具体实施方式

以下，对作为本发明的一例的实施方式进行详细说明。

＜电子照相感光体＞

本实施方式的电子照相感光体(以下也简称为“感光体”)具有导电性基体及设置于导电性基体上的感光层，且最表面层含有含氟树脂粒子与具有氟化烷基的氟系接枝聚合物，最表面层中的氟系接枝聚合物中的游离的氟系接枝聚合物的量的比例为15％以下。

本实施方式的感光体的带电维持性优异。其理由推测如下。

如上所述，于在电子照相感光体的最表面层中含有含氟树脂粒子与氟系接枝聚合物的情况下，若存在大量的未吸附于含氟树脂粒子而游离的氟系接枝聚合物，则存在如下情况：所述氟系接枝聚合物会在最表面层的表面侧渗出，带电维持性会降低。

因此，本发明人等人发现通过将最表面层中的氟系接枝聚合物中的游离的氟系接枝聚合物的量设为特定值以下，可抑制由所述氟系接枝聚合物的渗出引起的带电维持性的降低，从而完成了本发明。

本实施方式的感光体含有含氟树脂粒子与氟系接枝聚合物，而且在最表面层中，自含氟树脂粒子游离的状态的氟系接枝聚合物少，因此认为带电维持性优异。

另外，由于在最表面层中，自含氟树脂粒子游离的状态的氟系接枝聚合物少，因此认为最表面层的表面性状稳定化，也可有效地表现出由含氟树脂粒子引起的清洁性的良化效果。其结果，认为本实施方式的感光体的清洁性也优异。

[氟系接枝聚合物的游离率]

在本实施方式的感光体中，最表面层中的氟系接枝聚合物中的自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物的比例(以下也简称为“游离率”)为15％以下。

就提高带电维持性的观点而言，所述游离率的值以小为宜，例如优选为10％以下，更优选为5％以下。

此外，所述游离率的下限例如为1％。

本实施方式的游离率可利用以下方法来求出。

首先，自感光体剥离去除任意部位处的最表面层10g，将其与溶剂(具体而言，例如为四氢呋喃(Tetrahydrofuran，THF))30g混合并搅拌180分钟。搅拌结束后，利用离心分离机(仓敷纺绩(KURABO)公司制造，FB-4000)对混合液施加12,000rpm/5分钟的离心分离来进行固液分离。

此处，由于自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物溶解于溶剂(THF)中，因此存在于固液分离后的液体侧。即，在本实施方式中，所谓“自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物”是指在所述混合搅拌中溶解于溶剂(THF)中的氟系接枝聚合物。

继而，利用以下的方法来测定存在于固液分离后的液体侧(即，溶解于THF中)的氟系接枝聚合物的量(A)。

使固液分离后的液体(即，上清液)通过孔径0.45μm的过滤器后，在以下的条件下，利用凝胶渗透色谱法(Gel Permeation Chromatography，GPC)进行测定。

·装置：东曹(Tosoh)(股)制造，HLC-8120

·管柱：东曹(Tosoh)(股)制造，TSKgel SuperHM-H

·管柱温度：40℃

·溶离液：THF

接着，利用以下的方法来测定最表面层中所含的吸附于含氟树脂粒子的氟系接枝聚合物与自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物的总量(即，最表面层中所含的所有氟系接枝聚合物的量)。

首先，自感光体剥离去除任意部位处的最表面层10g，与甲苯、二甲苯等芳香族烃；氟碳、全氟碳、氢氯氟碳、二氯甲烷、氯仿等卤素溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯溶剂；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环戊酮等酮溶剂；或者将两种以上的所述溶剂混合而成的混合溶剂30g混合，在100℃下进行加热并搅拌180分钟。搅拌结束后，利用离心分离机(仓敷纺绩(KURABO)公司制造，FB-4000)对混合液施加12,000rpm/5分钟的离心分离来进行固液分离。

通过经过所述方法，吸附于含氟树脂粒子的氟系接枝聚合物与自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物这两者溶解于溶解中而存在于固液分离后的液体侧。

继而，利用以下的方法来测定存在于固液分离后的液体侧(即，溶解于所述溶剂中)的氟系接枝聚合物的量(B)。

使固液分离后的液体(即，上清液)通过孔径0.45μm的过滤器后，在以下的条件下，利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定。

·装置：东曹(Tosoh)(股)制造，HLC-8120

·管柱：东曹(Tosoh)(股)制造，TSKgel SuperHM-H

·管柱温度：40℃

·溶离液：THF

基于利用所述方法而获得的自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物的量(A)及自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物与吸附于含氟树脂粒子的表面的氟系接枝聚合物的总量(B)，并根据以下式来测定游离率。

游离率(质量％)＝[氟系接枝聚合物的量(A)]/[氟系接枝聚合物的量(B)]×100

所述游离率可通过以下方法来控制：使用相对于含氟树脂粒子的吸附性(尤其是维持吸附的性能)优异的氟系接枝聚合物的方法、控制相对于含氟树脂粒子的氟系接枝聚合物的含有率的方法等。

以下，对本实施方式的感光体进行详细说明。

[最表面层]

在本实施方式的感光体中，最表面层含有含氟树脂粒子与具有氟化烷基的氟系接枝聚合物。

符合感光体的最表面层的有电荷传输层、保护层或单层型感光层。最表面层中，根据其层种类而含有含氟树脂粒子及氟系接枝聚合物以外的其他成分。此外，关于其他成分，与感光体各层的构成一起进行说明。

[含氟树脂粒子]

作为含氟树脂粒子，可列举：氟烯烃的均聚物的粒子；作为使用两种以上的单体的共聚物的氟烯烃的一种或两种以上与非氟系的单体(即，不具有氟原子的单体)的共聚物的粒子。

作为氟烯烃，例如可列举：四氟乙烯(也称为TFE(tetrafluoroethylene))、全氟乙烯基醚、六氟丙烯(也称为HFP(hexafluoropropylene))、氯三氟乙烯(也称为CTFE(chlorotrifluoroethylene))等全氟烯烃；偏二氟乙烯(也称为VdF(vinylidenefluoride))、三氟乙烯、氟乙烯等非全氟烯烃等。这些之中，优选为VdF、TFE、CTFE、HFP等。

另一方面，作为非氟系的单体，例如可列举：乙烯、丙烯、丁烯等烃(hydrocarbon)系烯烃；环己基乙烯基醚(也称为CHVE(cyclohexyl vinyl ether))、乙基乙烯基醚(也称为EVE(ethyl vinyl ether))、丁基乙烯基醚、甲基乙烯基醚等烷基乙烯基醚；聚氧乙烯烯丙基醚(也称为POEAE(polyoxyethylene allyl ether))、乙基烯丙基醚等烯基乙烯基醚；乙烯基三甲氧基硅烷(也称为VSi)、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(甲氧基乙氧基)硅烷等具有反应性α,β-不饱和基的有机硅化合物；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯等甲基丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、“拜奥瓦(beova)”(商品名，壳牌(Shell)公司制造的乙烯酯)等乙烯酯等。这些之中，优选为烷基乙烯基醚、乙烯酯、具有反应性α,β-不饱和基的有机硅化合物。

这些之中，作为含氟树脂粒子，优选为氟化率高的粒子，更优选为聚四氟乙烯(也称为PTFE(polytetrafluoroethylene))、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(也称为FEP)、四氟乙烯-全氟(烷基乙烯基醚)共聚物(也称为PFA)、乙烯-四氟乙烯共聚物(也称为ETFE)、乙烯-氯三氟乙烯共聚物(也称为ECTFE)等的粒子，尤其优选为PTFE、FEP、PFA的粒子。

作为含氟树脂粒子，可列举照射放射线而获得的粒子(以下也称为“放射线照射型含氟树脂粒子”)、通过聚合法而获得的粒子(以下也称为“聚合型含氟树脂粒子”)等。

所谓放射线照射型含氟树脂粒子表示在放射线聚合的同时粒状化的含氟树脂粒子及聚合后的含氟树脂因由放射线照射引起的分解而低分子量化且微粒化的含氟树脂粒子。

放射线照射型含氟树脂粒子通过空气中的放射线的照射而生成大量的羧酸，因此在制造过程中，大多成为包含作为副产物的具有羧基的低分子化合物(例如全氟辛酸等)的粒子。

另一方面，所谓聚合型含氟树脂粒子表示通过悬浮聚合法、乳化聚合法等，在聚合的同时粒状化，且未经放射线照射的含氟树脂粒子。

此外，利用悬浮聚合法的含氟树脂粒子的制造，例如是在分散介质中，将聚合引发剂、催化剂等添加物与用来形成含氟树脂的单体一起悬浮后，一边使单体聚合，一边使聚合物粒子化的方法。

