本申请适用于微波技术领域,提供了一种相控体制的微波发生装置及其可编程控制频率源芯片。该可编程控制频率源芯片包括：依次连接的信号产生单元、数控衰减器和功分器,与功分器连接的多个处理电路,微处理器；信号产生单元产生预设频率的第一功率信号,数控衰减器对第一功率信号进行第一衰减处理得到第二功率信号,功分器将第二功率信号分为与多个处理电路一一对应的多路功率信号；多路处理电路中的每个处理电路对功分器传输来的功率信号进行移相处理和第二衰减处理；微处理器控制信号产生单元、数控衰减器和多个处理电路以控制可编程控制频率源芯片输出信号的频率、相位和功率。本申请实施例能够对频率源芯片的输出功率进行较为精确的控制。

本申请适用于微波技术领域,提供了一种相控体制的多通道微波发生装置及其可编程频率源芯片。该可编程频率源芯片包括微处理器和至少两个频率源通道,每个频率源通道包括信号产生单元、第一衰减单元、移相单元和第二衰减单元；信号产生单元用于产生预设频率的第一功率信号,第一衰减单元用于对第一功率信号进行第一衰减处理得到第二功率信号,移相单元用于对接收到的信号进行移相处理,第二衰减单元用于对接收到的信号进行第二衰减处理；微处理器用于控制每个频率源通道的信号产生单元、第一衰减单元、移相单元和第二衰减单元以控制每个频率源通道输出信号的频率、相位和功率。本申请实施例能够对可编程频率源芯片的输出功率进行较为精确的控制。

一种用于控制使用固态电子部件产生的射频(RF)能量的施加的功率放大器电子器件可以进一步被配置为控制在高功率与低功率之间RF能量的循环施加。该功率放大器电子器件可以包括：半导体裸片,在该半导体裸片上制造有一个或多个RF功率晶体管；输出匹配网络,该输出匹配网络被配置为在该半导体裸片与可操作地耦合到输出接线片的外部部件之间提供阻抗匹配；以及键合带,该键合带在其端子端部处键合以将该半导体裸片的该一个或多个RF功率晶体管可操作地耦合到该输出匹配网络。该键合带的宽度可以大于该键合带厚度的大约五倍。

一种用于控制使用固态电子部件产生的射频(RF)能量的施加的功率放大器电子器件可以进一步被配置为控制在高功率与低功率之间RF能量的循环施加。该功率放大器电子器件可以包括：半导体裸片,在该半导体裸片上制造有一个或多个RF功率晶体管；输出匹配网络,该输出匹配网络被配置为在该半导体裸片与可操作地耦合到输出接线片的外部部件之间提供阻抗匹配；以及键合线,这些键合线在其端子端部处键合以将该半导体裸片的该一个或多个RF功率晶体管可操作地耦合到该输出匹配网络。这些键合线可以是直径在大约10微米至大约100微米之间的铜键合线。

本发明提供了一种家电设备和家电设备的控制方法,其中,家电设备包括制冷部、微波部、导通通道和可控开关件,其中,制冷部包括制冷腔。微波部设于制冷部上,微波部包括微波腔。导通通道设于制冷部和微波部上,制冷腔通过导通通道与微波腔连通。可控开关件设在制冷部和/或微波部上,可控开关件能够封堵导通通道。本发明中制冷部和微波部不仅是结构上的集成设置,同时对于二者的功能进行关联,即制冷部产生的低温气体能够通过可控开关件和导通通道,可选择地输送至微波腔内,令处于非烹饪模式下的微波腔也能够实现食物保鲜的功能。

本发明公开了一种加热元件及其使用方法。加热元件包括第一端子和第二端子以及在第一端子和第二端子之间延伸的一个或多个加热元件段。该一个或多个加热元件段具有包括至少第一部分和第二部分的电路迹线,该至少第一部分和第二部分构造成使得当在该第一端子和第二端子之间施加电压时,在该至少第一部分和第二部分之间存在表面温度差。加热元件也可以制成三维形状,包括通过将加热元件固定到一个或多个支撑板上而产生的形状。加热元件也可以具有圆柱形状,并且设置在管状构件中的绝缘介质中,以沿着管状构件的长度提供变化的加热能力。

本申请提供一种用于电器控制界面的自动显示的方法,所述电器的门包括显示器并且被配置为选择性地打开和关闭所述电器的空腔,所述方法包括：确定门已经关闭；确定食品存在于所述空腔内；确定主应用显示在所述显示器上；以及所述主应用显示在所述显示器上的情况下,在所述显示器上的所述主应用的子部分上显示控制界面。这样能够便于用户对电器进行操作,提高了用户使用电器的体验。

本公开涉及微波加热装置以及用于操作微波加热装置的方法,明确地说用于加热所述装置的加热室内的至少一种产品。所述微波加热装置包括至少两个辐射部分,其中所述至少两个辐射部分适用于将微波辐射到加热室并且可根据多种操作配置而操作,所述多种操作配置在辐射的微波之间的频率和/或相移方面不同。可通过按若干操作配置依序地操作所述至少两个辐射部分来执行学习程序。针对这些操作配置而计算能量效率数据。可选择操作频率,所述选择基于能量效率数据。可将在所选择的操作频率下具有最大能量效率的操作配置视为参考操作配置。可通过按具有所选择的操作频率以及围绕参考操作配置的相应相移挑选的相应相移的操作配置依序地操作所述至少两个辐射部分来执行加热程序。每一所挑选的操作配置的相移可相对于参考操作配置的相应相移具有一相移距离,以使得在相移的空间中,参考操作配置被所挑选的操作配置围绕。

本发明提出了一种加热装置及用于加热装置的控制方法,该加热装置包括限定有加热室的箱体、设置于所述加热室内的承物架、以及用于产生加热加热室内的待处理物的电磁波的电磁波发生系统,其中,该控制方法包括：获取包括采用电磁波进行加热的加热指令,控制所述电磁波发生系统产生电磁波,之后至少根据待处理物的电磁波吸收率确定所述承物架的最优位置。基于本发明提出的方案,至少根据待处理物的电磁波吸收率确定承物架的最优位置,使待处理物在最优位置处被加热,不仅提高了对待处理物的加热效率,还使得待处理物受热均匀,具有较好的味道口感,减少甚至避免了局部过热、烧焦的现象发生,且无需用户手动调整承物架的位置,提升了用户的体验。

一种控制电子器件可以控制与使用固态电子部件产生的RF能量的施加相关联的功率放大器电子器件。该功率放大器电子器件可以被配置为至少部分地基于学习程序来控制根据烹饪食谱在烤箱中施加RF能量,当执行该学习程序时,该学习程序产生在高功率与低功率之间的功率循环。该控制电子器件可以包括处理电路系统,该处理电路系统被配置为采用热应力缓和技术来控制与该功率循环相关联的功率放大器电子器件上的热应力。