具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。

图1是本发明的第一种超薄玻璃基板的剖面图。如图1所示，本发明的超薄玻璃基板，包括：一玻璃基板30和一高分子补强层24。玻璃基板30的第一侧设有沿预设弯折路径延展的至少一弯折应力消散槽14，并且在基板区域的边沿形成应力消散边缘。高分子补强层24填充弯折应力消散槽14，高分子补强层24露出于玻璃基板30的上表面与玻璃基板30的上表面平齐。本发明使用超薄玻璃弯折区域蚀刻图案并填充高分子材料方法，可以制作弯折性能与抗冲击，刚度均优异的超薄玻璃，并可以根据需求改变蚀刻图案设计出满足特定刚度与弯折性能的超薄玻璃。

在一个优选实施例中，高分子补强层24的高分子材料透光性≥90％，折射率范围在1.2到1.7，与玻璃基板30的附着力为5B，使得高分子补强层24能够牢固地嵌入在弯折应力消散槽14，并保持与玻璃基板30的上表面平齐，同时高分子补强层24也能够具备透光、挠性、不脱落的特征，但不以此为限。

在一个优选实施例中，高分子补强层的组分包括增液态光学胶、亚克力、含硅的有机高分子材料、环氧树脂、氟树脂、聚醯胺、聚醯亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯以及聚对苯二甲酸-1，4-环己二甲酯，但不以此为限。

在一个优选实施例中，弯折应力消散槽14以下中的任意一种：

图2是本发明的第二种超薄玻璃基板的剖面图。参见图2，多个均平行于预设弯折路径的多个条形槽；

一沿预设弯折路径延展的矩形槽体；

一沿预设弯折路径延展的椭圆槽体，但不以此为限。

在一个优选实施例中，应力消散边缘为圆弧形边缘、刀锋边缘或者多边形边缘，刀锋边缘或者多边形边缘中包括至少一斜边或弧形斜边，斜边与玻璃母材的角度范围为(15°，90°)，玻璃母材的厚度为10um至150um；应力消散边缘环绕基板区域的边沿，应力消散边缘的宽度为5um至300um，但不以此为限。

本发明将超薄玻璃基板弯折区域蚀刻掉部分材料并填充另外一种高分子材料，非弯折区域保留较厚的玻璃本体，使其大部分区域的刚度与抗冲击性能较强。此种高分子材料需满足一定的力学性能和光学性能。力学性能：与超薄玻璃基板结合后在工作弯折半径内不脱落，本身材料在工作半径内不屈服或断裂。光学性能：穿透性，折射率与玻璃接近，使其与玻璃结合后无光学问题。

图3是本发明的第二种超薄玻璃基板卷曲状态的剖面图。参见图3，超薄玻璃基板卷曲部的周长(预设弯折路径)为S，S＝π×R，π为圆周率，R为超薄玻璃基板卷曲部的圆弧半径。则在超薄玻璃基板上的多个平行的弯折应力消散槽14的整体宽度为(S+2W)，预设弯折路径(宽度为S)位于弯折应力消散槽14整体的中部，在实际使用时，超薄玻璃基板卷曲部的两侧也同样会受到弯曲的影响，本发明中将挠性更强的弯折应力消散槽14自预设弯折路径向两侧扩展，分别自预设弯折路径的两侧延展出一扩展部(每个扩展部的宽度为W)，扩展部中同样设有弯折应力消散槽14，使得弯折应力消散槽14能够充分覆盖会受到弯折影响的超薄玻璃基板卷曲部的两侧，扩展部的宽度W可以是超薄玻璃基板厚度h的2倍至5倍，但不以此为限。本实施例中，W＝3h(即扩展部的宽度W等于超薄玻璃基板厚度h的3倍)。以便减弱超薄玻璃基板的弯折区域与直线区之间区域的应力突变，从而有效增强超薄玻璃基板卷曲特性，但不以此为限。

在一个变化例中，弯折应力消散槽14的分布在玻璃基板30的弯折区域域(预设弯折路径)到直线区域的过程中密度由高到低减小，从而既能满足弯折应力的挠性，也能保持玻璃基板30的直线区域部分的刚性。

图4是本发明的第三种超薄玻璃基板的剖面图。在一个优选实施例中，参见图4，本发明的第三种超薄玻璃基板还包括：一面板功能层23，面板功能层23设置于玻璃基板30的第一侧，且被高分子补强层24贴合于玻璃基板30。由于面板功能层23是被内嵌于玻璃基板30的高分子补强层24贴合于玻璃基板30。所以，面板功能层23与璃基板30之间不需要增添粘合层，进一步减小了超薄玻璃基板的整体厚度，但不以此为限。

