具体实施方式

以下针对本发明实施例的显示装置作详细说明。应了解的是，以下的叙述提供许多不同的实施例或例子，用以实施本发明一些实施例的不同形态。以下所述特定的元件及排列方式仅为简单清楚描述本发明一些实施例。当然，这些仅用以举例而非本发明的限定。此外，在不同实施例中可能使用类似及/或对应的标号标示类似及/或对应的元件，以清楚描述本发明。然而，这些类似及/或对应的标号的使用仅为了简单清楚地叙述本发明一些实施例，不代表所讨论的不同实施例及/或结构之间具有任何关联性。

应理解的是，附图的元件或装置可以发明所属技术领域的技术人员所熟知的各种形式存在。此外实施例中可能使用相对性用语，例如「较低」或「底部」或「较高」或「顶部」，以描述附图的一个元件对于另一元件的相对关系。可理解的是，如果将附图的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在「较低」侧的元件将会成为在「较高」侧的元件。本发明实施例可配合附图一并理解，本发明的附图亦被视为发明说明的一部分。应理解的是，本发明的附图并未按照比例绘制，事实上，可能任意的放大或缩小元件的尺寸以便清楚表现出本发明的特征。

再者，当述及一第一材料层位于一第二材料层上或之上时，包括第一材料层与第二材料层直接接触的情形。或者，亦可能间隔有一或更多其它材料层的情形，在此情形中，第一材料层与第二材料层之间可能不直接接触。

此外，附图的元件或装置可以发明所属技术领域具有通常知识者所熟知的各种形式存在。此外，应理解的是，虽然在此可使用用语「第一」、「第二」、「第三」等来叙述各种元件、组件、或部分，这些元件、组件或部分不应被这些用语限定。这些用语仅是用来区别不同的元件、组件、区域、层或部分。因此，以下讨论的一第一元件、组件、区域、层或部分可在不偏离本发明的教示的情况下被称为一第二元件、组件、区域、层或部分。

于文中，「约」、「大约」、「实质上」、「大致上」的用语通常表示在一给定值或范围的20％内，或10％内，或5％内，或3％之内，或2％之内，或1％之内，或0.5％之内。在此给定的数量为大约的数量，亦即在没有特定说明「约」、「大约」、「实质上」、「大致上」的情况下，仍可隐含「约」、「大约」、「实质上」、「大致上」的含义。此外，用语「范围为第一数值至第二数值」、「范围介于第一数值至第二数值之间」表示所述范围包含第一数值、第二数值以及它们之间的其它数值。

在本发明一些实施例中，关于接合、连接的用语例如「连接」、「互连」等，除非特别定义，否则可指两个结构是直接接触，或者亦可指两个结构并非直接接触，其中有其它结构设于此两个结构之间。且此关于接合、连接的用语亦可包括两个结构都可移动，或者两个结构都固定的情况。

除非另外定义，在此使用的全部用语(包含技术及科学用语)具有与本发明所属技术领域的技术人员通常理解的相同涵义。能理解的是，这些用语例如在通常使用的字典中定义用语，应被解读成具有与相关技术及本发明的背景或上下文一致的意思，而不应以一理想化或过度正式的方式解读，除非在本发明实施例有特别定义。

显示面板被广泛地应用于各种空间及环境，然而由于外界环境光源照射到显示面板会造成光线反射，而对于使用者于观察显示面板时，造成干扰，因此，对于降低显示面板的反射率的要求也愈趋严格。一般做法包含可借由降低显示面板中具有反射率的元件的厚度，以降低显示面板的整体反射率。然而，由于元件的薄化可能减低该元件具有的特性，故此方法也存在一极限值，因此，期望可再借由其他做法达到降低显示面板的反射率的效果。

根据本发明一些实施例，提供的显示装置包含具有镂空区域的抗静电层，因此可减少抗静电层所占面积，借此可更进一步达到降低抗静电层的反射率，或改善显示装置的影像呈现的效果，或提升显示装置于不同环境(例如，室内、室外或车内等环境)的适用性。