另外，利用乳化聚合法的含氟树脂粒子的制造，例如是在分散介质中，将聚合引发剂、催化剂等添加物与用来形成含氟树脂的单体一起，利用表面活性剂(即乳化剂)乳化后，一边使单体聚合，一边使聚合物粒子化的方法。

由于使用如上所述的聚合法，因此聚合型含氟树脂粒子与放射线照射型含氟树脂粒子不同，不易成为包含具有羧基的低分子化合物的粒子。

最表面层中所含的含氟树脂粒子可为放射线照射型含氟树脂粒子，也可为聚合型含氟树脂粒子。

但是，若含氟树脂粒子为包含具有羧基的低分子化合物的粒子，则存在如下情况：所述低分子化合物自身也会渗出，成为带电维持性降低的要因。

因此，作为最表面层中所含的含氟树脂粒子，就带电维持性的观点而言，优选为聚合型含氟树脂粒子或放射线照射型含氟树脂粒子且为减低了副产物的含量的粒子。

含氟树脂粒子的一次粒子的个数平均粒径并无特别限制，优选为0.05μm以上且1μm以下，更优选为0.1μm以上且0.5μm以下。

含氟树脂粒子的个数平均粒径是通过以下方法而测定的值。

首先，自含有含氟树脂粒子的最表面层制作试样片。针对所获得的试样片，利用扫描式电子显微镜(Scanning Electron Microscope，SEM)，以例如5000倍以上的倍率进行观察，测定一次粒子状态的含氟树脂粒子的最大直径，并对50个粒子进行所述测定。求出50个的一次粒子状态的含氟树脂粒子的最大直径的平均值并设为所述个数平均粒径。

此处，作为SEM，使用日本电子制造的JSM-6700F，观察加速电压5kV的二次电子图像。

相对于最表面层的总固体成分，含氟树脂粒子的含量优选为1质量％以上且30质量％以下，更优选为3质量％以上且20质量％以下，进而优选为5质量％以上且15质量％以下。

[氟系接枝聚合物]

接着，对氟系接枝聚合物进行说明。

本实施方式的氟系接枝聚合物为具有氟化烷基的氟系接枝聚合物，且作为含氟分散剂而有助于含氟树脂粒子的分散性。

氟系接枝聚合物并无特别限制，优选为包含具有氟化烷基的构成单元A与具有接枝链的构成单元B，其中，优选为包含具有碳数2以上且8以下的氟化烷基的构成单元A与具有接枝链的构成单元B。

此处，所谓接枝链是指结合于主链(也称为主干)的接枝高分子链，且是指包含构成单元的链。

尤其是就达成如上所述的游离率的观点而言，氟系接枝聚合物优选为包含具有碳数2以上且8以下的氟化烷基的构成单元A与具有接枝链的构成单元B，且红外吸收光谱中的波数1020cm^-1以上且波数1308cm^-1以下的范围的峰值面积S₂相对于波数1673cm^-1以上且波数1779cm^-1以下的范围的峰值面积S₁的比(S₂/S₁)为2.7以上且4.8以下(更优选为2.9以上且3.9以下)。

所述波数1020cm^-1以上且波数1308cm^-1以下的范围的峰值相当于源自氟系接枝聚合物的氟成分的峰值。即，所述峰值的峰值面积S₂相当于氟系接枝聚合物的氟成分量。另一方面，所述波数1673cm^-1以上且波数1779cm^-1以下的范围的峰值相当于源自氟系接枝聚合物的酯骨架(即包含＞C＝O的骨架)的峰值。即，所述峰值的峰值面积S₁相当于氟系接枝聚合物的酯骨架量。因此，所述两者的峰值面积比(S₂/S₁)相当于氟系接枝聚合物的氟成分量与酯骨架量的比率。

并且，峰值面积比(S₂/S₁)为所述范围的氟系接枝聚合物与含氟树脂粒子的亲和性高，容易达成如上所述的游离率。另外，由于峰值面积比(S₂/S₁)为所述范围的氟系接枝聚合物与含氟树脂粒子的亲和性优异，因此有效地表现出由氟系接枝聚合物所引起的位阻，含氟树脂粒子的分散稳定化也提高。

氟系接枝聚合物的红外吸收光谱通过以下所示的方法来测定。

首先，将作为测定对象的氟系接枝聚合物制成粉末状或膜状而制作衰减全反射(AttenuatedTotal Reflection，ATR)法(全反射测定法)用测定试样。然后，针对测定试样，利用红外分光光度计(日本分光股份有限公司制造：傅里叶变换红外光谱仪(FourierTransform InfraredSpectrometer，FT/IR)-6100，带有ATR单元、硒化锌(ZnSe)窗材料)，在累计次数64次、分辨率4cm^-1的条件下测定波数650cm^-1以上且4000cm^-1以下的范围，然后进行ATR校正而获得红外吸收光谱。

并且，求出波数1673cm^-1以上且波数1779cm^-1以下的范围的峰值面积作为氟系接枝聚合物中的羰基。同样地，求出波数1020cm^-1以上且波数1308cm^-1以下的范围的峰值面积作为氟系接枝聚合物的C-F基与C-O-C基的和。

作为所述氟系接枝聚合物，例如可列举至少将具有氟化烷基(优选为碳数2以上且8以下的氟化烷基)的单体与不具有氟化烷基且具有酯基的单体共聚而成的聚合物作为优选例。

更具体而言，作为所述氟系接枝聚合物，可列举具有氟化烷基(优选为碳数2以上且8以下的氟化烷基)的(甲基)丙烯酸酯与不具有氟化烷基且具有酯基(＞C＝O)的单体的无规或嵌段共聚物等。此处，所谓(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者。

作为具有氟化烷基的(甲基)丙烯酸酯，例如可列举：(甲基)丙烯酸-2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸-2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸全氟己基乙酯。

作为不具有氟化烷基且具有酯基(＞C＝O-)的单体，例如可列举：甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯以及公知的大分子单体。

作为公知的大分子单体，可列举：东亚合成(股)制造的大分子单体AA-6(末端基为甲基丙烯酰基的聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基为甲基丙烯酰基的聚苯乙烯)、AN-6S(末端基为甲基丙烯酰基的苯乙烯与丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基为甲基丙烯酰基的聚丙烯酸丁酯)、大赛璐(DAICEL)(股)制造的普拉克塞露(Placcel)FM5(甲基丙烯酸-2-羟基乙酯的ε-己内酯5摩尔当量附加品)、FA10L(丙烯酸-2-羟基乙酯的ε-己内酯10摩尔当量附加品)及日本专利特开平2-272009号公报中记载的聚酯系大分子单体等。

作为氟系接枝聚合物，尤其优选为具有下述通式(FA)所表示的结构单元与下述通式(FB)所表示的结构单元的含氟化烷基聚合物。

[化1]

通式(FA)及通式(FB)中，R^F1、R^F2、R^F3及R^F4各自独立地表示氢原子或烷基。

X^F1表示亚烷基链、卤素取代亚烷基链、-S-、-O-、-NH-或单键。

Y^F1表示亚烷基链、卤素取代亚烷基链、-(C_fxH_2fx-1(OH))-或单键。

Q^F1表示-O-或-NH-。

fl及fm表示由括号包围的构成单元相对于氟系接枝聚合物的总构成单元的含有率[质量％]。

fn表示由括号包围的构成单元的数量且为1以上的整数。

fp、fq、fr及fs各自独立地表示0或1以上的整数。

ft表示1以上且7以下的整数。

fx表示1以上的整数。

通式(FA)及通式(FB)中，作为表示R^F1、R^F2、R^F3及R^F4的基，优选为氢原子、甲基、乙基、丙基等，更优选为氢原子、甲基，进而优选为甲基。

通式(FA)及通式(FB)中，作为表示X^F1及Y^F1的亚烷基链(未经取代的亚烷基链、卤素取代亚烷基链)，优选为碳数1以上且10以下的直链状或分支状的亚烷基链。

