方式中，经强化的玻璃基基材(例如，玻璃基基材103)可包括大于或等于约10兆帕斯卡(MPa)，大于或等于约20MPa，大于或等于约30MPa，大于或等于约50MPa，小于或等于约100MPa，小于或等于约80MPa，或者小于或等于约60MPa的CT。在一些实施方式中，经强化的玻璃基基材(例如，玻璃基基材103)可以包括以下范围内的中心张力：约10MPa至约100MPa，约20MPa至约100MPa，约30MPa至约100MPa，约50MPa至约100MPa，约10MPa至约80MPa，约20MPa至约80MPa，约30MPa至约80MPa，约50MPa至约80MPa，约10MPa至约60MPa，约20MPa至约60MPa，约30MPa至约60MPa，约50MPa至约60MPa，以及其间的所有范围和子范围。在另一些实施方式中，玻璃基基材103可以是未经强化的。

热强化包括将玻璃基基材103的温度控制到预定的初始温度T₀，然后以预定的热传递速率h对玻璃基基材进行淬火。为了获得更高的热传递速率以及使断裂的发生率最小化，一些实施方式穿过可能不含固体或液体物质的间隙将热能从玻璃基基材103传递到散热器以及可通过该间隙循环的气体，同时玻璃基基材103可以由空气棒支承。在一些实施方式中，热强化包括约700℃至约900℃或者约800℃的初始温度T₀，以及大于或等于约0.010cal/cm²-s-℃、小于或等于约0.100cal/cm²-s-℃、或在约0.010cal/cm²-s-℃至约0.100cal/cm²-s-℃的范围内的热传递速率。在一些示例性实施方式中，包括玻璃基基材103的屏幕保护物101可以利用约等于或大于玻璃基基材103的玻璃化转变温度的初始温度T₀来进行热强化。

化学强化包括可能已经经过热强化的玻璃基基材103，其可以喷洒有熔融盐或离子盐溶液，和/或浸没在熔融盐浴或离子盐溶液中，以使玻璃基基材103中的离子与熔融盐浴或离子盐溶液中的离子进行交换。由于玻璃基基材103的表面处或附近的离子被来自熔融盐浴或离子盐溶液的氧化态相同但是离子半径更大的离子替换(即，与之交换)，因此该过程可被称为“离子交换”。在一些实施方式中，从玻璃基基材103交换出来的离子可包括单价碱金属阳离子，例如，Li⁺、Na⁺、K⁺、Rb⁺和Cs⁺。在一些实施方式中，交换到玻璃基基材103中的离子可包括碱金属阳离子或其他金属阳离子，例如Ag⁺。在一些实施方式中，熔融盐浴或离子盐溶液可以包括KNO₃、NaNO₃和LiNO₃中的任何一种或多种。熔融盐浴或离子盐溶液可以包括大于或等于约300℃，大于或等于约350℃，小于或等于约500℃，或者小于或等于约450℃的温度。熔融盐浴或离子盐溶液可以包括约300℃至约500℃，约350℃至约500℃，约350℃至约5000℃，约350℃至约450℃的温度。在一些实施方式中，玻璃基基材103可浸没约10分钟或更多，约30分钟或更多，约5小时或更少，或者约1小时或更少。在一些实施方式中，玻璃基基材可浸没以下范围内的时间：约10分钟至约5小时，约10分钟至约1小时，约30分钟至约5小时，约30分钟至约1小时，以及其间的所有范围和子范围。

屏幕保护物101还可以包括粘合剂211。粘合剂可以包括一种或(多种)材料，其包括合成聚合物或天然材料。天然材料的实施方式可包括动物胶、酪蛋白胶、血质蛋白胶、淀粉、糊精琼脂和乳香。合适的聚合物的实施方式包括但不限于共聚物，例如二嵌段共聚物、共嵌段共聚物等，以及以下物质的掺混物：热塑性塑料，包括聚苯乙烯(PS)、聚碳酸酯(PC)；聚酯，包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)；聚烯烃，包括聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)；丙烯酸类聚合物，包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、热塑性氨基甲酸酯(TPU)、聚醚酰亚胺(PEI)；环氧类；以及硅酮，包括聚二甲基硅氧烷(PDMS)。在示例性的实施方式中，粘合剂211将使屏幕保护物101的总透明度减小约5％或更少，或者约2％或更少，或者约1％或更少。在一些另外的示例性实施方式中，粘合剂211可以包含与玻璃基基材103接触的第一材料以及与装置227接触的第二材料。第一材料可以包括高剥离强度，例如，大于或等于约2N/mm，大于或等于约5N/mm，在约2N/mm至约10N/mm的范围内，或者在约5N/mm至约10N/mm的范围内。第二材料可以包括低剥离强度，例如，小于或等于约0.5N/mm，小于或等于约0.2N/mm，小于或等于约0.1N/mm，在约0.5N/mm至约0.001N/mm的范围内，或者在约0.2N/mm至约0.001N/mm的范围内。除非另外指示，否则根据美国材料测试协会(American Society for Testing andMaterials；ASTM)标准D3330来进行所有的剥离强度测量。在一些实施方式中，当期望时，可从装置227移除屏幕保护物101但是粘合剂211不脱粘，并且之后保留在装置上。