请参照图1，图1显示根据本发明一些实施例中，显示装置10的剖面结构示意图。应理解的是，根据一些实施例，可添加额外特征于以下所述的显示装置10。在另一些实施例中，以下所述显示装置10的部分特征可以被取代或省略。

根据一些实施例，显示装置10可包含软性显示装置(flexible display)、触控显示装置(touch display)、拼接显示装置(tiled display)、或曲面显示装置(curveddisplay)，但本发明不限于此。

如图1所示，显示装置10可包含显示器100，显示器100可具有显示区DA及非显示区NA。在一些实施例中，非显示区NA可邻近于显示区DA设置，例如非显示区NA可环绕显示区DA。再者，显示器100可包含第一基板102以及抗静电层104，抗静电层104可设置于第一基板102上。详细而言，第一基板102可具有第一侧102a以及第二侧102b，第二侧102b相对于第一侧102a，第一侧102a以及第二侧102b位于相反两侧，且抗静电层104可设置于第一基板102的第一侧102a。

再者，第一基板102可具有第一厚度T₁。在一些实施例中，第一厚度T₁的范围可介于0.01毫米(mm)至20毫米(mm)之间(亦即，0.01mm≦第一厚度T₁≦20mm)、或介于0.1mm至10mm之间，例如，1.5mm、2mm、或5mm。根据一些实施例，第一厚度T₁指的是于第一基板102的法线方向(例如，图中所示的Z方向)上，第一基板102的最大厚度。

此外，根据本发明实施例，可使用光学显微镜(optical microscopy，OM)、扫描式电子显微镜(scanning electron microscope，SEM)、薄膜厚度轮廓测量仪(α-step)、椭圆测厚仪量测或其它合适的方式量测各元件的厚度、宽度、面积、或各元件之间的距离等，但不限于此。

在一些实施例中，第一基板102的材料可包含玻璃、石英、蓝宝石(sapphire)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚酰亚胺(polyimide，PI)、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate，PET)、橡胶、玻璃纤维、陶瓷、其它适合材料或前述的组合，但不限于此。在一些实施例中，第一基板102可包含金属-玻璃纤维复合板材、金属-陶瓷复合板或印刷电路板等。

此外，如图2A所示，抗静电层104可具有多个镂空区域104p，例如，抗静电层104可经图案化而具有镂空区域104p。关于镂空区域104p的详细形态将于后文中进行说明。如图1和图2A所示，至少一部分的抗静电层104于第一基板102的法线方向(Z方向)上与显示区DA重叠。在一些实施例中，至少一部分的抗静电层104于第一基板102的法线方向(Z方向)上亦与非显示区NA重叠。

如图1所示，在一些实施例中，抗静电层104可与第一基板102的第一侧102a接触。根据一些实施例，抗静电层104可减少电荷累积于第一侧102a。在一些实施例中，可借由薄化抗静电层104的厚度，降低抗静电层104的反射率，借此改善显示装置10的影像呈现效果。

具体而言，抗静电层104可具有第二厚度T₂。在一些实施例中，第二厚度T₂的范围可介于50埃至300埃之间(亦即，)、介于至之间、或介于至之间，例如， 或根据一些实施例，第二厚度T₂指的是于第一基板102的法线方向(Z方向)上，抗静电层104的最大厚度。上述最大厚度，可为量测仪器所取得结构的任一剖面影像中的最大厚度。

应理解的是，若抗静电层104的第二厚度T₂过大(例如，大于)，则降低反射率的效果可能不显著；反之，若抗静电层104的第二厚度T₂过小(例如，小于)，则抗静电的效果可能会受到影响。

