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具体实施方式

】

为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参阅图1，本发明第一实施例提供一种集成电路制造光源优化方法，包括如下步骤：

S1、提供初始光源；

S2、根据所述初始光源的光源强度分布进行区域分割以获得多个子光源区域；

S3、提供至少两种匹配图形，将所述至少两种匹配图形分别与每个所述子光源区域进行匹配以获得与每个子光源区域对应的至少两个匹配结果；

S4、基于所述至少两个匹配结果分别与所述每个子光源区域进行计算以获得与所述每个子光源区域对应的最佳匹配图形；及

S5、基于与每个所述子光源区域对应的所述最佳匹配图形生成待优化光源。

请参阅图2，初始光源可以是没有经过任何的优化方法优化过的，或者是经过传统的光源优化方法初步优化之后的光源。在图2中所示，该图示上坐标横轴为x坐标，纵轴为y坐标。对应的坐标位置上的颜色和右侧的颜色值条图案对应。右侧为光源强度值的颜色图，颜色越红强度越强，颜色越蓝强度越低，后文为了方便描述步骤，图示不再显示坐标轴和强度颜色图，均与图2相同。需要说明的是：由于黑白图纸无法很好的展示颜色的深浅，无法直观的表示光源强度值，因此，图2仅仅是作为一个示例，其无法实际展示初始光源的实际光源强度值表征，黑白视图中，黑色代表光源强度值为0，相对黑色较浅一点的颜色为光源强度值大于0。为了能很好的示意图2中光源强度值的情况，取出图2中的小块区域N进行光源强度值的标注，如图3对应为区域N的示意。其光源强度值如下：从第一排到第二排且每一排从左到右如下：

0.08，0.00，0.00，0.08；

0.90，0.95，0.95，0.90。

传统的光源优化方法是现有的，包括基于遗传算法的光源掩模优化方法、基于粒子群的光源优化算法、基于线性规划的光源优化方法等。

请参阅图4，一种集成电路制造光源优化方法还包括如下步骤：

S20、将所述初始光源像素化，设置光源强度阈值且将低于光源强度阈值的光源像素点去除，同时去除孤立的光源像素点；所述步骤S20在所述步骤S1和步骤S2之间。

在步骤S20中，将低于光源强度阈值的光源像素点以及孤立的光源像素点去除，能很好的提高光源的集中程度，以在光源优化的过程中更好的得到合适的光源。具体的光源强度阈值可以根据用户的需求进行设定，比如0.1、0.2、 0.3等数值。如图5中所示，光源强度阈值为0.1，且去除孤立光源像素点之后的示意图。

在步骤S2中，根据所述初始光源的光源强度分布进行区域分割以获得多个子光源区域。

请参阅图6，在本步骤中，具体的区域分割规则是：将每个像素周围8个像素位置有光源强度值的光源像素点分为同一组。具体地，8个像素位置具体包括上、下、左、右、左上、左下、右下、右上。作为一种举例，将初始光源划分为包括8个子光源区域，具体为区域1、区域2、区域3、区域4、区域5、区域6、区域7和区域8。对应图6中的标号1、2、3、4、5、6、7、8。

将初始光源进行划分之后，可以将每个子光源区域的像素进行统一像素值，或者保留原有的光源强度值均可以。

在上述步骤S3中，提供至少两种匹配图形，将所述至少两种匹配图形分别与每个所述子光源区域进行匹配以获得与每个子光源区域对应的至少两个匹配结果。所述至少两种匹配图形包括规则多边形或者不规则多边形，规则多边形包括圆形、矩形、扇形等形状中的一种或者几种，所述不规则多边形包括叶子形、“之”字形、“N”字形等形状中的一种或者几种。

所述至少两个匹配结果包括关于每个匹配图形的形状参数。比如：扇形的形状参数有内半径r1,外半径 r2，角度a1，角度a2，其中以(0,0)坐标点作为圆心计算内外半径；矩形的形状参数为左下角横坐标x1,左下角纵坐标y1，右上角横坐标x2，右上角纵坐标y2，左上角横坐标x3,左上角纵坐标y3，右下角横坐标x4，右下角纵坐标y4；圆形的形状参数为圆心坐标(x,y)，半径r。