粘合剂211可以包括第一主表面213，其可粘附于玻璃基基材103的第二主表面207、405、505、605。粘合剂211还可以包括第二主表面215，其可与粘合剂211的第一主表面213相对。在本公开全文中，如图3-6所示，粘合剂211的厚度223可定义为在厚度方向217a上，在粘合剂211的第一主表面213上的第一点与粘合剂211的第二主表面215上的第二点之间的距离，其中，对第一点和第二点进行选择，以使得它们在厚度方向217a上尽可能地远离。在一些实施方式中，粘合剂211的厚度223可以大于或等于约50μm，大于或等于约80μm，大于或等于约100μm，大于或等于约120μm，小于或等于约200μm，小于或等于约190μm，小于或等于约180μm，或者小于或等于约170μm。在一些实施方式中，粘合剂211的厚度223可在以下范围内：约50μm至约200μm，约80μm至约200μm，约100μm至约200μm，约120μm至约200μm，约50μm至约190μm，约80μm至约190μm，约100μm至约190μm，约120μm至约190μm，约50μm至约180μm，约80μm至约180μm，约100μm至约180μm，约120μm至约180μm，约50μm至约170μm，约80μm至约170μm，约100μm至约170μm，约120μm至约170μm，以及其间的所有范围和子范围。

粘合剂211可以包括边缘225。边缘225可从粘合剂211的第一主表面213延伸到粘合剂211的第二主表面215。在本公开全文中，粘合剂211从玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的偏离226可定义为在垂直于厚度方向217a的方向上，粘合剂211的边缘225的表面的最外周围范围是从玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的最外周围范围(例如514)凹进的距离。在一些实施方式中，粘合剂211从玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的偏离226可以大于或等于约100nm，大于或等于约200nm，大于或等于约500nm，大于或等于约1μm，大于或等于约5μm，小于或等于约100μm，小于或等于约75μm，小于或等于约50μm，小于或等于约40μm，或者小于或等于约30μm。在一些实施方式中，偏离226可以在以下范围内：约100nm至约100μm，约200nm至约100μm，约500nm至约100μm，约1μm至约100μm，约5μm至约100μm，约100nm至约75μm，约200nm至约75μm，约500nm至约75μm，约1μm至约75μm，约2μm至约75μm，约5μm至约75μm，约100nm至约50μm，约200nm至约50μm，约500nm至约50μm，约1μm至约50μm，约2μm至约50μm，约5μm至约50μm，约100nm至约40μm，约200nm至约40μm，约500nm至约40μm，约1μm至约40μm，约2μm至约40μm，约5μm至约40μm，约100nm至约30μm，约200nm至约30μm，约500μm至约30μm，约1μm至约30μm，约2μm至约30μm，约5μm至约30μm，以及其间的所有范围和子范围。