在一些实施例中，抗静电层104可包含导电材料，例如，光穿透率高的导电材料。具体而言，在一些实施例中，抗静电层104的材料可包含透明导电材料，例如，透明导电氧化物(transparent conductive oxide，TCO)。透明导电氧化物可包含铟锡氧化物(indium tinoxide，ITO)、氧化锡(tin oxide，SnO)、氧化锌(zinc oxide，ZnO)、氧化铟锌(indium zincoxide，IZO)、氧化铟镓锌(indium gallium zinc oxide，IGZO)、氧化铟锡锌(indium tinoxide，ITZO)、氧化锑锡(antimony tin oxide，ATO)、氧化锑锌(antimony zinc oxide，AZO)、其它适合的材料、或前述的组合，但不限于此。

如图2A所示，在一些实施例中，可借由图案化制程使抗静电层104具有镂空区域104p。在一些实施例中，图案化制程可包含激光制程、飞秒激光制程或前述的组合，但不限于此。在另一些实施例中，图案化制程可包含光刻制程或蚀刻制程。光刻制程可包含光阻涂布(例如旋转涂布)、软烘烤、硬烘烤、掩模对齐、曝光、曝光后烘烤、光阻显影、清洗或干燥等，但不限于此。蚀刻制程可包含干蚀刻制程或湿蚀刻制程，但不限于此。

此外，如图1所示，在一些实施例中，显示器100可进一步包含第二基板106，第二基板106可设置于第一基板102的第二侧102b，并与第一基板102相对设置。

承前述，显示器100可包含显示区DA及非显示区NA。根据一些实施例，显示区DA及非显示区NA的区域实质上可由位于第一基板102及第二基板106之间的密封件(未绘示)定义。详细而言，位于密封件内的区域可作为显示区DA，位于密封件外的区域(包含与密封件重叠的区域)可作为非显示区NA，但不限于此。在其他实施例中，可由显示影像的区域定义为显示区DA，而显示区以外的区域定义为非显示区NA。

在一些实施例中，第二基板106的材料可包含玻璃、石英、蓝宝石(sapphire)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚酰亚胺(polyimide，PI)、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate，PET)、橡胶、玻璃纤维、陶瓷、其它适合材料或前述的组合，但不限于此。在一些实施例中，第二基板106可包含金属-玻璃纤维复合板材、金属-陶瓷复合板或印刷电路板等。此外，第二基板106的材料可与第一基板102的材料相同或不同。

如图1所示，在一些实施例中，显示器100可进一步包含液晶层108，液晶层108可设置于第一基板102与第二基板106之间。在一些实施例中，液晶层108可包含液晶分子(未绘示)。在一些实施例中，可借由施加不同的电场于液晶层108以改变液晶分子的排列方向，进而调整显示的影像。

在一些实施例中，液晶层108的材料可包含向列型(nematic)液晶、层列型(smectic)液晶、胆固醇(cholesteric)液晶、蓝相(blue-phase)液晶、其它合适的液晶材料或前述的组合，但不限于此。然而，根据另一些实施例，可使用可经由施加电场或其它方式进行调整而具有不同性质(例如，介电系数)的调制材料，取代液晶层108。

在一些实施例中，显示器100可进一步包含驱动层110，驱动层110可设置于第二基板106上，并邻近于第一基板102的第二侧102b。换句话说，驱动层110可设置于第一基板102和第二基板106之间。驱动层110可用于提供施加于液晶层108的电场，但不限于此。

具体而言，驱动层110可例如为有源式驱动电路或无源式驱动电路。根据一些实施例，驱动层110可包含晶体管(例如，开关晶体管或驱动晶体管等)、数据线、扫描线、介电层或其它线路等，但不限于此。开关晶体管可用以控制显示器100的像素的开关。在一些实施例中，晶体管可包含低温多晶硅(low-temperature polysilicon，LTPS)、氧化铟镓锌(indium gallium zinc oxide，IGZO)、非晶硅(amorphous silicon,a-Si)或前述的组合，但不限于此。在一些实施例中，不同的晶体管可包含不同的半导体材料，但不限于此。在一些实施例中，驱动层110可借由外部的集成电路(IC)或微芯片等对像素进行控制。

