本发明公开了一种γ′-Fe-(4)N磁性多孔膜的制备方法,包括:步骤1,将硅基片表面进行清洗,干燥,得到预处理后的硅基片;步骤2,将所述与处理后的硅基片进行磁控溅射镀膜,所述磁控溅射镀膜采用Fe靶材,以氮气作为工作气体,溅射温度为常温;得到非磁性高氮相氮化铁薄膜,所述非磁性高氮相氮化铁薄膜中高氮相氮化铁为Fe-(x)N;步骤3,将所述非磁性高氮相氮化铁薄膜材料进行磁性退火处理:所述磁性退火处理为真空磁性退火,在预定退火温度下保温预定时间,以释放所述高氮相氮化铁中多余的氮并形成孔,冷却后,得到γ′-Fe-(4)N磁性多孔膜;所述氮气纯度在99.99%以上,所述Fe靶材纯度为99.9wt%以上。