图5是本发明的第四种超薄玻璃基板的剖面图。在一个优选实施例中，如图5所示，玻璃基板30的第一侧也设有被高分子补强层24填充的弯折应力消散槽141。玻璃基板30的第二侧也设有被高分子补强层24填充的弯折应力消散槽142。且第一侧的弯折应力消散槽141基于玻璃基板30的第一投影与第二侧的弯折应力消散槽142基于玻璃基板30的第二投影相互错位，使得玻璃基板30在朝向两个不同面进行卷曲的同时都体现更好的挠性，并且通过弯折应力消散槽141与弯折应力消散槽142之间的错位，避免了设置更过弯折应力消散槽对超薄玻璃基板刚性的减弱，但不以此为限。

图6是本发明的第五种超薄玻璃基板的剖面图。在一个优选实施例中，如图5所示，玻璃基板30的第一侧也设有被高分子补强层24填充的弯折应力消散槽141，面板功能层23设置于玻璃基板30的第一侧，且被高分子补强层24贴合于玻璃基板30的第一侧。玻璃基板30的第二侧也设有被高分子补强层24填充的弯折应力消散槽142，面板功能层23设置于玻璃基板30的第二侧，且被高分子补强层24贴合于玻璃基板30的第二侧，但不以此为限。

图7是本发明的超薄玻璃基板制程方法的流程图。如图7所示，本发明的超薄玻璃基板制程方法，用于制程如权利要求1的超薄玻璃基板，包括以下步骤：

S110、提供一玻璃母材1，玻璃母材1上预设n个基板区域11和围绕基板区域11的骨架区域12，n大于等于2。

S120、至少在玻璃母材的基板区域11的上下表面分别形成刻蚀保护层，刻蚀保护层包括主体区域以及至少一沿预设弯折路径延展的薄化区域。

S130、至少刻蚀玻璃母材1的骨架区域12，令基板区域11自玻璃母材1脱离，通过薄化区域在基板区域11沿预设弯折路径形成至少一弯折应力消散槽14，并且在基板区域11的边沿形成应力消散边缘13。

S140、去除刻蚀保护层得到独立的具有弯折应力消散槽14的玻璃基板3014。

S150、在弯折应力消散槽14中设置高分子补强层，高分子补强层24露出于玻璃基板30的上表面与玻璃基板30的上表面平齐。

在一个优选实施例中，在弯折应力消散槽14中通过涂布或喷印的方式加入高分子补强层，但不以此为限。

在一个优选实施例中，高分子补强层的组分包括增液态光学胶、亚克力、含硅的有机高分子材料、环氧树脂、氟树脂、聚醯胺、聚醯亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯以及聚对苯二甲酸-1，4-环己二甲酯，但不以此为限。

在一个优选实施例中，步骤S150之后还包括以下步骤：

步骤S160、玻璃基板30设置弯折应力消散槽14的一侧，通过高分子补强层将面板功能层23玻璃基板30，再经过曝光或加热方式固化高分子补强层，面板功能层23包括TFT背板、有机发光层、触控检测层、指纹识别层、盖板中的一种或组合，但不以此为限。

在一个优选实施例中，基板区域11矩阵排列于玻璃母材1，相邻的基板区域11之间具有骨架区域12分隔，通过一次刻蚀，消除玻璃母材1中全部的骨架区域12，在基板区域11沿预设弯折路径形成至少一弯折应力消散槽14，并且在基板区域11的边沿形成应力消散边缘13，但不以此为限。

图8至16是本发明的超薄玻璃基板制程方法的第一种制程过程的示意图。如图8至16所示，本发明的超薄玻璃基板制程方法的第一种制程过程如下：

参考图8，首先提供一玻璃母材1，玻璃母材1的厚度为10um至150um，基板区域11矩阵排列于玻璃母材1，相邻的基板区域11之间具有骨架区域12分隔。

参考图9、10，在玻璃母材1上预设n个基板区域11和围绕基板区域11的骨架区域12，n大于等于2在玻璃母材的基板区域11的上下表面分别形成刻蚀保护层20，刻蚀保护层20仅覆盖基板区域11的上下表面，骨架区域12的上下表面均露出于刻蚀保护层20之外，使得骨架区域12的上下表面在后续的刻蚀中可以同时受到刻蚀，易形成具有多个应力消散面的应力消散边缘13基板区域11矩阵排列于玻璃母材1，相邻的基板区域11之间具有骨架区域12分隔。刻蚀保护层20包括主体区域22以及至少一沿预设弯折路径延展的薄化区域21。本实施例中，薄化区域21为一沿预设弯折路径延展的条形区域在薄化区域21中设有至少一条平行于预设弯折路径的窄缝，局部基板区域11露出于窄缝，以便在刻蚀过程中，在基板区域11沿预设弯折路径形成至少一弯折应力消散槽14。