在一些实施例中，可于非显示区NA设置导电垫112，导电垫112可设置于第二基板106上，导电垫112可例如但不限制是于制作驱动层110时一起制作，导电垫112可例如与外部电路电性连接并具有一固定电位，举例而言，固定电位可为接地或是共电极电位。此外，在一些实施例中，抗静电层104可与导电垫112电性连接。换言之，在一些实施例中，抗静电层104可为接地的。在一些实施例中，抗静电层104亦可借由导电胶112C与导电垫112电性连接。在一些实施例中，导电胶112C可例如是银胶、金胶、导电胶带、其它合适的导电材料、或上述材料的组合，但不限于此。在一些实施例中，部分的导电胶112C可沿着第一基板102的法线方向设置于显示器100的侧壁上，并与抗静电层104及导电垫112直接接触且电性连接，使得抗静电层104及导电垫112具有相同电位。

如图1所示，在一些实施例中，显示器100可进一步包含黑色矩阵(未绘示)或彩色滤光层114，彩色滤光层114可设置于第一基板102与液晶层108之间。在一些实施例中，彩色滤光层114可设置于第一基板102的第二侧102b。彩色滤光层114可用于过滤、或调整穿过液晶层108的光线的光学性质。在一些实施例中，彩色滤光层114可包含红色滤光层、绿色滤光层、蓝色滤光层、其它具有合适颜色或性能的滤光层、或前述的组合，但不限于此。

在一些实施例中，显示器100可进一步包含第一偏光板116以及第二偏光板118。第一偏光板116可设置于第一基板102的第一侧102a，且位于抗静电层104上。第二偏光板118可设置于第一基板102的第二侧102b，且位于驱动层110下方。第一偏光板116与液晶层108可分别位于第一基板102的相反两侧，第二偏光板118与液晶层108可分别位于第二基板106的相反两侧。

在一些实施例中，第一偏光板116及第二偏光板118的材料可包含聚乙烯醇(polyvinyl alcohol，PVA)、或其它合适的材料，但不限于此。举例而言，在一些实施例中，第一偏光板116及第二偏光板118可分别包含两层保护层以及夹设于保护层之间的聚乙烯醇膜，保护层例如可包含三醋酸纤维素(triacetyl cellulose，TAC)膜，但不限于此。然而，在另一些实施例中，可以金属线栅偏振片(wire grid polarizer，WGP)取代所述第一偏光板116及/或第二偏光板118。

此外，在一些实施例中，第一偏光板116及/或第二偏光板118的材料可进一步包含多个导电粒子(未绘示)，并与抗静电层104接触，可进而增加显示器100的抗静电效果。

在一些实施例中，前述导电粒子的材料可至少包含金属材料。举例而言，所述金属材料可包含铜(Cu)、铝(Al)、铟(In)、钌(Ru)、锡(Sn)、金(Au)、铂(Pt)、锌(Zn)、银(Ag)、钛(Ti)、铅(Pb)、镍(Ni)、铬(Cr)、镁(Mg)、钯(Pd)、铜合金、铝合金、铟合金、钌合金、锡合金、金合金、铂合金、锌合金、银合金、钛合金、铅合金、镍合金、铬合金、镁合金、钯合金、其它合适的材料或前述的组合，但不限于此。

在一些实施例中，第一偏光板116的阻抗值的范围可介于10⁹欧姆每平方(Ω/□)至10¹²欧姆每平方之间(亦即，10⁹Ω/□≦第一偏光板116的阻抗值≦10¹²Ω/□)。在一些实施例中，第二偏光板118的阻抗值可与第一偏光板116的阻抗值相似，于此便不再重复。

承前述，根据一些实施例，显示器100可包含液晶显示器。液晶显示器可包含扭转向列(twisted nematic，TN)型液晶面板、超扭转向列(super twisted nematic，STN)型液晶面板、双层超扭转向列(double layer super twisted nematic，DSTN)型液晶面板、垂直配向(vertical alignment，VA)型液晶面板、水平电场效应(in-plane switching，IPS)型液晶面板、胆固醇(cholesteric)型液晶面板、蓝相(blue phase)型液晶面板、边际电场效应(FFS)型液晶面板、或其它合适的显示面板，但本发明不限于此。