粘合剂211的第二主表面215可以粘附于装置227。在一些实施方式中，装置227可以包括显示器，所述显示器可包括液晶显示器(LCD)、电泳显示器(EPD)、有机发光二极管显示器(OLED)、等离子体显示面板(PDD)、或触摸传感器嵌入式显示器。在一些实施方式中，装置227可以是便携式电子装置(例如，智能手机、平板电脑、手表、笔记本电脑)或者固定式电子装置(例如，电脑监控器、电视机)。在一些实施方式中，在装置227上可具有与粘合剂211的第二主表面215直接接触的透明层。在一些实施方式中，装置227的透明层可以是屏幕(例如，盖板基材)，以及可以是通常用作屏幕的材料，包括但不限于无定形无机材料(例如玻璃)，结晶材料[例如，蓝宝石、单晶或多晶氧化铝、尖晶石(MgAl₂O₄)]，或聚合物。合适的聚合物的实施方式包括但不限于以下物质的共聚物或掺混物：热塑性塑料，包括聚苯乙烯(PS)、聚碳酸酯(PC)；聚酯，包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)；聚烯烃，包括聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)；丙烯酸类聚合物，包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、热塑性聚氨酯(TPU)、聚醚酰亚胺(PEI)；环氧类；以及硅酮，包括聚二甲基硅氧烷(PDMS)。可以经强化或未经强化，并且可以不含或者可以含有氧化锂的玻璃的实施方式包括钠钙玻璃、碱金属铝硅酸盐玻璃、含碱金属的硼硅酸盐玻璃和碱金属铝硼硅酸盐玻璃。

在根据美国材料测试协会(ASTM)标准158-02的四点弯曲测试中，使用18mm的载荷跨距和36mm的支承跨距，使屏幕保护物101(即，玻璃基基材103和粘合剂211)经受约5mm/分钟的弯曲载荷，并且使胶带在压缩侧上，以及使聚四氟乙烯(PTFE)表面接触处于张力的屏幕保护物101的侧。测试持续进行直到屏幕保护物101失效。在计算边缘强度时，仅考虑在约10mm的边缘内失效的屏幕保护物。计算的边缘强度可报告为针对四点弯曲测试的失效概率为10％时的强度(B10边缘强度)。在一些实施方式中，根据本公开所述的屏幕保护物101可以包括大于或等于约250兆帕斯卡(MPa)，大于或等于约300MPa，大于或等于约400MPa，大于或等于约500MPa，大于或等于约600MPa，大于或等于约700MPa，大于或等于约800MPa，或者小于或等于约1,000MPa的B10边缘强度。在一些实施方式中，根据本公开所述的屏幕保护物101可以包括以下范围内的B10边缘强度：约250MPa至约1,000MPa，约300MPa至约1,000MPa，约400MPa至约1,000MPa，约500MPa至约1,000MPa，约600MPa至约1,000MPa，约700MPa至约1,000MPa，约800MPa至约1,000MPa，以及其间的所有范围和子范围。

在压碎强度测试中，使用图7和8所示的测试设备701来测试屏幕保护物101。利用粘合剂211，将屏幕保护物101始终安装在装置227(例如，设计对其进行保护的装置227)的安装表面228上，其中，装置227的安装表面228包括与玻璃基片材103的第二主表面207基本相同的轮廓。将包括屏幕保护物101并且该屏幕保护物101被安装在装置227上的设备固定在载体713中。如图所示，载体713可包括板715和夹具717a、717b，所述板715支承屏幕保护物101的重量，所述夹具717a、717b防止测试期间屏幕保护物101在载体713上移动。载体713可移动地安装在枢轴关节719上，所述枢轴关节719用于调整由载体713限定的平面与探针轴线711之间的角。枢轴关节719允许载体713沿着x-y-z方向分量枢转，如图7的枢转箭头所示，并且在期望时可被锁定以防止进一步的调整。探针轴线711在测试位置803处射到屏幕保护物101的第一主表面105，所述测试位置803在屏幕保护物101的长度111的方向或宽度113的方向上，距离玻璃基基材103的外周围边缘107、407、507、607的外周围表面205、413、513、613的最外周围范围(例如，514)3mm。探针703包括外尖端705，其在探针轴线711上，并且在探针轴线711的方向上，处于最靠近载体713的位置处。外尖端705由探针703的两个会聚平面表面形成，所述两个会聚平面表面在向着外尖端705的方向上以一定的倾斜角逐渐变窄，以限定沿着外尖端705的宽度延伸的外尖端705的接触区域。探针703的倾斜角为30.17°，并且该倾斜角被探针轴线711平分。探针703包括从探针703的外尖端705延伸0.25mm的端部，并且表面积为1.4mm²。探针703附接于力传感器707，其连接到显示器709，显示器709显示当前由探针703施加在屏幕保护物101上的载荷。对探针703进行取向，以使得外尖端705的宽度方向基本上垂直于受测试的边缘。