表示Y^F1的-(C_fxH_2fx-1(OH))-中的fx优选为表示1以上且10以下的整数。

fp、fq、fr及fs优选为各自独立地表示0或1以上且10以下的整数。

fn例如优选为1以上且60以下。

通式(FA)中，就达成如上所述的游离率的观点而言，ft优选为3以上且5以下的整数。

另外，在将fl+fm设为100[质量％]时，fl优选为30[质量％]以上且45[质量％]以下，更优选为35[质量％]以上且45[质量％]以下。

此处，氟系接枝聚合物优选为包含具有氟化烷基的构成单元A与具有接枝链的构成单元B的二元系共聚物，更具体而言，优选为包含通式(FA)所表示的结构单元与通式(FB)所表示的结构单元的二元系共聚物。

此处，在含氟化烷基聚合物中，在将fl+fm设为100[质量％]时，优选为fl为30[质量％]以上且45[质量％]以下，fm为55[质量％]以上且70[质量％]以下，更优选为fl为35[质量％]以上且45[质量％]以下，fm为55[质量％]以上且65[质量％]以下。

氟系接枝聚合物除通式(FA)所表示的结构单元与通式(FB)所表示的结构单元以外，也可还具有通式(FC)所表示的结构单元。

[化2]

通式(FC)中，R^F5及R^F6各自独立地表示氢原子或烷基。fz表示1以上的整数。

通式(FC)中，作为表示R^F5及R^F6的基，优选为氢原子、甲基、乙基、丙基等，更优选为氢原子、甲基，进而优选为甲基。

相对于通式(FA)及通式(FB)所表示的结构单元的合计质量，通式(FC)所表示的结构单元的含有率优选为8质量％以下，更优选为4质量％以下。

通式(FC)所表示的结构单元的含有率的下限值例如为0质量％。

就提高含氟树脂粒子的分散性的观点及达成如上所述的游离率的观点而言，氟系接枝聚合物的重量平均分子量Mw优选为6万以上且20万以下，更优选为7万以上且14万以下，进而优选为7.5万以上且12.5万以下。

氟系接枝聚合物的重量平均分子量Mw是通过凝胶渗透色谱法(GPC)而测定的值。例如，使用东曹(Tosoh)制造的GPC·HLC-8120作为测定装置，并使用东曹(Tosoh)制造的管柱·TSKgel GMHHR-M+TSKgel GMHHR-M(7.8mm I.D.30cm)，在四氢呋喃溶媒中进行利用GPC的分子量测定，根据所述测定结果，使用通过单分散聚苯乙烯标准试样而制作的分子量校准曲线来算出。

相对于含氟树脂粒子，氟系接枝聚合物的含量例如优选为1质量％以上且10质量％以下，更优选为1质量％以上且7质量％以下。

此外，氟系接枝聚合物可单独使用一种或并用两种以上。

[全氟辛酸]

在本实施方式的感光体中，最表面层含有氟系接枝聚合物附着于含氟树脂粒子的表面而成的附着有分散剂的粒子。

并且，相对于含氟树脂粒子的总质量，所述附着有分散剂的粒子中的全氟辛酸(也称为PFOA(Perfluorooctanoic acid))的含量优选为0ppb以上且25ppb以下。

即，最表面层中所含的附着有分散剂的粒子优选为不含PFOA或者即便包含PFOA，也抑制PFOA的含量。

尤其是在聚四氟乙烯粒子、改性聚四氟乙烯粒子、全氟烷基醚/四氟乙烯共聚物粒子等含氟树脂粒子的情况下，由于在其制造过程中使用PFOA或作为副产物而生成PFOA，因此大多在含氟树脂粒子中包含PFOA。

因此，为了抑制最表面层中所含的附着有分散剂的粒子中的PFOA的含量，优选为使用减低了PFOA的量的含氟树脂粒子。即，相对于含氟树脂粒子的总质量，含氟树脂粒子中的PFOA的量也优选为0ppb以上且25ppb以下。

作为减低含氟树脂粒子中的PFOA的量的方法，可列举利用纯水、碱水、醇类(甲醇、乙醇、异丙醇等)、酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮等)、酯类(乙酸乙酯等)、其他的通常的有机溶剂(甲苯、四氢呋喃等)等，对含氟树脂粒子进行充分清洗的方法。含氟树脂粒子的清洗可在室温下进行，但通过在加热下进行，可有效率地减低含氟树脂粒子中的PFOA的量。

此处，附着有分散剂的粒子中的PFOA的量可通过以下的方法来测定。

-试样的前处理-

在自含有附着有分散剂的粒子的最表面层测定PFOA的量的情况下，将最表面层浸渍于溶剂(例如四氢呋喃)中，使附着有分散剂的粒子及除不溶于溶剂的物质以外的成分溶解于溶剂(此处为四氢呋喃)中后，将所获得的溶液滴加至纯水中并将析出物过滤分离。收集此时所获得的含有PFOA的溶液。使再次过滤分离而获得的不溶物溶解于溶剂后，滴加至纯水中并将析出物过滤分离。反复进行5次收集此时所获得的含有PFOA的溶液的作业，将所有的作业中收集的水溶液作为完成前处理的水溶液。

在自含氟树脂粒子自身测定PFOA的量的情况下，对含氟树脂粒子实施与含有于最表面层的情况相同的处理，获得完成前处理的水溶液。

-测定-

针对利用所述手段而获得的完成前处理的水溶液，依据《环境水、底质、生物中的全氟辛磺酸(PFOS)全氟辛酸(PFOA)的分析岩手县环境保健研究中心》中示出的方法，进行试样液的制备、测定。

以下，参照附图对本实施方式的电子照相感光体进行说明。

图1所示的电子照相感光体7例如具有在导电性基体4上依序层叠有底涂层1、电荷产生层2及电荷传输层3的结构。电荷产生层2及电荷传输层3构成感光层5。

此外，电子照相感光体7也可为未设置底涂层1的层构成。

另外，电子照相感光体7也可为具有电荷产生层2与电荷传输层3的功能一体化的单层型感光层的感光体。在具有单层型感光层的感光体的情况下，单层型感光层可构成最表面层。

另外，电子照相感光体7也可为在电荷传输层3上或单层型感光层上具有表面保护层的感光体。在具有表面保护层的感光体的情况下，表面保护层构成最表面层。

以下，对本实施方式的电子照相感光体的各层进行详细说明。此外，省略符号来说明。

(导电性基体)

作为导电性基体，例如可列举包含金属(铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等)或合金(不锈钢等)的金属板、金属鼓及金属带等。另外，作为导电性基体，例如还可列举将导电性化合物(例如导电性聚合物、氧化铟等)、金属(例如铝、钯、金等)或合金涂布、蒸镀或层压而成的纸、树脂膜、带等。此处，所谓“导电性”是指体积电阻率未满10¹³Ω·cm。

在将电子照相感光体用于激光打印机中的情况下，优选为对导电性基体的表面进行粗糙化，使得其中心线平均粗糙度Ra为0.04μm以上且0.5μm以下，以便抑制在照射激光光时所产生的干涉条纹。此外，在将非相干光用于光源中的情况下，并不特别需要用于防止干涉条纹的表面粗糙化，但其抑制由导电性基体的表面凹凸引起的缺陷的产生，因此适合更长寿命化。

作为表面粗糙化的方法，例如可列举：通过使研磨剂悬浮于水中并喷附于导电性基体上而进行的湿式珩磨(honing)、将导电性基体压接于旋转的磨石并连续进行磨削加工的无心磨削、阳极氧化处理等。

作为表面粗糙化的方法，还可列举如下方法：不对导电性基体的表面进行粗糙化，而使导电性或半导电性粉体分散于树脂中，在导电性基体的表面上形成层，并利用分散于所述层中的粒子进行表面粗糙化。

利用阳极氧化进行的表面粗糙化处理是通过将金属制(例如铝制)的导电性基体作为阳极并在电解质溶液中进行阳极氧化而在导电性基体的表面形成氧化膜。作为电解质溶液，例如可列举硫酸溶液、草酸溶液等。但是，通过阳极氧化而形成的多孔阳极氧化膜在维持原样的状态下有化学活性，且容易被污染，由环境引起的电阻变动也大。因此，优选为对多孔阳极氧化膜进行封孔处理：在加压水蒸气或沸水中(也可加入镍等金属盐)，利用由水合反应引起的体积膨胀将氧化膜的微细孔堵塞，从而变为更稳定的水合氧化物。