应理解的是，在不同的实施例中，本领域技术人员可根据实际需求，调整前述显示器100的元件配置，或添加所需的元件。举例而言，在一些实施例中，显示器100可进一步包含配向膜、遮光层、棱镜片(prism)、增亮膜(brightness enhancement film，BEF)、导光板、扩散板、反射片、量子点膜(QD film)、其它合适的元件或前述的组合，但本发明不限于此。

此外，在一些实施例中，显示装置10可进一步包含邻近于显示器100的背光模块(未绘示)，背光模块可提供显示器100所需的光源。在一些实施例中，背光模块可包含无机发光二极管(inorganic light emitting diode，LED)，例如微型发光二极管(micro LED、mini LED)、有机发光二极管(organic light emitting diode，OLED)、电致发光元件(electroluminescence)、其它合适的发光元件、或前述的组合，但本发明不限于此。

接着，请参照图2A及图2B，图2A显示根据本发明一些实施例中，显示装置10的抗静电层104的上视结构示意图，图2B显示根据本发明一些实施例中，抗静电层104的局部放大示意图。承前述，抗静电层104可具有镂空区域104p，在一些实施例中，镂空区域104p可进一步降低抗静电层104的反射率。在一些实施例中，镂空区域104p之间可为相连的。

如图2B所示，镂空区域104p可具有边缘104e，边缘104e定义出镂空区域104p的形状及大小。在一些实施例中，镂空区域104p的边缘104e之间具有第一距离D₁，第一距离D₁为镂空区域104p的边缘104e之间的最大距离，且第一距离D₁与边缘104e可具有相交的两点，点P₁及点P₂。

在一些实施例中，如图2A及图2B所示，镂空区域104p为一近似矩形结构，其边缘104e的延伸方向，例如是图中所示的X方向或是Y方向，于Z方向上观看，与数据线、扫描线或黑色矩阵(未绘示)的方向不同，亦即，边缘104e与数据线、扫描线或黑色矩阵之间可具有一夹角，如此设置，可减少镂空区域104p与数据线或扫描线之间产生莫尔波纹(moirepattern)的风险。

在一些实施例中，第一距离D₁大于0且小于或等于第一基板102的第一厚度T₁。在一些实施例中，第一距离D₁可小于或等于第一基板102的第一厚度T₁的90％、70％、50％、30％、或10％。此外，在一些实施例中，第一距离D₁可大于或等于第一基板102的第一厚度T₁的5％、10％、25％、或50％。

应理解的是，若镂空区域104p的第一距离D₁过大(例如，大于第一厚度T₁)，则静电与显示装置表面接触尚未被导引离开时，静电的残留可能造成静电耦和效应(coupling)而在镂空区域104p附近产生电场，进而可能使邻近的液晶分子的排列受到影响，而影响显示装置的显示品质；反之，若镂空区域104p的第一距离D₁过小(例如，小于第一厚度T₁的5％)，则降低抗静电层104的反射率的效果可能会受到局限。

此外，在一些实施例中，镂空区域104p的面积总和与显示区DA的面积的比例大于或等于50％(即，(镂空区域104p的面积总和/显示区DA的面积)≧50％)，例如，大于或等于55％、60％、65％、或70％。换言之，在一些实施例中，抗静电层104的面积(不包含镂空区域104p)与显示区DA的面积的比例小于50％(即，(抗静电层104的面积/显示区DA的面积)<50％)，例如，小于45％、40％、35％、或30％。