请参阅图7、8和图9，为分别用扇形、矩形和圆形与区域1去匹配之后，获得对应的形状参数，通过形状参数重新生成相应的形状，并在形状在填充光源强度值为1。需要说明的是，在图7中的形状与扇形形状存在一定的区别，其主要是由于分辨率的高低决定的。若将分辨率提高，将得到严格的扇形形状。图9中的圆形区域同样是由于图片的分辨率较低导致呈现出类似于正方向形形状。

在上述步骤S4中，基于所述至少两个匹配结果分别与所述每个子光源区域进行计算以获得与所述每个子光源区域对应的最佳匹配图形。

所述至少两个匹配结果为与每个匹配图形对应的形状参数。

请参阅图10，所述步骤S4包括如下步骤：

S41、基于每个匹配图形的形状参数生成对应的形状并于形状内填充光源强度值；

S42、基于所述步骤S41中的形状参数以及光源强度值与初始光源计算以获得匹配参数，根据匹配参数确定最佳匹配图形。

在上述步骤S41中，在形状内填充的光源强度值可以是每个形状填充相同的数值。或者，根据一些填充规则填充不一样的数值均可。

在上述步骤S42中，计算和匹配的方法可以有多种，不做具体的限定。以下提供基于归一化法进行匹配计算的方式，匹配参数R_{ccoeff_normed}的计算公式如下：

式中：T′(x′,y′)为初始光源在点x′,y′处的光源强度值；I′(x′,y′)为与为每个匹配结果对应的匹配图形在点x′,y′处的光源强度值。

计算完毕之后会获得关于每个匹配图形的匹配参数，选择匹配参数值较大的作为最佳匹配图形。

请参阅图11，当针对每个子光源区域均获得最佳匹配图形之后，在步骤S5中，基于与每个所述子光源区域对应的所述最佳匹配图形生成待优化光源。也即，将每个子光源区域的最佳匹配图形按照顺序重新拼接以获得待优化光源。图11中所示的为与初始光源版图相同分辨率的图像，坐标点的间隔为0.625。

请参阅图12，通常，不同的用户对图像的分辨率要求不一样，图12中的图像为提高分辨率之后图像显示结果，坐标点间隔为0.1。

请参阅图13，所述集成电路制造光源优化方法还包括如下步骤：

S6、利用光源优化算法对所述待优化光源进行优化。在本步骤中，光源优化算法为现有的光源优化算法，包括基于遗传算法的光源掩模优化方法、基于粒子群的光源优化算法、基于线性规划的光源优化方法等。

请参阅图14，本发明的第二实施例提供一种电子设备 300，其包括一个或多个处理器301；

存储装置302，用于存储一个或多个程序，

当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器301 执行，使得所述一个或多个处理器301实现如第一实施例或者其变形实施例中提供的集成电路制造光源优化方法。

下面参考图15，其示出了适于用来实现本发明实施例的终端设备/服务器的计算机系统800的结构示意图。图15 示出的终端设备/服务器仅仅是一个示例，不应对本申请实施例的功能和使用范围带来任何限制。

如图15所示，计算机系统800包括中央处理单元 (CPU)801，其可以根据存储在只读存储器(ROM)802中的程序或者从存储部分808加载到随机访问存储器(RAM)803中的程序而执行各种适当的动作和处理。在RAM 803中，还存储有系统800操作所需的各种程序和数据。CPU 801、ROM 802以及RAM 803通过总线804彼此相连。输入/输出(I/O) 接口805也连接至总线804。

以下部件连接至I/O接口805：包括键盘、鼠标等的输入部分806；包括诸如阴极射线管(CRT)、液晶显示器(LCD) 等以及扬声器等的输出部分807；包括硬盘等的存储部分808；以及包括诸如LAN卡、调制解调器等的网络接口卡的通信部分809。通信部分809经由诸如因特网的网络执行通信处理。驱动器810也根据需要连接至I/O接口805。可拆卸介质811，诸如磁盘、光盘、磁光盘、半导体存储器等等，根据需要安装在驱动器810上，以便于从其上读出的计算机程序根据需要被安装入存储部分808。

