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氧化物
化学气相沉积设备
本公开提供了一种化学气相沉积设备,属于半导体技术领域。该化学气相沉积设备包括反应腔体、供气组件、气体分配盘、气体控制组件。其中,反应腔体具有多个用于承载晶圆的承载台。供气组件,用于提供反应气体。气体分配盘,数量为多个且与多个承载台一一对应设置。气体控制组件,数量为多个且与多个气体分配盘一一对应设置。气体分配盘与供气组件之间,通过对应的气体控制组件连接。这样能够通过气体控制组件调节反应气体的流量或者通气时间,以控制对应的气体分配盘的气体流量或者通气时间,减小在不同晶圆表面沉积薄膜膜厚的差异,从而可以提高在晶圆上所沉积薄膜的质量,进而降低成本。
2021-11-02
访问量:35
一种量化绕镀的方法及镀膜设备的调整方法
本申请提供一种量化绕镀的方法及镀膜设备的调整方法,属于太阳能电池镀膜技术领域。量化绕镀的方法包括:将标片上料到镀膜设备;标片包括硅片及形成于硅片两侧表面的第一氧化硅层和第二氧化硅层;在第一氧化硅层表面进行镀膜作业,以在第一氧化硅层表面形成镀膜层并在第二氧化硅层表面边缘形成绕镀层;对绕镀层的尺寸进行测量获得绕镀尺寸。镀膜设备的调整方法包括:采用量化绕镀的方法获取绕镀尺寸,镀膜作业包括依次进行本征非晶硅镀膜和N型掺杂非晶硅镀膜;将绕镀尺寸与预设标准比较;当绕镀尺寸不满足预设标准时,对镀膜设备的载板进行调节。该量化绕镀的方法在镀膜后能够及时地获取绕镀的情况,还能避免后道生产工序对评估结果的影响。
2021-11-02
访问量:41
一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟镀膜工艺
本发明提供一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟镀膜工艺,采用可镀多种膜的管式PECVD石墨舟结构,工艺流程如下:S1:机械手抓取硅片插入所述镂空区域的勾点上,使所述硅片位于所述镂空区域中,所述硅片的正面和背面分别位于两个所述镀膜通道中;S2:将所述镉板插入所述隔板安装槽内,对所述镀膜通道进行密封;S3:根据镀膜设计要求,在所述硅片两侧的镀膜通道中分别通入镀膜气体或惰性气体,并将所述电极与电源连通,完成镀膜。本发明单个设备上可以镀多种膜,节省了倒片时间,同时减少倒片过程的划伤,提升了良率。同时避免镀膜过程暴露在空气中,减少污染。
2021-11-02
访问量:37
PERC电池的背面膜层的制作方法和PERC电池
本申请适用于太阳能电池技术领域,提供了一种PERC电池的背面膜层的制作方法和PERC电池。PERC电池的背面膜层的制作方法包括:在待沉积背面膜层的电池基片上沉积氧化铝层,氧化铝层的厚度小于5nm;在沉积了氧化铝层的电池基片上沉积氮氧化硅层;在沉积了氮氧化硅层的电池基片上沉积氮化硅层和氧化硅层。如此,使得TMA耗量低,对背膜后的激光开槽工艺要求较低,背面电路与硅基体的接触电阻较低,PERC电池的光电转换效率高。
2021-11-02
访问量:36
织构强化的κ-Al-(2)O-(3)涂层工具及其制备方法
本发明公开了一种织构强化的κ-Al-(2)O-(3)涂层工具,包括基体及涂覆在所述基体上的涂层;所述涂层包括至少一层κ-Al-(2)O-(3)涂层,所述κ-Al-(2)O-(3)涂层具有优先在(013)方向生长的显微组织结构,其织构系数TC大于2,所述织构系数TC的定义如下:式中:I(hkl)为通过X射线衍射而测量到的(hkl)晶面的反射强度;I-(0)为根据PDF卡号880107的衍射反射的标准强度;n为计算中所用的反射晶面的数目;所用的(hkl)反射晶面为(011)、(002)、(013)、(122)、(004)、(132)、(135)。还公开了一种织构强化的κ-Al-(2)O-(3)涂层工具的制备方法。本发明的目的在于提供一种织构强化的κ-Al-(2)O-(3)涂层工具,其具有良好的切削性能。