根据一些实施例，镂空区域104p的面积以及显示区DA的面积指的是，前述元件于第一基板102的法线方向(Z方向)上的面积。

接着，请参照图3A至3C，图3A至3C显示根据本发明另一些实施例中，显示装置10的抗静电层104的上视结构示意图。如图3A至3C所示，在一些实施例中，抗静电层104的镂空区域104p可具有矩形或圆形等形状。然而，应理解的是，在不同的实施例中，可根据实际需求，调整镂空区域104p的形状，例如，根据另一些实施例，镂空区域104p可具有三角形、五边形、六边形、任意多边形、椭圆形、不规则形、其它合适形状、或前述的组合。此外，根据一些实施例，镂空区域104p可具有封闭的区域，例如，封闭的区域可形成前述的各种形状。然而，根据另一些实施例，镂空区域104p也可包含非封闭的区域，例如，如第3B及3C图的部分边界所定义的非封闭区域。

此外，如第2A及3A图所示，在一些实施例中，抗静电层104最外侧边缘可具有封闭的边界线BR，镂空区域104p可被四条直线状的边界线BR围绕，且镂空区域104p为封闭的。在另一些实施例中，如第3B及3C图所示，抗静电层104可具有非直线状的边界线BR，例如，可具有一部分的直线状边界线BR以及一部分的非直线状边界线BR(例如弧型边界线BR)，但本发明不以此为限。在一些实施例中，如第3B及3C图所示，镂空区域104p可为部分封闭，部分非封闭的。此外，在一些实施例中，如图3A至3C所示，镂空区域104p可为规则排列的。

接着，请参照图4A至4D，图4A至4D显示根据本发明另一些实施例中，显示装置10的抗静电层104的上视结构示意图。如图4A至4D所示，在一些实施例中，抗静电层104可具有形状或大小不同的镂空区域104p。例如，如图4D所示，在一些实施例中，多个镂空区域104p的至少两者的形状彼此不同。在一些实施例中，镂空区域104p可为不规则排列的。

请参照图4A至4D，在一些实施例中，镂空区域104p的其中两者(例如，标示为104p₁及104p₂，以方便说明)之间相距第二距离D₂，且镂空区域104p的其中另两者(例如，标示为104p₃及104p₄，以方便说明)之间相距第三距离D₃。根据一些实施例，第二距离D₂与第三距离D₃不同。此外，在一些实施例中，镂空区域104p的第一距离D₁亦不同于第二距离D₂及/或第三距离D₃。

根据一些实施例，第二距离D₂指的是，在垂直第一基板102的法线方向上，相邻的两个镂空区域104p₁及104p₂之间的最小距离，而第三距离D₃指的是，在垂直第一基板102的法线方向上，另外相邻的两个镂空区域104p₃及104p₄之间的最小距离。

根据一些实施例，彼此间距不同的镂空区域104p或形状不同的镂空区域104p可减少抗静电层104与显示器100中的其它具有固定排列方式的元件相互之间的干涉作用，例如，可降低镂空区域104p与数据线、扫描线或黑色矩阵(未绘示)的产生干涉的风险。

承前述，根据一些实施例，可借由调整抗静电层104的第二厚度T₂及抗静电层104的镂空区域104p的占比、形状或分布等，使抗静电层104具有合适的阻抗值及反射率。

具体而言，在一些实施例中，抗静电层104的阻抗值的范围可介于100欧姆每平方(Ω/□)至10000欧姆每平方之间(亦即，100Ω/□≦抗静电层104的阻抗值≦10000Ω/□)、介于1000欧姆每平方至8000欧姆每平方之间、或介于2000欧姆每平方至7000欧姆每平方之间。

此外，在一些实施例中，抗静电层104的反射率的范围可介于0至10％之间(亦即，0<抗静电层104的反射率≦10％)、介于0.001至5之间、或0.01至0.5之间。抗静电层104的反射率可借由所属技术领域已知的合适方法进行测量，例如，根据一些实施例，反射率可借由积分球的方式进行测量。

接着，请参照图5，图5显示根据本发明另一些实施例中，显示装置20的剖面结构示意图。应理解的是，后文中与前文相同或相似的组件或元件将以相同或相似的标号表示，其材料、制造方法与功能皆与前文所述相同或相似，故此部分于后文中将不再赘述。