参考图11、12、13、14，刻蚀玻璃母材1的骨架区域12，令基板区域11自玻璃母材1脱离，通过薄化区域在基板区域11沿预设弯折路径形成至少一弯折应力消散槽14，并且在基板区域11的边沿形成应力消散边缘13。本发明中的刻蚀缓冲层在刻蚀过程中不能完全阻挡对其下方基板区域11的刻蚀，仅仅是减弱对其下方基板区域11的刻蚀，使得在薄化区域对应的基板区域11中留下沿预设弯折路径延展的浅槽(作为对比，被刻蚀阻挡层覆盖的基板区域11完全不受刻蚀)，这些浅槽在面板弯折的时候能够分散弯折应力，作为弯折应力消散槽使用。本实施例中，通过第一刻蚀制程，消除玻璃母材1中全部的骨架区域12，留下被刻蚀保护层20保护的基板区域11。应力消散边缘13为刀锋边缘，应力消散边缘13环绕基板区域11的边沿，应力消散边缘13的宽度为5um至300um。本实施例中通过一次刻蚀，消除玻璃母材1中全部的骨架区域12，在基板区域11沿预设弯折路径形成至少一弯折应力消散槽，并且在基板区域11的边沿形成应力消散边缘13，即在一次刻蚀的过程中，同时实现三个刻蚀效果。本实施例中，在基板区域11的两面都形成了相互对称的弯折应力消散槽14，以便可以分别分散两个弯折方向的应力。在一个变化例中，也可以只在基板区域11的一面设置弯折应力消散槽14，仅仅分散一个弯折方向的应力。

参见图15，去除刻蚀保护层得到独立的具有弯折应力消散槽的独立的玻璃基板30。

参见图16，去除刻蚀保护层得到独立的具有弯折应力消散槽的玻璃基板。在弯折应力消散槽14中设置高分子补强层，高分子补强层24露出于玻璃基板30的上表面与玻璃基板30的上表面平齐。通过在弯折应力消散槽14中通过涂布或喷印的方式加入高分子补强层，但不以此为限。高分子补强层24的组分包括增液态光学胶、亚克力、含硅的有机高分子材料、环氧树脂、氟树脂、聚醯胺、聚醯亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯以及聚对苯二甲酸-1，4-环己二甲酯，但不以此为限。

图17是本发明的超薄玻璃基板制程方法的第二种制程的过程示意图。如图17所示，本发明的超薄玻璃基板制程方法还可以在图8至16的制程过程的基础上，通过在超薄玻璃基板的两面设置多个预设弯折路径，在玻璃基板30的两面上分布多道弯折应力消散槽14，在玻璃基板30两面的弯折应力消散槽14中填充高分子补强层24。使得第二种制程能够实现在玻璃基板30在任意位置进行弯折时，都能提供更好的挠性。

图18是本发明的超薄玻璃基板制程方法的第三种制程的过程示意图。如图18所示，本发明的超薄玻璃基板制程方法还可以在图8至17的制程过程的基础上，通过玻璃基板30两侧的弯折应力消散槽14中的高分子补强层24对面板功能层23进行贴合。由于面板功能层23是被内嵌于玻璃基板30的高分子补强层24贴合于玻璃基板30。所以，面板功能层23与璃基板30之间不需要增添粘合层，进一步减小了具有面板功能层23的超薄玻璃基板的整体厚度，但不以此为限。

使得第三种制程能够实现在玻璃基板被弯折以及恢复时，增强玻璃基板整体的挠性，从而提高玻璃基板的防碎裂属性；同时，玻璃基板形成的利用弯折应力消散槽14在后续的制程面板的过程中提高面板在预设弯折路径上的弯折性能，从而大大节约功能层制程的时间，提高了超薄玻璃基板的产品质量。

综上，本发明的目的在于提供超薄玻璃基板、超薄玻璃基板制程方法和面板制程方法，能够自玻璃母材获得玻璃基板的同时，在玻璃母材上设置填充高分子补强层的弯折应力消散槽，增强在后续的制程面板的过程中面板在预设弯折路径上的弯折性能，节约功能层制程的时间，同时提升超薄玻璃基板的抗弯折性能和抗冲击性能，大大提高了超薄玻璃基板的产品质量。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。