阅读说明：本技术 搅拌磨 (Stirring mill ) 是由 E·纳特 A·里切尔 N·克恩 A·斯特姆 于 2019-03-05 设计创作，主要内容包括：本发明提供一种用于加工可流动的研磨物料的搅拌磨。搅拌磨具有研磨容器(2)、由容器壁(9)界定的研磨室(8)、具有可绕中心纵轴线(19)旋转的并具有内径为d351的转子(35)的搅拌器。多个工具(38)安装在转子上并朝向容器壁延伸。搅拌磨还具有安置在转子之内的内定子(22)。在所述转子和内定子的外壁(23)之间形成研磨物料排出通道(47),研磨物料经此被输送至分离装置(30)且随后被送至排出管路。该研磨室至少部分填充有直径为c的研磨介质。在内定子的上方设置有具有直径d30的分离装置。对于转子和研磨介质分离装置之间的距离s适用的是：s＝0.5·(d351-d30)≤5·c。(The invention provides a stirring mill for processing flowable grinding materials. The agitator mill has a grinding vessel (2), a grinding chamber (8) delimited by a vessel wall (9), an agitator having a rotor (35) which is rotatable about a central longitudinal axis (19) and has an inner diameter d 351. A plurality of tools (38) are mounted on the rotor and extend toward the vessel wall. The agitator mill also has an inner stator (22) disposed within the rotor. Between the rotor and the outer wall (23) of the inner stator a grinding stock discharge channel (47) is formed, through which the grinding stock is conveyed to the separating device (30) and subsequently to the discharge line. The grinding chamber is at least partially filled with grinding media having a diameter c. Above the inner stator a separating device with a diameter d30 is arranged. What applies to the distance s between the rotor and the grinding medium separating device is: s is not more than 0.5 (d351-d30) and not more than 5.c.)

搅拌磨

技术领域

本发明涉及一种根据权利要求1的前序部分的搅拌磨。

背景技术

本发明参照欧洲专利文献EP1992412A1。从该文献知道了这种搅拌磨。搅拌磨用于分散悬浮液、即液体中的固体。例如它可用在粘合剂、印刷油墨、化妆品和药品的制造中。为此，研磨物料通过进料通道被送入搅拌磨的形成在转子外壁和容器壁之间的研磨室，并且与以下也称为研磨介质的辅助研磨介质如陶瓷球一起借助安置在转子和/或容器壁上的工具被粉碎。团块通过搅拌运动被分散并且晶体结构被粉碎。在此，初始粒度可以从100-500微米减小到小于3微米。然后，成品通过研磨物料排出通道经由尤其呈保护筛形式的研磨介质分离装置被引导至排出管路。在这种情况下，该转子形成一种围绕分离装置旋转的笼。

在这种搅拌磨中，研磨介质应该尽量仅位于转子和容器壁之间的研磨室中。研磨介质通过安装在转子上并延伸到容器壁附近的工具以及通过所产生的离心力被向外加速和集中。如果工具布置在容器壁上，则工具延伸向转子。或许布置在在容器壁上的工具最好与安装在转子上的工具错位地布置，从而所述工具在转子旋转时能在安置在容器壁上的工具之间穿过。研磨物料朝向转子轴线流过密集的研磨介质填料。通过将研磨介质集中在研磨室内，可以基本避免它们进入研磨物料排出通道。除了将研磨介质集中在环形外部研磨室中外，在研磨物料排出通道中还设置有被设计成阻止研磨介质流向分离装置的机构。

因此，在通常布置在转子之内且由转子和内定子界定的研磨物料排出通道中，尽量没有或只有很少的研磨介质。但是，由于研磨介质淤积在分离装置处总又造成在搅拌磨内的压力升高，这可能导致产品减少，甚至导致自动关停，以免损坏搅拌磨。在根据现有技术的搅拌磨中，刮板可安装在该分离装置上，刮板使研磨介质离开分离装置。然而，这在分散热敏物质特别是***或其它危险物质时可能是不希望的，因为刮板可能在研磨物料中引起发热。

发明内容

本发明的目的是避免由牵引力造成的研磨介质淤积在研磨介质分离装置处和随之而来的分离装置堵塞。

根据本发明，该目的通过权利要求1的特征完成。本发明的核心在于，通过缩小转子和分离装置之间的距离来有效阻止研磨介质堆积在分离装置处。这可以通过增大分离装置的直径、即特别是筛直径来实现。尤其是，在转子和分离装置之间的距离可根据研磨介质直径来选择，而不是仅依据搅拌磨的结构尺寸。此外，可以针对该距离设定与研磨介质尺寸无关的最大值。这些措施可以减少因牵引力而淤积在分离装置处的研磨介质的堆积。因此不仅将保证稳定的产品流，也保证在待分散产品中的粗粒的迅速破碎。