阳极氧化膜的膜厚例如优选为0.3μm以上且15μm以下。若所述膜厚处于所述范围内，则存在发挥相对于注入而言的阻隔性的倾向，另外存在抑制因反复使用所引起的残余电位上升的倾向。

也可对导电性基体实施利用酸性处理液的处理或者勃姆石(boehmite)处理。

利用酸性处理液的处理例如以如下方式实施。首先，制备包含磷酸、铬酸及氢氟酸的酸性处理液。关于酸性处理液中的磷酸、铬酸及氢氟酸的调配比例，例如磷酸为10质量％以上且11质量％以下的范围、铬酸为3质量％以上且5质量％以下的范围、氢氟酸为0.5质量％以上且2质量％以下的范围，这些酸整体的浓度宜为13.5质量％以上且18质量％以下的范围。处理温度例如优选为42℃以上且48℃以下。被膜的膜厚优选为0.3μm以上且15μm以下。

关于勃姆石处理，例如是将所述导电性基体在90℃以上且100℃以下的纯水中浸渍5分钟至60分钟、或者使其与90℃以上且120℃以下的加热水蒸气接触5分钟至60分钟来进行。被膜的膜厚优选为0.1μm以上且5μm以下。也可进一步对其使用己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等被膜溶解性低的电解质溶液进行阳极氧化处理。

(底涂层)

底涂层例如为包含无机粒子与粘结树脂的层。

作为无机粒子，例如可列举粉体电阻(体积电阻率)10²Ω·cm以上且10¹¹Ω·cm以下的无机粒子。

这些之中，作为具有所述电阻值的无机粒子，例如宜为氧化锡粒子、氧化钛粒子、氧化锌粒子、氧化锆粒子等金属氧化物粒子，尤其优选为氧化锌粒子。

无机粒子的利用BET法所得的比表面积例如宜为10m²/g以上。

无机粒子的体积平均粒径例如宜为50nm以上且2000nm以下(优选为60nm以上且1000nm以下)。

相对于粘结树脂，无机粒子的含量例如优选为10质量％以上且80质量％以下，更优选为40质量％以上且80质量％以下。

无机粒子也可实施表面处理。关于无机粒子，也可将表面处理不同者或粒径不同者混合两种以上来使用。

作为表面处理剂，例如可列举：硅烷偶联剂、钛酸酯系偶联剂、铝系偶联剂、表面活性剂等。尤其优选为硅烷偶联剂，更优选为具有氨基的硅烷偶联剂。

作为具有氨基的硅烷偶联剂，例如可列举：3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等，但并不限定于这些。

硅烷偶联剂也可混合两种以上来使用。例如也可将具有氨基的硅烷偶联剂与其他硅烷偶联剂并用。作为所述其他硅烷偶联剂，例如可列举：乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等，但并不限定于这些。

利用表面处理剂的表面处理方法只要是公知的方法，则可为任意方法，可为干式法或湿式法中的任一者。

相对于无机粒子，表面处理剂的处理量例如优选为0.5质量％以上且10质量％以下。

此处，就提高电气特性的长期稳定性、载流子阻隔性的观点而言，宜为底涂层含有无机粒子及电子接受性化合物(受体化合物)。

作为电子接受性化合物，例如可列举：氯醌、溴醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物；2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑等噁二唑系化合物；呫吨酮系化合物；噻吩化合物；3,3',5,5'-四-叔丁基联苯醌等联苯醌化合物；等电子传输性物质等。

尤其，作为电子接受性化合物，优选为具有蒽醌结构的化合物。作为具有蒽醌结构的化合物，例如优选为羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物、氨基羟基蒽醌化合物等，具体而言，例如优选为蒽醌、茜素(alizarin)、醌茜(quinizarin)、蒽绛酚(anthrarufin)、红紫素(purpurin)等。

电子接受性化合物可与无机粒子一同分散并包含于底涂层中，或者也可在附着于无机粒子表面的状态下包含于底涂层中。

作为使电子接受性化合物附着于无机粒子表面的方法，例如可列举干式法或湿式法。

干式法例如为如下方法：一面利用剪切力大的搅拌机等搅拌无机粒子，一面直接滴加电子接受性化合物或者滴加溶解于有机溶媒中的电子接受性化合物，并将其与干燥空气、氮气一同喷雾，从而将电子接受性化合物附着于无机粒子的表面。在电子接受性化合物的滴加或喷雾时，宜为在溶剂的沸点以下的温度下进行。也可在将电子接受性化合物滴加或喷雾后进一步在100℃以上进行焙烤。关于焙烤，只要为可获得电子照相特性的温度、时间，则无特别限制。

湿式法例如为如下方法：利用搅拌、超声波、砂磨机、磨碎机(attritor)、球磨机等将无机粒子分散于溶剂中，并且添加电子接受性化合物，进行搅拌或分散后，将溶剂去除，从而将电子接受性化合物附着于无机粒子的表面。关于溶剂去除方法，例如通过过滤或蒸馏将溶剂蒸馏去除。在去除溶剂之后，也可进一步在100℃以上进行焙烤。关于焙烤，只要为可获得电子照相特性的温度、时间，则无特别限定。湿式法中，也可在添加电子接受性化合物之前将无机粒子所含的水分去除，其例子可列举：一面在溶剂中对无机粒子进行搅拌加热一面去除水分的方法、使无机粒子与溶剂共沸而去除水分的方法。

此外，电子接受性化合物的附着可在对无机粒子实施利用表面处理剂的表面处理之前或之后进行，也可使电子接受性化合物的附着和利用表面处理剂的表面处理同时进行。

相对于无机粒子，电子接受性化合物的含量例如宜为0.01质量％以上且20质量％以下，优选为0.01质量％以上且10质量％以下。

作为用于底涂层的粘结树脂，例如可列举：缩醛树脂(例如聚乙烯缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等公知的高分子化合物；锆螯合化合物；钛螯合化合物；铝螯合化合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；硅烷偶联剂等公知的材料。

作为用于底涂层的粘结树脂，例如还可列举：具有电荷传输性基的电荷传输性树脂、导电性树脂(例如聚苯胺等)等。

这些之中，作为用于底涂层的粘结树脂，适宜为不溶于上层的涂布溶剂的树脂，尤其适宜为脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等热硬化性树脂；利用选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇树脂及聚乙烯缩醛树脂所组成的群组中的至少一种树脂与硬化剂的反应而获得的树脂。

在将这些粘结树脂的两种以上组合使用的情况下，视需要对其混合比例进行设定。

为了提升电气特性、提升环境稳定性、提升画质，也可在底涂层中包含各种添加剂。

作为添加剂，可列举：多环缩合系、偶氮系等电子传输性颜料、锆螯合化合物、钛螯合化合物、铝螯合化合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等公知的材料。如上所述，硅烷偶联剂被用于无机粒子的表面处理，但也可作为添加剂进一步添加至底涂层中。

关于作为添加剂的硅烷偶联剂，例如可列举：乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等。

作为锆螯合化合物，例如可列举：锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺合锆、乙酰丙酮锆丁醇盐、乙酰乙酸乙酯锆丁醇盐、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯锆丁醇盐、硬脂酸酯锆丁醇盐、异硬脂酸酯锆丁醇盐等。

作为钛螯合化合物，例如可列举：钛酸四异丙基酯、钛酸四正丁基酯、钛酸丁基酯二聚体、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、亚辛基乙醇酸钛、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺合钛、多羟基硬脂酸钛等。

作为铝螯合化合物，例如可列举：异丙醇铝、单丁氧基二异丙醇铝、丁醇铝、二乙酰乙酸乙酯二异丙醇铝、三(乙酰乙酸乙酯)铝等。

这些添加剂可单独使用，或者也可作为多种化合物的混合物或缩聚物来使用。

底涂层的维氏硬度宜为35以上。

为了抑制云纹(moire)像，宜将底涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)调整为所使用的曝光用激光波长λ的1/(4n)(n为上层的折射率)至1/2。