根据本公开的实施例，上文参考流程图描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如，本公开的实施例包括一种计算机程序产品，其包括承载在计算机可读介质上的计算机程序，该计算机程序包含用于执行流程图所示的方法的程序代码。在这样的实施例中，该计算机程序可以通过通信部分809从网络上被下载和安装，和/或从可拆卸介质811被安装。在该计算机程序被中央处理单元(CPU)801 执行时，执行本发明的方法中限定的上述功能。需要说明的是，本发明所述的计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质或者是上述两者的任意组合。计算机可读存储介质例如可以是—但不限于—电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件，或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子可以包括但不限于：具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机访问存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦式可编程只读存储器(EPROM或闪存)、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器(CD－ROM)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。

可以以一种或多种程序设计语言或其组合来编写用于执行本申请的操作的计算机程序代码，所述程序设计语言包括面向对象的程序设计语言—诸如Java、Smalltalk、 C++，还包括常规的过程式程序设计语言—诸如“C”语言或类似的程序设计语言。程序代码可以完全地在用户计算机上执行、部分地在用户计算机上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算机上部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务器上执行。在涉及远程计算机的情形中，远程计算机可以通过任意种类的网络——包括局域网(LAN)或广域网(WAN)—连接到用户计算机，或者，可以连接到外部计算机(例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接)。

附图中的流程图和框图，图示了按照本发明各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现中，方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这依所涉及的功能而定。也要注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。

上述计算机可读介质承载有一个或者多个程序，当上述一个或者多个程序被该装置执行时，使得该装置执行如下步骤：S1、提供初始光源；S2、根据所述初始光源的光源强度分布进行区域分割以获得多个子光源区域；S3、提供至少两种匹配图形，将所述至少两种匹配图形分别与每个所述子光源区域进行匹配以获得与每个子光源区域对应的至少两个匹配结果；S4、基于所述至少两个匹配结果分别与所述每个子光源区域进行计算以获得与所述每个子光源区域对应的最佳匹配图形；S5、基于与每个所述子光源区域对应的所述最佳匹配图形生成待优化光源；及

S6、利用光源优化算法对所述待优化光源进行优化。

相对于现有技术，本发明提供的一种集成电路制造光源优化方法及电子设备具有如下有益效果，包括如下步骤： S1、提供初始光源；S2、根据所述初始光源的光源强度分布进行区域分割以获得多个子光源区域；S3、提供至少两种匹配图形，将所述至少两种匹配图形分别与每个所述子光源区域进行匹配以获得与每个子光源区域对应的至少两个匹配结果；S4、基于所述至少两个匹配结果分别与所述每个子光源区域进行计算以获得与所述每个子光源区域对应的最佳匹配图形；及S5、基于与每个所述子光源区域对应的所述最佳匹配图形生成待优化光源，将所述至少两种匹配图形分别与每个所述子光源区域进行匹配以获得与每个子光源区域对应的至少两个匹配结果；基于所述至少两个匹配结果分别与所述每个子光源区域进行计算以获得与所述每个子光源区域对应的最佳匹配图形，提供的匹配图形具有光源强度分布集中，光源形状理想的特性，用其与分割的子光源区域进行匹配能很好的提高待优化光源的光源强度集中度，同时使得光源形状更加理想，更好的获得满足用户需求的光源。

所述集成电路制造光源优化方法还包括如下步骤：

S20、将所述初始光源像素化，设置光源强度阈值且将低于光源强度阈值的光源像素点去除，同时去除孤立的光源像素点，能很好的将光源进一步集中化，同时能很好获得有效的需要优化的光源区域，提高光源优化的效率，同时提高光源集中度。

本发明提供的电子设备具有和方法同样的有益效果。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。