测试方法的第一步是将设备固定在载体713中，所述设备包括屏幕保护物101并且所述屏幕保护物101通过粘合剂211安装于装置227的安装表面228。而且，调整载体713以使探针轴线711在测试位置803处以入射角射在屏幕保护物101的玻璃基基材103上，所述入射角在测试位置803处垂直于屏幕保护物101的第一主表面105、403、503、603。第二步是沿着探针轴线711移动探针703直到探针703的外尖端705触碰屏幕保护物101的玻璃基基材103，以及向屏幕保护物101施加预定的测试载荷，如显示器709所显示的。第三步是通过测试位置803的开裂来确定屏幕保护物101是否失效，所述失效可利用视觉检查以寻找宏观裂纹，听裂纹的声音，或者监测显示器709的关于指示开裂的信号来确定。如果屏幕保护物101开裂了，则仅剩最后一步。否则，第四步是确定目前的预定测试载荷的值是否等于预定最大载荷。如果目前的预定测试载荷值等于预定最大载荷，则仅剩最后一步。否则，以预定的速率增加预定测试载荷，并且使所述方法回到第二步。当达到测试方法的最后一步时，屏幕保护物101或者因为在测试位置803处开裂而失效，或者达到了预定的最大载荷。接着，在最后一步中，可基于测试结束时显示器709显示的值来计算失效载荷。如果屏幕保护物101失效，则失效载荷可以是单个值。否则，测试方法确定了失效载荷的下限[例如，大于或等于50牛顿(N)，至少50N]。还可利用在测试结束时与屏幕保护物101接触的探针703的面积来计算屏幕保护物101的外周围边缘107、407、507、607(作为包括屏幕保护物101的设备的部分，所述屏幕保护物101通过粘合剂211被安装在装置227的安装表面228上)的压碎强度。除非另外指示，否则预定的速率为10N/min，并且预定的最大载荷大于或等于约200牛顿(N)。所报告的平均边缘压碎强度值基于针对10个压碎强度测量的平均值而言的失效载荷计。在一些实施方式中，屏幕保护物101可包括以下平均压碎强度：大于或等于约50牛顿(N)，大于或等于约100N，大于或等于约150N，或者大于或等于约200N，小于或等于约500N，小于或等于约400N，或者小于或等于约300N。在一些实施方式中，所述屏幕保护物101可包括以下范围内的平均压碎强度：约50N至约500N，约100N至约500N，约150N至约200N，约250N至约500N，约50N至约400N，约100N至约400N，约150N至约400N，约200N至约400N，约50N至约300N，约100N至约300N，约150N至约300N，约200N至约300N，以及其间的所有范围和子范围。

压碎强度测试和设备的其他细节可在题为“Methods and Apparatus forDetermining a Crush Strength of an Edge(确定边缘的压碎强度的方法和设备)”，申请号为__________的同时提交的专利申请中找到，所述文献通过引用全文纳入本文。

实施例

通过以下三个实施例将进一步阐明各个实施方式。

实施例A包括非强化玻璃基基材，其中，长度为约143mm，宽度为约70mm，并且厚度为约330μm。该玻璃基基材的第一主表面的周围部分包括宽度为约300μm且高度为约50μm的平坦表面。边缘包括高度为约230μm(玻璃基基材的约70％的厚度)的外周围部分，以及凹切处，所述凹切处包含约50μm的高度，约50μm的宽度，以及约50nm的表面粗糙度(Ra)。屏幕保护物还包括粘合剂，其厚度为约180μm，并且偏离约130μm。实施例A展现出约325MPa的B10边缘强度以及约65N的边缘的平均压碎强度。

实施例B包括非强化玻璃基基材，其中，长度为约158mm，宽度为约78mm，并且厚度为约350μm。该玻璃基基材的第一主表面的周围部分包括宽度为约440μm且高度为约70μm的弯曲表面。边缘包括高度为约230μm(玻璃基基材的约65％的厚度)的外周围部分，以及凹切处，所述凹切处包含约50μm的高度，约50μm的宽度，以及约50nm的表面粗糙度(Ra)。屏幕保护物还包括粘合剂，其厚度为约120μm，并且偏离约80μm。实施例B展现出约375MPa的B10边缘强度以及约80N的边缘的平均压碎强度。