为了调整表面粗糙度，也可在底涂层中添加树脂粒子等。作为树脂粒子，可列举硅酮树脂粒子、交联型聚甲基丙烯酸甲酯树脂粒子等。另外，为了调整表面粗糙度，也可对底涂层的表面进行研磨。作为研磨方法，可列举：软皮(buff)研磨、喷砂处理、湿式珩磨、磨削处理等。

底涂层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分加入至溶剂中所得的底涂层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂，可列举公知的有机溶剂，例如：醇系溶剂、芳香族烃溶剂、卤化烃溶剂、酮系溶剂、酮醇系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂等。

具体而言，这些溶剂例如可列举：甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等通常的有机溶剂。

作为制备底涂层形成用涂布液时的无机粒子的分散方法，例如可列举：辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨机、油漆搅拌器等公知的方法。

作为将底涂层形成用涂布液涂布于导电性基体上的方法，例如可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布(bead coating)法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

底涂层的膜厚例如设定于优选为15μm以上、更优选为20μm以上且50μm以下的范围内。

(中间层)

图示虽省略，但也可在底涂层和感光层之间进一步设置中间层。

中间层例如为包含树脂的层。作为用于中间层的树脂，例如可列举：缩醛树脂(例如聚乙烯缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂等高分子化合物。

中间层也可为包含有机金属化合物的层。作为用于中间层的有机金属化合物，可列举含有锆、钛、铝、锰、硅等金属原子的有机金属化合物等。

这些用于中间层的化合物可单独使用，或者也可作为多种化合物的混合物或缩聚物来使用。

这些之中，中间层优选为包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层。

中间层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分加入至溶剂中所得的中间层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为形成中间层的涂布方法，可使用浸渍涂布法、上推涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、刮板涂布法、刮刀涂布(knife coating)法、幕式涂布法等通常方法。

中间层的膜厚例如优选为设定于0.1μm以上且3μm以下的范围内。此外，也可将中间层用作底涂层。

(电荷产生层)

电荷产生层例如为包含电荷产生材料与粘结树脂的层。另外，电荷产生层也可为电荷产生材料的蒸镀层。电荷产生材料的蒸镀层适合于使用发光二极管(Light EmittingDiode，LED)、有机电致发光(Electro-Luminescence，EL)图像阵列等非相干性光源的情形。

作为电荷产生材料，可列举：双偶氮、三偶氮等偶氮颜料；二溴蒽嵌蒽醌等稠环芳香族颜料；苝颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；三方晶系硒等。

这些之中，为了应对近红外区域的激光曝光，作为电荷产生材料，优选为使用金属酞菁颜料或无金属酞菁颜料。具体而言，例如更优选为：日本专利特开平5-263007号公报、日本专利特开平5-279591号公报等中所公开的羟基镓酞菁；日本专利特开平5-98181号公报等中所公开的氯镓酞菁；日本专利特开平5-140472号公报、日本专利特开平5-140473号公报等中所公开的二氯锡酞菁；日本专利特开平4-189873号公报等中所公开的氧钛酞菁。

另一方面，为了应对近紫外区域的激光曝光，作为电荷产生材料，优选为：二溴蒽嵌蒽醌等稠环芳香族颜料；硫靛系颜料；紫菜嗪化合物；氧化锌；三方晶系硒；日本专利特开2004-78147号公报、日本专利特开2005-181992号公报中所公开的双偶氮颜料等。

当使用在450nm以上且780nm以下存在发光的中心波长的LED、有机EL图像阵列等非相干性光源时，也可使用所述电荷产生材料，但就分辨率的观点而言，当在20μm以下的薄膜中使用感光层时，感光层中的电场强度变高，容易产生来自基体的电荷注入所引起的带电降低、被称为所谓黑点的图像缺陷。所述情况在使用三方晶系硒、酞菁颜料等容易在p-型半导体中产生暗电流的电荷产生材料时变得显著。

相对于此，在使用作为电荷产生材料的稠环芳香族颜料、苝颜料、偶氮颜料等的n-型半导体的情况下，难以产生暗电流，即便制成薄膜，也能抑制被称为黑点的图像缺陷。作为n-型电荷产生材料，例如可列举日本专利特开2012-155282号公报的段落[0288]～段落[0291]中所记载的化合物(CG-1)～化合物(CG-27)，但并不限于此。

此外，n-型的判定可利用通常所使用的飞行时间(Time of Flight)法并根据流动的光电流的极性来判定，将相较于空穴而更容易使电子作为载流子流动者设为n-型。

作为用于电荷产生层的粘结树脂，可自广泛的绝缘性树脂中选择，另外，作为粘结树脂，也可自聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷等有机光导电性聚合物中选择。

作为粘结树脂，例如可列举：聚乙烯缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(双酚类与芳香族二元羧酸的缩聚物等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂、聚乙烯吡咯烷酮树脂等。此处，所谓“绝缘性”是指体积电阻率为10¹³Ω·cm以上。

这些粘结树脂可单独使用一种或混合使用两种以上。

此外，电荷产生材料与粘结树脂的调配比优选为以质量比计为10：1至1：10的范围内。

此外，在电荷产生层中也可包含众所周知的添加剂。

电荷产生层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分加入至溶剂中所得的电荷产生层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。此外，电荷产生层的形成也可通过电荷产生材料的蒸镀来进行。电荷产生层的利用蒸镀的形成尤其适合于利用稠环芳香族颜料、苝颜料作为电荷产生材料的情形。

作为用于制备电荷产生层形成用涂布液的溶剂，可列举：甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂单独使用一种或混合使用两种以上。

作为使粒子(例如电荷产生材料)分散于电荷产生层形成用涂布液中的方法，例如利用球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、卧式砂磨机等介质分散机；或者搅拌、超声波分散机、辊磨机、高压均质机等无介质分散机。作为高压均质机，例如可列举：在高压状态下使分散液进行液-液碰撞或液-壁碰撞并分散的碰撞方式、或者在高压状态下使分散液贯穿微细流路并分散的贯穿方式等。

此外，当进行所述分散时，有效的是将电荷产生层形成用涂布液中的电荷产生材料的平均粒径设为0.5μm以下、优选为0.3μm以下、进而优选为0.15μm以下。

作为将电荷产生层形成用涂布液涂布于底涂层上(或中间层上)的方法，例如可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

电荷产生层的膜厚例如设定于优选为0.1μm以上且5.0μm以下、更优选为0.2μm以上且2.0μm以下的范围内。

(电荷传输层)

电荷传输层例如为包含电荷传输材料与粘结树脂的层。电荷传输层也可为包含高分子电荷传输材料的层。

作为电荷传输材料，可列举：对苯醌、氯醌、溴醌、蒽醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮等芴酮化合物；呫吨酮系化合物；二苯甲酮系化合物；氰基乙烯基系化合物；乙烯系化合物等电子传输性化合物。作为电荷传输材料，还可列举：三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、芳基烷烃系化合物、芳基取代乙烯系化合物、二苯乙烯系化合物、蒽系化合物、腙系化合物等空穴传输性化合物。这些电荷传输材料可单独使用一种或使用两种以上，但并不限定于这些。

作为电荷传输材料，就电荷迁移率的观点而言，优选为下述结构式(a-1)所表示的三芳基胺衍生物及下述结构式(a-2)所表示的联苯胺衍生物。

[化3]

结构式(a-1)中，Ar^T1、Ar^T2及Ar^T3各自独立地表示经取代或未经取代的芳基、-C₆H₄-C(R^T4)＝C(R^T5)(R^T6)、或-C₆H₄-CH＝CH-CH＝C(R^T7)(R^T8)。R^T4、R^T5、R^T6、R^T7及R^T8各自独立地表示氢原子、经取代或未经取代的烷基、或者经取代或未经取代的芳基。

作为所述各基的取代基，可列举：卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、碳数1以上且5以下的烷氧基。另外，作为所述各基的取代基，还可列举经碳数1以上且3以下的烷基取代而成的取代氨基。

[化4]

