本发明属于光刻胶树脂单体,公开了一种含氟光刻胶酸敏树脂单体及其制备方法和应用,涉及光刻胶领域,该树脂单体的结构为：其中R-1为氢或者甲基；R-2为C-1-C-(12)的饱和烷烃基,且烃基结构中的亚甲基可以被酯基、醚基、碳酸酯基替代；R-3为为C-1-C-(12)的饱和烷烃基；R-4为全氟代或者部分氟代的C-1-C-(12)的饱和烷烃基。该树脂单体与其它树脂单体聚合后形成光刻胶树脂,可以改善光刻图案的线边缘粗糙度,提高分辨率,在193nm浸没式光刻中,增加光刻胶的疏水性,形成良好光刻图案。