特别是，该任务通过一种具有以下特征的搅拌磨完成。该搅拌磨具有研磨容器和由容器壁界定的研磨室以及可绕中心纵轴线旋转并具有内径d351的转子的搅拌器。多个工具被安装在转子上并延伸向容器壁。此外，延伸向转子的第二工具可安置在容器壁上。搅拌磨还具有安置在转子之内的内定子。在所述转子和内定子的外壁之间形成有研磨物料排出通道，研磨物料经此被引导至分离装置并且随后被引导至排出管路。研磨室至少部分填充有直径为c的研磨介质。在内定子的上方设置具有直径d30的分离装置。转子与分离装置之间距离s的大小依照转子内径与分离装置直径之差来得出。根据本发明，该距离s应根据研磨介质直径c来选择，并且s＝0.5·(d351-d30)≤5·c。在另一优选实施例中，距离s可以与研磨介质直径c相关地为s≤3·c。此外，根据本发明的一个实施例，距离s的值也与研磨介质尺寸无关地不应超过2毫米。

优选地，安装在转子上的工具可以距容器壁9只留下小间隙，其中，该间隙具有间隙宽度b，对于间隙宽度，就研磨介质的直径c而言，适用的关系是：4c≤b≤6c，其中作为最小间隙宽度b适用的是1.0毫米≤b≤2.0毫米。

朝向转子延伸的刮挡工具可安置在内定子上。这些刮挡工具(如果有)优选在中心纵轴线的方向上彼此重叠，并且如此安置在内定子上，即它们在转子驱动时对研磨介质施加在流通方向上取向的冲力。

优选地，在刮挡工具和转子之间形成间隙，对于其间隙宽度e，就研磨介质直径c而言，适用的关系是：4c≤e≤6c，其中，对于最小间隙宽度e适用的是1.0毫米≤c≤2.0毫米。

另外，在搅拌器中，研磨介质回输通道被设计用于将研磨介质从分离装置区域送回到研磨室。

就研磨介质的直径c而言，适用的关系是c≤0.65毫米，优选是0.02毫米≤c≤0.3毫米。

附图说明

其它的特征、优点和细节来自以下结合附图对本发明的说明，其中：

图1以竖向纵剖视图示出根据本发明的一个实施方式的搅拌磨局部。

具体实施方式

图1所示的搅拌磨通常具有带有内置研磨室8的研磨容器2。研磨室8至少部分填充有直径为c的研磨介质43(未示出)。搅拌磨还具有内定子22和可绕中心纵轴线19旋转且具有直径d351的转子35。在这种情况下，在定子22的外壁23和转子35之间形成研磨物料排出通道47。工具38被安装在转子35上并突入研磨室8中。此外，第二工具74与安装在转子35上的工具错开地安置在容器壁9上。作为分离装置的保护筛30位于定子22的上方，该保护筛被设计成关于中心纵轴线19是旋转对称的。保护筛30防止研磨介质43流入在内定子22之内的下游排出管路31。在保护筛30和转子35之间形成距离s。距离s在此可被描述为关系s＝0.5·(d351-d30)，并且尤其可以通过选择保护筛30的直径d30来调节。

当搅拌磨尺寸增大时，原先在保护筛30和转子35之间的距离s也被相应选择为更大。但与预期相反，这并未导致产品流成比例增大。相反，产品流始终达不到预期。

这与以下事实有关，在工作中可能出现：尽管有用于拦截研磨介质43的机构，但它们仍可能因牵引力而淤积在保护筛30处。这会导致流通量减少或筛网完全堵塞。

为了有效地防止这一点，保护筛30与转子35之间的距离s被缩小。在此，距离s可以与研磨介质直径c相关地且与搅拌磨构型无关地来选择。这导致搅拌磨的更高的渗透性，因为研磨介质43沉积在保护筛30处的风险降低，从而造成更快速地破碎在待分散产品中的粗粒。

根据本发明，保护筛30与转子35之间的距离s与研磨介质直径c相关地为s≤5·c或者0.5·(d351-d30)≤5·c。

在另一个优选实施方式中，与研磨介质直径c相关地，对于保护筛30与转子35之间的距离s适用的是：s≤3·c。

在另一个优选实施方式中，也与研磨介质大小无关地，距离s不大于2毫米。

尽管上述实施例示出了具有竖向中心纵轴线19的搅拌磨，但所述说明也可以马上应用在水平位姿或介于两者间的位姿。