结构式(a-2)中，R^T91及R^T92各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、或者碳数1以上且5以下的烷氧基。R^T101、R^T102、R^T111及R^T112各自独立地表示卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、碳数1以上且5以下的烷氧基、经碳数1以上且2以下的烷基取代而成的氨基、经取代或未经取代的芳基、-C(R^T12)＝C(R^T13)(R^T14)、或-CH＝CH-CH＝C(R^T15)(R^T16)，R^T12、R^T13、R^T14、R^T15及R^T16各自独立地表示氢原子、经取代或未经取代的烷基、或者经取代或未经取代的芳基。Tm1、Tm2、Tn1及Tn2各自独立地表示0以上且2以下的整数。

作为所述各基的取代基，可列举：卤素原子、碳数1以上且5以下的烷基、碳数1以上且5以下的烷氧基。另外，作为所述各基的取代基，还可列举经碳数1以上且3以下的烷基取代而成的取代氨基。

此处，在结构式(a-1)所表示的三芳基胺衍生物及所述结构式(a-2)所表示的联苯胺衍生物中，就电荷迁移率的观点而言，尤其优选为具有“-C₆H₄-CH＝CH-CH＝C(R^T7)(R^T8)”的三芳基胺衍生物及具有“-CH＝CH-CH＝C(R^T15)(R^T16)”的联苯胺衍生物。

作为高分子电荷传输材料，可使用聚-N-乙烯基咔唑、聚硅烷等具有电荷传输性的公知者。尤其优选为日本专利特开平8-176293号公报、日本专利特开平8-208820号公报等中所公开的聚酯系的高分子电荷传输材料。此外，高分子电荷传输材料可单独使用，但也可与粘结树脂并用。

用于电荷传输层的粘结树脂可列举：聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑、聚硅烷等。这些之中，作为粘结树脂，适宜为聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂。这些粘结树脂单独使用一种或使用两种以上。

此外，电荷传输材料与粘结树脂的调配比以质量比计优选为10：1至1：5。

此外，在电荷传输层中也可包含众所周知的添加剂。

电荷传输层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分加入至溶剂中所得的电荷传输层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热。

作为用于制备电荷传输层形成用涂布液的溶剂，可列举：苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烃类；丙酮、2-丁酮等酮类；二氯甲烷、氯仿、二氯乙烷等卤化脂肪族烃类；四氢呋喃、乙醚等环状或直链状的醚类等通常的有机溶剂。这些溶剂单独使用或混合使用两种以上。

作为将电荷传输层形成用涂布液涂布于电荷产生层上时的涂布方法，可列举：刮板涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、浸渍涂布法、液滴涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

电荷传输层的膜厚例如设定于优选为5μm以上且50μm以下、更优选为10μm以上且30μm以下的范围内。

(保护层)

保护层视需要而设置于感光层上。保护层例如是出于防止带电时的感光层的化学变化或进一步改善感光层的机械强度的目的而设置。

因此，保护层可应用包含硬化膜(交联膜)的层。作为这些层，例如可列举下述1)或2)所示的层。

1)包含含有在相同的分子内具有反应性基及电荷传输性骨架的含反应性基的电荷传输材料的组合物的硬化膜的层(即，包含所述含反应性基的电荷传输材料的聚合体或交联体的层)

2)包含含有非反应性的电荷传输材料、与不具有电荷传输性骨架而具有反应性基的含反应性基的非电荷传输材料的组合物的硬化膜的层(即，包含非反应性的电荷传输材料、与所述含反应性基的非电荷传输材料的聚合体或交联体的层)

作为含反应性基的电荷传输材料的反应性基，可列举：链聚合性基、环氧基、-OH、-OR[其中，R表示烷基]、-NH₂、-SH、-COOH、-SiR^Q1 _3-Qn(OR^Q2)_Qn[其中，R^Q1表示氢原子、烷基或者取代或未经取代的芳基，R^Q2表示氢原子、烷基、三烷基硅烷基；Qn表示1～3的整数]等众所周知的反应性基。

作为链聚合性基，只要为可进行自由基聚合的官能基，则并无特别限定，例如为至少具有含有碳双键的基的官能基。具体而言，可列举含有选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及这些的衍生物中的至少一个的基等。其中，就其反应性优异的方面而言，作为链聚合性基，优选为含有选自乙烯基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及这些的衍生物中的至少一个的基。

作为含反应性基的电荷传输材料的电荷传输性骨架，只要为电子照相感光体中的公知的结构，则并无特别限定，例如可列举源自三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、腙系化合物等含氮的空穴传输性化合物的骨架且为与氮原子共轭的结构。这些之中，优选为三芳基胺骨架。

这些具有反应性基及电荷传输性骨架的含反应性基的电荷传输材料、非反应性的电荷传输材料、含反应性基的非电荷传输材料可自众所周知的材料中选择。

此外，在保护层中也可包含众所周知的添加剂。

保护层的形成并无特别限制，可利用众所周知的形成方法，例如通过如下方式进行：形成将所述成分加入至溶剂中所得的保护层形成用涂布液的涂膜，对所述涂膜进行干燥，并视需要进行加热等硬化处理。

作为用于制备保护层形成用涂布液的溶剂，可列举：甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；四氢呋喃、二噁烷等醚系溶剂；乙二醇单甲醚等溶纤剂系溶剂；异丙醇、丁醇等醇系溶剂等。这些溶剂可单独使用或混合使用两种以上。

此外，保护层形成用涂布液也可为无溶剂的涂布液。

作为将保护层形成用涂布液涂布于感光层(例如电荷传输层)上的方法，可列举：浸渍涂布法、上推涂布法、线棒涂布法、喷雾涂布法、刮板涂布法、刮刀涂布法、幕式涂布法等通常方法。

保护层的膜厚例如设定于优选为1μm以上且20μm以下、更优选为2μm以上且10μm以下的范围内。

(单层型感光层)

单层型感光层(电荷产生/电荷传输层)例如为包含电荷产生材料与电荷传输材料、以及视需要的粘结树脂及其他众所周知的添加剂的层。此外，这些材料与在电荷产生层及电荷传输层中所说明的材料相同。

并且，在单层型感光层中，相对于总固体成分，电荷产生材料的含量宜为0.1质量％以上且10质量％以下，优选为0.8质量％以上且5质量％以下。另外，在单层型感光层中，相对于总固体成分，电荷传输材料的含量宜为5质量％以上且50质量％以下。

单层型感光层的形成方法与电荷产生层或电荷传输层的形成方法相同。

单层型感光层的膜厚例如宜为5μm以上且50μm以下，优选为10μm以上且40μm以下。

＜图像形成装置(及处理盒)＞

本实施方式的图像形成装置包括：电子照相感光体；带电机构，使电子照相感光体的表面带电；静电潜像形成机构，在经带电的电子照相感光体的表面形成静电潜像；显影机构，利用包含色粉的显影剂，对形成于电子照相感光体的表面的静电潜像进行显影而形成色粉图像；及转印机构，将色粉图像转印至记录介质的表面。而且，作为电子照相感光体，可应用所述本实施方式的电子照相感光体。

本实施方式的图像形成装置可应用如下等众所周知的图像形成装置：包括定影机构的装置，所述定影机构将转印至记录介质的表面的色粉图像加以定影；将形成于电子照相感光体的表面的色粉图像直接转印至记录介质的直接转印方式的装置；将形成于电子照相感光体的表面的色粉图像一次转印至中间转印体的表面，并将转移至中间转印体的表面的色粉图像二次转印至记录介质的表面的中间转印方式的装置；包括清洁机构的装置，所述清洁机构在色粉图像的转印后，对带电前的电子照相感光体的表面进行清洁；包括除电机构的装置，所述除电机构在色粉图像的转印后且带电前，对电子照相感光体的表面照射除电光而进行除电；包括电子照相感光体加热构件的装置，所述电子照相感光体加热构件用于使电子照相感光体的温度上升并减低相对温度。

在中间转印方式的装置的情况下，转印机构例如可应用如下构成，所述构成包括：中间转印体，表面供色粉图像转印；一次转印机构，将形成于电子照相感光体的表面的色粉图像一次转印至中间转印体的表面；及二次转印机构，将转印至中间转印体的表面的色粉图像二次转印至记录介质的表面。

本实施方式的图像形成装置可为干式显影方式的图像形成装置、湿式显影方式(利用液体显影剂的显影方式)的图像形成装置的任一者。

此外，在本实施方式的图像形成装置中，例如，包括电子照相感光体的部分可为相对于图像形成装置可拆装地设置的盒(cartridge)结构(处理盒)。作为处理盒，例如可适宜地使用包括本实施方式的电子照相感光体的处理盒。此外，除电子照相感光体以外，在处理盒中也可包括例如选自由带电机构、静电潜像形成机构、显影机构、转印机构所组成的群组中的至少一个。

