本发明公开了一种垂直膜面方向具有硬磁性能且在面内方向具有软磁性能的磁性薄膜及其制备方法,属于磁性薄膜制备技术领域。本发明所述磁性薄膜是利用磁控溅射仪于室温下在基底材料上沉积而成,包括从下而上依次层叠的基底、AlNiCo永磁合金和Ag。所述制备方法包括：利用磁控溅射仪于室温条件下通过直流溅射金属靶材,在基底材料上依次沉积AlNiCo永磁合金和Ag；再将薄膜材料从磁控溅射仪中取出,放入超高真空退后炉中,在真空度优于5.0×10～(-)～(7)Torr的条件下进行退火处理,退火温度为750℃-900℃。利用该制备方法得到的磁性薄膜沿面内方向具有软磁性能且同时沿具垂直膜面方向有硬磁性能,拓宽了AlNiCo薄膜材料的使用性能,不仅可以用作磁码盘材料,还可用作磁传感器材料。

本发明涉及一种增加铁磁薄膜材料的垂直磁各向异性的方法,通过在经过表面抛光和氩离子轰击处理后的Si基片上,沉积Ta/TiC/Co/Ta多层膜结构的方式,并在沉积完毕后进行热处理和冷却降温的方式,制备得到铁磁薄膜材料,本发明通过在制备所述铁磁薄膜材料的Co薄膜的过程中,引入适当的TiC缓冲层的方式,显著增强了Co薄膜的垂直磁各向异性。