图5所示的显示装置20与图1所示的显示装置10大致上相似，其差异在于，于此实施例中，显示装置20进一步包含盖板202以及粘着层204，盖板202以及粘着层204可设置于第一偏光板116上，且粘着层204可设置于盖板202与第一偏光板116之间。

在一些实施例中，盖板202的材料可包含玻璃材料，但不限于此。在一些实施例中，玻璃材料可包含经过化学强化处理及/或离子交换处理的玻璃材料，例如，钠钙玻璃(soda-lime glass)、铅玻璃(lead glass)、硼硅酸玻璃、石英玻璃、铝硅酸盐玻璃或其它合适的玻璃材料，但不限于此。

在一些实施例中，粘着层204可由具有粘性的材料形成。在一些实施例中，粘着层204可包含光学透明胶(optical clear adhesive，OCA)、光学透明树脂(optical clearresin，OCR)、其它合适的粘着材料、或前述的组合。在一些实施例中，粘着层204可为透明或半透明的。

接着，请参照图6，图6显示根据本发明另一些实施例中，显示装置30的剖面结构示意图。图6所示的显示装置30与图5所示的显示装置20大致上相似，其差异在于，在此实施例中，显示装置30进一步包含触控层302以及粘着层304，触控层302以及粘着层304可设置于粘着层204与第一偏光板116之间。

在一些实施例中，触控层302可设置于液晶层108与第二基板106之间，触控层302可与驱动层110电性连接。在一些实施例中，触控层302可包含触控电极(未绘示)以及导线(未绘示)。在一些实施例中，触控电极以及导线的材料可包含金属材料或透明导电材料，例如，透明导电氧化物(transparent conductive oxide，TCO)。透明导电氧化物可包含铟锡氧化物(indium tin oxide，ITO)、氧化锡(tin oxide，SnO)、氧化锌(zinc oxide，ZnO)、氧化铟锌(indium zinc oxide，IZO)、氧化铟镓锌(indium gallium zinc oxide，IGZO)、氧化铟锡锌(indium tin oxide，ITZO)、氧化锑锡(antimony tin oxide，ATO)、氧化锑锌(antimony zinc oxide，AZO)或前述的组合，但不限于此。

再者，在一些实施例中，粘着层304的材料可与粘着层204相同或相似，于此便不再重复。

承前述，虽然本发明实施例仅绘示显示器100为液晶显示器的形态，然而，根据一些实施例，显示器100可不具有液晶层108，例如，显示器100可为无机发光二极管显示器或有机发光二极管显示器。

无机发光二极管显示器或有机发光二极管显示器可包含发光层，抗静电层104可邻近于发光层。在一些实施例中，发光层可包含无机发光二极管、有机发光二极管、其它合适的发光元件、或前述的组合，但不限于此。无机发光二极管例如可包含次毫米发光二极管(mini LED)、微发光二极管(micro LED)、量子点(quantum dot，QD)、量子点发光二极管(QLED、QD-LED)或前述的组合。此外，发光二极管可为具有垂直式结构(vertical type)或覆晶式结构(flip-chip type)的发光二极管。

综上所述，根据本发明一些实施例，提供的显示装置包含具有镂空区域的抗静电层，借此可降低抗静电层的反射率，或改善显示装置的影像呈现的效果，或提升显示装置于各种环境(例如，室内、室外或车内等环境)的适用性。

虽然本发明的实施例及其优点已揭露如上，但应该了解的是，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作变动、替代与润饰。本发明实施例之间的特征只要不违背发明精神或相冲突，均可任意组合搭配使用。此外，本发明的保护范围并未局限于说明书内所述特定实施例中的制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，任何本领域技术人员可从本发明揭示内容中理解现行或未来所发展出的制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤，只要可以在此处所述实施例中实施大抵相同功能或获得大抵相同结果皆可根据本发明使用。因此，本发明的保护范围包括上述制程、机器、制造、物质组成、装置、方法及步骤。另外，每一权利要求构成个别的实施例，且本发明的保护范围也包括各个权利要求及实施例的组合。本发明的保护范围当视权利要求所界定者为准。