以下示出本实施方式的图像形成装置的一例，但并不限定于此。此外，对图中所示的主要部分进行说明，其他部分省略其说明。

图2是表示本实施方式的图像形成装置的一例的概略构成图。

如图2所示，本实施方式的图像形成装置100包括具备电子照相感光体7的处理盒300、曝光装置9(静电潜像形成机构的一例)、转印装置40(一次转印装置)及中间转印体50。此外，在图像形成装置100中，曝光装置9配置于可自处理盒300的开口部对电子照相感光体7进行曝光的位置，转印装置40介隔中间转印体50而配置于与电子照相感光体7相对向的位置，中间转印体50是以其一部分与电子照相感光体7接触的方式配置。虽未图示，但也具有将转印至中间转印体50的色粉图像转印至记录介质(例如纸张)的二次转印装置。此外，中间转印体50、转印装置40(一次转印装置)及二次转印装置(未图示)相当于转印机构的一例。

图2中的处理盒300在壳体内一体地支撑着电子照相感光体7、带电装置8(带电机构的一例)、显影装置11(显影机构的一例)及清洁装置13(清洁机构的一例)。清洁装置13具有清洁刮板(清洁构件的一例)131，清洁刮板131是以与电子照相感光体7的表面接触的方式配置。此外，清洁构件并非清洁刮板131单独的方式，也可并用导电性或绝缘性的纤维状构件与清洁刮板131。

此外，图2中，作为图像形成装置，示出有包括将润滑剂14供给至电子照相感光体7的表面的纤维状构件132(辊状)及辅助清洁的纤维状构件133(平刷状)的例子，这些可视需要而配置。

以下，对本实施方式的图像形成装置的各构成进行说明。

-带电装置-

作为带电装置8，例如可利用使用导电性或半导电性的带电辊、带电刷、带电膜、带电橡胶刮板、带电管等的接触型带电器。另外，也可使用非接触方式的辊带电器、利用电晕放电的有栅格电极式(scorotron)带电器或无栅格电极式(corotron)带电器等其自身公知的带电器等。

-曝光装置-

作为曝光装置9，例如可列举将半导体激光光、发光二极管(LED)光、液晶快门光等光如所规定的像那样对电子照相感光体7表面进行曝光的光学系统设备等。光源的波长设为电子照相感光体的分光感度区域内。作为半导体激光的波长，主流是在780nm附近具有振荡波长的近红外。但是，并不限定于所述波长，也可利用600nm左右的振荡波长激光或作为蓝色激光的在400nm以上且450nm以下具有振荡波长的激光。另外，为了形成彩色图像，可输出多波束的类型的面发光型激光光源也有效。

-显影装置-

作为显影装置11，例如可列举使显影剂接触或非接触来进行显影的通常的显影装置。作为显影装置11，只要具有所述功能，则并无特别限制，可根据目的来选择。例如可列举具有如下功能的公知的显影器等：使用刷、辊等而使单组分系显影剂或双组分系显影剂附着于电子照相感光体7。其中，优选为使用将显影剂保持于表面的显影辊者。

用于显影装置11中的显影剂可为单独色粉的单组分系显影剂，也可为包含色粉与载体的双组分系显影剂。另外，显影剂可为磁性，也可为非磁性。这些显影剂可应用众所周知者。

-清洁装置-

清洁装置13可使用包括清洁刮板131的清洁刮板方式的装置。

此外，除清洁刮板方式以外，也可采用毛刷清洁方式、显影同时清洁方式。

-转印装置-

作为转印装置40，例如可列举：使用带、辊、膜、橡胶刮板等的接触型转印带电器、利用电晕放电的有栅格电极式转印带电器或无栅格电极式转印带电器等其自身公知的转印带电器。

-中间转印体-

作为中间转印体50，可使用包含赋予有半导电性的聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等的带状者(中间转印带)。另外，作为中间转印体的实施例，除带状以外，也可使用滚筒状者。

图3是表示本实施方式的图像形成装置的另一例的概略构成图。

图3所示的图像形成装置120为搭载有四个处理盒300的串联(tandem)方式的多色图像形成装置。图像形成装置120成为如下构成：四个处理盒300分别并列配置于中间转印体50上，且针对一种颜色，使用一个电子照相感光体。此外，除为串联方式以外，图像形成装置120具有与图像形成装置100相同的构成。

实施例

以下，对本发明的实施例进行说明，但本发明并不限定于以下的实施例。此外，只要无特别说明，则“份”或“％”为质量基准。

＜含氟树脂粒子的制造＞

(含氟树脂粒子(1)的制造)

如下所述，制造含氟树脂粒子(1)。

将市售的均聚四氟乙烯精细粉末(homo-polytetrafluoroethylene finepowder)(依据美国材料试验学会(American Society for Testing Material，ASTM)D4895(2004)而测定的标准比重2.175)100质量份、作为添加剂的乙醇2.8质量份采集至阻隔尼龙制的袋中。然后，在室温下且在空气中照射160kGy的钴-60γ射线，获得低分子量聚四氟乙烯粉末。将所获得的粉末粉碎，从而获得含氟树脂粒子(1)。

(含氟树脂粒子(2)的制造)

在具备搅拌机的高压釜中装入去离子水3.2升及全氟辛酸铵5.0g，进而装入作为乳化稳定剂的石蜡(日本石油(股)制造)120g，对体系内利用氮置换3次，且利用四氟乙烯(TFE)置换2次而去除氧。然后，利用TFE使内压为0.9MPa，一边以250rpm搅拌一边将内温保持为80℃。接着，向体系内装入在去离子水中溶解有过硫酸铵15mg的水溶液20ml、在去离子水中溶解有过氧化琥珀酸200mg的水溶液20ml，开始反应。反应中，以将体系内的温度保持为80℃，且高压釜的内压始终保持为0.9MPa的方式连续地供给TFE。在添加引发剂后反应中消耗的TFE达到1100g时，停止TFE的供给及搅拌，将高压釜内释放至常压，结束反应。静置冷却后，除去上清液的石蜡，之后将所述乳化液转移至具备搅拌机的不锈钢容器中，加入1.5L的去离子水，调整为15℃。向其中加入溶解有碳酸铵20g及三乙胺2g的水溶液100g，以450rpm搅拌，使含氟树脂粒子凝聚，之后通过离心分离而分离粒子。接着，加入甲醇4L并搅拌清洗30分钟后，进行过滤而清洗含氟树脂粒子。反复进行4次所述清洗操作后，在鼓风干燥机内将所获得的含氟微粒子在70℃下干燥24小时，从而制造含氟树脂粒子(2)。

关于所获得的含氟树脂粒子(1)～含氟树脂粒子(2)的一次粒子的个数平均粒径，利用如上所述的方法来测定。

将结果示于表1中。

[表1]

＜氟系接枝聚合物的制造＞

(氟系接枝聚合物(A)的制造)

如下所述，合成氟系接枝聚合物(A)。

在具备搅拌装置、回流冷却管、温度计及氮气吹入口的500mL的反应容器中加入甲基异丁基酮5质量份进行搅拌，在氮气环境下将反应容器内的溶液温度维持为80℃。使用注射器滴液泵，历时2小时向反应容器内滴加丙烯酸全氟己基乙酯9质量份、大分子单体AA-6(东亚合成股份有限公司制造)21质量份、作为聚合引发剂的帕海吉(Perhexyl)O(日油股份有限公司制造)0.3质量份、甲基异丁基酮45质量份的混合溶液。滴加结束后，再继续搅拌2小时后，将溶液温度提高至90℃，进一步搅拌2小时。

在反应后所获得的甲基异丁基酮树脂溶液中滴加甲醇400ml，使氟系接枝聚合物析出。将所析出的固体成分过滤分离后，使其干燥，从而获得氟系接枝聚合物(A)。

(氟系接枝聚合物(B)的制造)

在氟系接枝聚合物(A)的合成中，将帕海吉(Perhexyl)O的量自0.3质量份变更为0.2质量份，将甲基异丁基酮的量45质量份的量变更为40质量份，除此以外，以与氟系接枝聚合物(A)相同的方式进行合成，获得氟系接枝聚合物(B)。