实施例C与实施例B相同，但是实施例C包括CT为约48MPa的经强化的玻璃基基材。实施例C展现出约475MPa的B10边缘强度以及约110N的边缘的平均压碎强度。

基于这些示例性实施例，应该清楚的是，对玻璃基基材进行强化可显著增加屏幕保护物边缘的边缘强度和压碎强度。例如，相对于实施例B，由于实施例C的强化，边缘强度增加了约150MPa，并且压碎强度增加了约30N。不希望囿于理论，边缘强度和压碎强度二者强烈取决于本体中的玻璃基基材厚度(即，厚度117)，以及边缘处的玻璃基基材厚度(即，外周围表面205的高度219)。例如，实施例B的压碎强度和边缘强度大于实施例A，并且实施例B的玻璃基基材厚度比实施例A中的玻璃基基材厚度大大约20μm。因此，可以有利的是，对于预定的玻璃基基材厚度，使玻璃基基材边缘的外周围部分的高度最大化。同样地，通过对凹切处进行抛光以包括小于50nm的表面粗糙度(Ra)，边缘强度和压碎强度二者相对于实施例A或实施例B可以得到增加。不希望囿于理论，对凹切处进行抛光可移除玻璃中的表面瑕疵，如格里菲斯(Griffith)方程所描述的，这些表面瑕疵可造成失效，并且获得更光滑的凹切表面可减少该区域中的应力集中。由于粘合剂接触用于四点弯曲测试的PTFE基材，因此屏幕保护物的边缘强度对粘合剂厚度和偏离基本上可以不敏感。另一方面，压碎强度可对粘合剂厚度更加敏感。不希望囿于理论，较低的粘合剂厚度可以限制玻璃基基材的变形，这是因为在测试压碎强度期间，具有较少的粘合剂经历塑性变形或移位。例如，实施例B的压碎强度和边缘强度均大于实施例A的相应值，并且实施例B的粘合剂厚度和偏离比实施例A的更小。而且，样品之间的压碎强度之间的百分比差异(约23％)比样品之间的边缘强度之间的百分比差异(约13％)更大，这符合相比于边缘强度，压碎强度对粘合剂性质更加敏感。

在一些实施方式中，当粘合剂厚度小于对应实施例的对应粘合剂厚度时，压碎强度可以比实施例A或实施例B/C的更高。类似地，当偏离减小时，压碎强度可以相对于实施例A或实施例B而增加。不希望囿于理论，减小偏离可以减少悬伸的玻璃基基材的部分，而悬伸的玻璃基基材的部分可促使在压碎测试期间失效。

本文所用的方向术语，例如上、下、右、左、前、后、顶、底，仅仅是参照绘制的附图而言，并不用来表示绝对的取向。

除非另外指出，否则如本文所用的术语“包括”和“包含”及其变化形式应被解释为是同义的并且是开放式的。

本文所用的术语“该”、“一个”或“一种”表示“至少一个(一种)”，并且不应局限为“仅一个(一种)”，除非有明确相反的说明。因此，例如，提到的“一个部件”包括具有两个或更多个这类部件的实施方式，除非上下文有另外明确的表示。

如本文所用，术语“约”指量、尺寸、公式、参数和其他数量和特征不是精确的且无需精确的，但可按照要求是大致的和/或更大或者更小，如反映公差、转化因子、四舍五入、测量误差等，以及本领域技术人员所知的其他因子。当使用术语“约”来描述范围的值或端点时，应理解本公开包括所参考的具体值或者端点。无论说明书中的范围的数值或端点是否使用“约”列举，范围的数值或端点旨在包括两种实施方式：一种用“约”修饰，另一种未用“约”修饰。还应理解，每个范围的端点在与另一个端点有关及独立于另一个端点时都是重要的。

本文所用的术语“基本”、“基本上”及其变化形式旨在表示所述的特征等于或近似等于一数值或描述。例如，“基本上平面”的表面旨在表示表面是平面或大致表面。此外，如上文所定义，“基本上相似”旨在表示两个值相等或近似相等。在一些实施方式中，“基本上相似”可以表示彼此相差在约10％以内的值，例如彼此相差在约5％以内，或彼此相差在约2％以内的值。

以上实施方式及这些实施方式的特征是示例性的，并且可单独或与本文提供的其他实施方式的任意一个或多个特征以任意形式组合来提供而不会偏离本公开的范围。

对本领域的技术人员而言，显而易见的是，可以对本公开进行各种修改和变动而不偏离本公开的范围和精神。因此，本公开意在涵盖该公开内容的修改和变动，只要这些修改和变动在所附权利要求和其等同内容的范围之内。