本发明公开了一种大面积弹性CsPbBr-(3)单晶薄膜材料及其制备方法,该单晶薄膜材料通过特殊旋涂法在弹性聚合物表面生长获得,该薄膜材料为最大面积可达100 cm~(2)、厚度小于10μm的立方相CsPbBr-(3)(100)单晶薄膜,且该单晶薄膜表面粗糙度Ra不超过15 nm。此外,通过该方法制备的单晶薄膜具备较好弹性,沿该单晶薄膜表面单一方向进行机械拉伸,其最大应变量可达到11.23%,而沿平面内相互垂直的两个方向同时进行相同应变的机械拉伸,其单个方向上最大应变量可达到5.33%,有利于CsPbBr-(3)基器件应用领域的拓展以及进一步通过应力调节开发单晶薄膜光电相关性能。