(氟系接枝聚合物(C)的制造)

在氟系接枝聚合物(A)的合成中，将甲基异丁基酮的量45质量份的量变更为50质量份，除此以外，以与氟系接枝聚合物(A)相同的方式进行合成，获得氟系接枝聚合物(C)。

(氟系接枝聚合物(D)的制造)

在氟系接枝聚合物(A)的合成中，将帕海吉(Perhexyl)O的量自0.3质量份变更为0.2质量份，将甲基异丁基酮的量45质量份的量变更为50质量份，除此以外，以与氟系接枝聚合物(A)相同的方式进行合成，获得氟系接枝聚合物(D)。

(氟系接枝聚合物(E)的制造)

在氟系接枝聚合物(A)的合成中，将帕海吉(Perhexyl)O的量自0.3质量份变更为0.25质量份，除此以外，以与氟系接枝聚合物(A)相同的方式进行合成，获得氟系接枝聚合物(E)。

(氟系接枝聚合物(F)的制造)

在氟系接枝聚合物(A)的合成中，将帕海吉(Perhexyl)O的量自0.3质量份变更为0.2质量份，除此以外，以与氟系接枝聚合物(A)相同的方式进行合成，获得氟系接枝聚合物(F)。

关于所获得的氟系接枝聚合物(A)～氟系接枝聚合物(F)的重量平均分子量及红外吸收光谱中的波数1020cm^-1以上且波数1308cm^-1以下的范围的峰值面积S₂相对于波数1673cm^-1以上且波数1779cm^-1以下的范围的峰值面积S₁的比(即S₂/S₁)，利用如上所述的方法来测定。

将结果示于表2中。

[表2]

＜实施例1＞

以如下所述的方式制造感光体。

(底涂层的制作)

将氧化锌(平均粒径70nm，帝化(Tayca)公司制造，比表面积值15m²/g)100份与四氢呋喃500份搅拌混合，并添加硅烷偶联剂(KBM503，信越化学工业公司制造)1.3份，搅拌2小时。然后，通过减压蒸馏将四氢呋喃蒸馏去除，并在120℃下进行3小时焙烤，从而获得硅烷偶联剂表面处理氧化锌。

将实施了所述表面处理的氧化锌110份与500份的四氢呋喃搅拌混合，并添加使茜素0.6份溶解于50份的四氢呋喃中而成的溶液，在50℃下搅拌5小时。然后，通过减压过滤对赋予有茜素的氧化锌进行过滤分离，进而，在60℃下进行减压干燥，从而获得茜素赋予氧化锌。

将所述茜素赋予氧化锌60份、硬化剂(嵌段化异氰酸酯苏米都(Sumidur)3175，住友拜耳聚氨酯(Bayer Urethane)公司制造)13.5份、缩丁醛树脂(埃斯莱克(S-LEC)BM-1，积水化学工业公司制造)15份及甲基乙基酮85份混合而获得混合液。将所述混合液38份与甲基乙基酮25份加以混合，使用1mmφ的玻璃珠并利用砂磨机进行2小时的分散，从而获得分散液。

在所获得的分散液中添加作为催化剂的二辛基锡二月桂酸酯0.005份、硅酮树脂粒子(托斯帕尔(Tospearl)145，日本迈图高新材料(Momentive Performance MaterialsJapan)有限责任公司)45份，从而获得底涂层用涂布液。利用浸渍涂布法将所述涂布液涂布于直径47mm、长度357mm、壁厚1mm的铝基材上，在170℃下进行30分钟的干燥硬化，从而获得厚度25μm的底涂层。

(电荷产生层的制作)

针对包含作为电荷产生物质的在使用CuKα特性X射线的X射线衍射光谱的布拉格(Bragg)角度(2θ±0.2°)至少为7.3°、16.0°、24.9°、28.0°的位置具有衍射峰值的羟基镓酞菁15质量份、作为粘结树脂的氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂(VMCH，日本尤尼卡(Unicar)公司制造)10质量份及乙酸正丁酯200质量份的混合物，使用直径1mmφ的玻璃珠并利用砂磨机搅拌4小时使其分散。在所获得的分散液中添加乙酸正丁酯175质量份、甲基乙基酮180质量份，进行搅拌而获得电荷产生层形成用涂布液。将所述电荷产生层形成用涂布液浸渍涂布于底涂层上。然后，在140℃下进行10分钟干燥，从而形成膜厚0.2μm的电荷产生层。

(电荷传输层的制作)

将下述结构的电荷传输剂(HT-1)40质量份、下述结构的电荷传输剂(HT-2)8质量份及下述结构的聚碳酸酯树脂(A)(粘度平均分子量：5万)52质量份加入至四氢呋喃800质量份中进行溶解，在所述溶液中，加入含氟树脂粒子(1)8质量份与氟系接枝聚合物(B)0.24质量份(即相对于含氟树脂粒子的添加比例3.00质量％)。并且，利用均质机(艾卡(IKA)公司制造：乌特拉特拉斯(ULTRA-TURRAX))，将所述溶液以5500rpm分散2小时，获得电荷传输层形成用涂布液。将所述涂布液涂布于所述电荷产生层上。然后，在140℃下进行40分钟干燥，形成膜厚28μm的电荷传输层。将其作为电子照相感光体1。

[化5]

[化6]

聚碳酸酯树脂(A)

＜实施例2～实施例16及比较例1～比较例8＞

依照表3及表4，适宜变更电荷传输层中所调配的含氟树脂粒子的种类及量、氟系接枝聚合物的种类及量，除此以外，以与实施例1相同的方式制作感光体。

＜测定及评价＞

(游离率的测定)

针对各例中所获得的感光体，利用如上所述的方法来测定最表面层中的氟系接枝聚合物的游离率。将结果示于表3及表4中。

(PFOA的量的测定)

针对各例中所获得的感光体，利用如上所述的方法来测定作为最表面层的电荷传输层中的附着有分散剂的粒子中的PFOA的量。将结果示于表3及表4中。

(带电维持性的评价)

将各例中所获得的感光体组装于具备带电装置、曝光装置及除电装置的捷锐(GENTEC)(股)制造的感光体电特性评价装置中，将带电、曝光及除电这一系列的工序反复进行100循环后，依照下述条件来测定第1循环与第100循环的带电电位的差量ΔVH的值。基于所获得的ΔVH，以下述评价标准来评价带电维持性。关于带电维持性，G1～G3为容许范围。将结果示于表3及表4中。

(条件)

·测定环境：20℃/40％

·带电电位：+600V

·曝光光量：10(mJ/m²)

·曝光波长：780(nm)

·除电光光源：卤素灯(林时计工业(股)制造)

·除电光波长：600nm以上且800nm以下

·除电光光量：30(mJ/m²)

·转速：66.7(rpm)

-评价基准-

G1：0≦|ΔVH|≦5

G2：5＜|ΔVH|≦10

G3：10＜|ΔVH|≦25

G4：25＜|ΔVH|

(清洁性的评价)

关于各例中所获得的感光体的清洁性，如下所述进行评价。

将各例中所获得的感光体搭载于图像形成装置(富士施乐(Fuji Xerox)公司制造：商品名阿派奥斯珀(ApeosPort)-IVC3375)。使用所述装置，在初期状态及高温高湿环境(28℃、85RH％)下，使用A4用纸(210mm×297mm，富士施乐公司制造，P纸)，对图像浓度5％的半色调图像进行图像形成，直至感光体的累计转数达到100000循环。然后连续输出20张图像浓度50％的半色调图像，目视观察第20张图像，根据是否产生了条纹等图像缺陷来实施评价。关于清洁性，G1～G3为容许范围。将结果示于表3及表4中。

并且，以下述评价标准进行评价。

G1：无条纹状缺陷，画质上完全没有问题。

G2：有轻微的条纹状缺陷，但画质上不在意的水平。

G3：有条纹状缺陷，但画质上不在意的水平。

G4：整个面有条纹状缺陷，是成问题的水平。

[表3]

[表4]

根据所述结果可知，与比较例的感光体相比，本实施例的感光体的最表面层中的自含氟树脂粒子游离的氟系接枝聚合物的量的比例低，带电维持性及清洁性优异。