包含两个基于氮化钛的层的日光控制玻璃板

文档序号:1191559 发布日期:2020-08-28 浏览:24次 >En<

阅读说明:本技术 包含两个基于氮化钛的层的日光控制玻璃板 (Solar control glass panel comprising two titanium nitride based layers ) 是由 V.雷蒙 C.蒙梅然 L.J.辛格 于 2019-12-18 设计创作,主要内容包括:车辆或建筑物装配玻璃,具有日光控制性质,包含至少一个支撑多个层的堆叠体的玻璃基底,其中该堆叠体从所述基底表面开始顺序包含由一个或多个基于介电材料的层组成的第一模块M&lt;Sub&gt;1&lt;/Sub&gt;,总厚度为&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;1&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;,厚度为5至35纳米的包含氮化钛的第一层TN&lt;Sub&gt;1&lt;/Sub&gt;,由一个或多个基于介电材料的层组成的第二模块M&lt;Sub&gt;2&lt;/Sub&gt;,总厚度为&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;2&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;,厚度为5至35 nm的包含氮化钛的第二层TN&lt;Sub&gt;2&lt;/Sub&gt;,由一个或多个基于介电材料的层组成的第三模块M&lt;Sub&gt;3&lt;/Sub&gt;,总厚度为&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;3&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;,其中包含氮化钛的TN&lt;Sub&gt;1&lt;/Sub&gt;和TN&lt;Sub&gt;2&lt;/Sub&gt;层的厚度的累积和大于30 nm,其中&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;1&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;为小于30纳米,&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;2&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;为10 nm至100 nm,&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;3&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;为大于10纳米,并且其中厚度比&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;1&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;/&lt;I&gt;t&lt;/I&gt;&lt;Sub&gt;&lt;I&gt;3&lt;/I&gt;&lt;/Sub&gt;小于0.6。(Vehicle or building glazing, having solar control properties, comprising at least one glass substrate supporting a stack of a plurality of layers, wherein the stack comprises, in sequence starting from the surface of said substrate, a first module M consisting of one or more layers based on a dielectric material 1 Total thickness of t 1 First layer TN comprising titanium nitride and having a thickness of from 5 to 35 nm 1 A second module M consisting of one or more layers based on dielectric material 2 Total thickness of t 2 Second layer TN comprising titanium nitride and having a thickness of from 5 to 35 nm 2 A third module M consisting of one or more layers based on dielectric material 3 Total thickness of t 3 TN comprising titanium nitride therein 1 And TN 2 The cumulative sum of the thicknesses of the layers is greater than 30 nm, wherein t 1 Is less than 30 nm and is, t 2 is in the range of 10 nm to 100 nm, t 3 is greater than 10 nm, and wherein the thickness ratio t 1 / t 3 Less than 0.6.)

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