2021-11-02
访问量:61
超滑骨架及其加工方法
本发明提供了一种超滑骨架及其加工方法,用于与超滑片组合构成超滑副,所述超滑片置于所述超滑骨架上,包括基底和设于所述基底上的薄膜层,所述薄膜层上设有若干个孔结构,所述薄膜层的表面是原子级平整表面,所述超滑片置于所述薄膜层上,且所述超滑片的尺寸大于所述孔结构的尺寸。本发明提供的超滑骨架,薄膜层的表面满足原子级平整,且孔结构的边缘不影响薄膜层的表面平整度,且超滑片的尺寸大于孔结构的尺寸,超滑片可以在超滑骨架上同时覆盖多个孔结构,从而可以避免超滑骨架上形成的凹凸结构影响其表面平整度,不仅有效的减小了摩擦力,且降低了对于超滑平面的加工要求,降低了加工难度。
2021-11-02
访问量:53
耐高温抗结焦铬铝氮/二氧化钛复合镀层及其制备方法
本发明公开了一种耐高温抗结焦铬铝氮/二氧化钛复合镀层及其制备方法。以碳钢为基底,采用多弧离子镀在碳钢表面制备以Cr打底、CrN为过渡的CrAlN镀层作为中间层,然后采用原子层沉积在中间层表面制备TiO-(2)镀层。本发明采用多弧离子镀和原子层沉积相结合的方法,在基底与TiO-(2)镀层之间引入CrAlN镀层,提高了TiO-(2)镀层在高温、有氧条件下的抗剥落性能,从而使TiO-(2)镀层能更有效的发挥抗结焦功能。
2021-11-02
访问量:43
复合结构物以及具备复合结构物的半导体制造装置
本发明的目的在于提供一种作为可提高抗粒子性(low-particle generation)的半导体制造装置用构件而加以使用的复合结构物以及具备其的半导体制造装置。具体而言,是包含基材和设置在所述基材上且具有表面的结构物的复合结构物,所述结构物作为主成分而含有Y-(3)Al-(5)O-(12),而且其压痕硬度大于8.5GPa的复合结构物的抗粒子性比较出色,作为半导体制造装置用构件而优选被使用。
2021-11-02
访问量:38
一种编码式纳米机器及其控制、制备方法
本发明涉及一种编码式纳米机器人及其控制、制作方法,本发明可以通过编码调节纳米孔与纳米金电极所连接电压源的方向与强度,进而控制纳米孔内的电渗流强度,从而利用电渗驱动和电泳驱动联合或竞争驱动,对具有多自由度的编码式纳米机器人的运动方向以及运动速度进行精准的操控,有利于快速有效地对待测分子进行研究;该纳米机器人的两条脱氧核糖核酸链长度可调节,具有大范围的可调量程,可以基于两纳米孔之间的距离通过合成末端巯基化不同长度的脱氧核糖核酸链,即可控制编码式纳米机器人在捕获情况下的运动范围。
2021-11-02
访问量:55
一种光控可逆疏水件及其制备方法
本发明涉及化学领域,公开了一种光控可逆疏水件及其制备方法,衬底层的表面具有矩形阵列分布的多个微纳结构,每个微纳结构包括氧化钒部以及形成在氧化钒部表面的光化学增强部,由于氧化钒部对可见光的吸收,将光斑聚焦到一定区域,在激光照射区域的微柱结构快速响应出非对称应力发生形变,导致该处微柱结构高度降低,液滴可进入微柱结构间间隙,变为疏水黏附态;进一步增大光强,微柱结构形变量进一步增大,液滴与表面阵列接触面积进一步增大,液滴变为亲水状态。因此,使用本发明提供的光控可逆疏水件可通过光照驱动的方式改变微纳结构的亲疏水状态,从而提高了光控可逆疏水件的稳定性。
2021-10-29
访问量:34
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黑色金属表面的
渗氮
黑色金属表面的
渗碳
黑色金属表面的氧化
使用含氧化合物,例如H2O、CO2
黑色金属表面的氧化
使用元素氧或臭氧的
氧化
仅用一种元素的
使用气体的
局部表面的处理,例如使用掩蔽物的
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