阅读说明：本技术 介质涂覆设备 (Medium coating device ) 是由 M·波尔曼 R·舒勒 S·阿曼 B·埃尔克特 G·西贝尔 I·塞尔 J·德普纳 J·普 于 2018-11-29 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备,该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(18a)上的至少一个介质输出单元(12a-12e；12g),该介质输出单元具有带着至少一个喷嘴元件(16a-16e；16g；16h；106c、108c、110c)的至少一个喷嘴单元(14a-14e；14g),并且该介质涂覆设备具有至少用于控制和/或调节所述介质输出单元(12a-12e；12g)的至少一个电子部件单元(20a；20b)。本发明提出,所述喷嘴元件(16a-16e；16g；16h；106c、108c、110c)的至少一个喷嘴参数是能调整和/或能校准的,和/或,所述喷嘴单元(14g)构造为振荡喷嘴单元、尤其构造为压电喷嘴单元。(The invention relates to a media application device, in particular a paint application device, comprising at least one media delivery unit (12a-12 e; 12g) for delivering at least one medium onto at least one surface (18a), comprising at least one nozzle unit (14a-14 e; 14g) having at least one nozzle element (16a-16 e; 16 g; 16 h; 106c, 108c, 110c), and comprising at least one electronic component unit (20 a; 20b) for controlling and/or regulating the media delivery unit (12a-12 e; 12 g). According to the invention, at least one nozzle parameter of the nozzle elements (16a-16 e; 16 g; 16 h; 106c, 108c, 110c) is adjustable and/or adjustable, and/or the nozzle unit (14g) is designed as an oscillating nozzle unit, in particular as a piezo nozzle unit.)

介质涂覆设备

技术领域

已经提出一种介质涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元和至少用于控制和/或调节介质输出单元的至少一个电子部件单元，该介质输出单元具有带着至少一个喷嘴元件的至少一个喷嘴单元。

发明内容

本发明涉及一种介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元和至少用于控制和/或调节介质输出单元的至少一个电子部件单元，该介质输出单元具有带着至少一个喷嘴元件的至少一个喷嘴单元。

本发明提出，喷嘴元件的至少一个喷嘴参数是可调整和/或可调整的和/或喷嘴单元构造为振荡喷嘴单元、尤其是压电喷嘴单元。优选地，喷嘴元件的至少一个喷嘴参数尤其根据借助于感测设备所感测的特征参量可以自动地调整和/或调整。

介质涂覆设备优选构造为颜料涂覆设备。介质涂覆设备优选构造为手持的介质涂覆设备。替代地可以考虑，介质涂覆设备可以自动地和/或自主地运动。优选地，介质涂覆设备设置成用于制成尤其基于点的壁画。优选地，介质涂覆设备可以设置用于其他应用，用于制成木板画和/或窗口图、用于标记出钻孔和/或管路走向以及其他本领域技术人员认为有意义的应用。“设置”尤其应理解为特定地编程、设计和/或配备。“对象设置用于确定的功能”尤其应理解为，对象以至少一个应用和/或运行状态满足和/或实施该确定的功能。

介质输出单元优选设置成用于，将介质输出到表面上、尤其喷涂到表面上。所述表面尤其可以构造为壁、木板、窗、画布、壁纸、木头面或其他本领域技术人员认为有意义的表面。所述介质尤其可以通过喷嘴元件输出到表面上。优选地，喷嘴元件这样成形，使得介质可以点形地涂覆到表面上。优选地，喷嘴元件可调整地、尤其可旋转地布置在介质涂覆设备的壳体上。替代地或附加地可以考虑，喷嘴元件的喷嘴输出开口的横截面的尺寸可调整地构造。尤其可以通过喷嘴元件的调整改变喷嘴元件到表面上的介质输出方向和/或通过喷嘴元件涂覆在表面上的介质涂覆点的形状或直径。优选地，在喷嘴元件标准定向的情况下喷嘴元件的介质输出方向至少基本上与介质涂覆设备的参照元件、如发光元件、无线电发射器、编码元件等在同一排中定向。优选地，介质涂覆设备相对于表面的位置和/或定向可以参照介质涂覆设备的参照元件尤其通过外部单元感测。喷嘴元件尤其可以这样调整，使得喷嘴元件的介质输出方向与具有介质涂覆设备的参照元件的一排成角度地定向。优选地，可以通过喷嘴元件的这种调整产生介质涂覆部的尖锐的边缘。优选地，喷嘴元件具有至少一个可调整和/或可校准的喷嘴参数。喷嘴参数尤其可以构造为喷嘴元件的定向、喷嘴元件的介质输出压力、喷嘴元件的介质输出量、喷嘴元件的喷嘴输出开口的横截面的尺寸或其他本领域技术人员认为有意义的喷嘴参数。优选地，喷嘴参数可以通过用户调整和/或校准。例如可以考虑，用户根据介质输出单元相对于表面引导的距离来调整喷嘴元件的介质输出压力。原则上可以考虑，喷嘴单元具有多个喷嘴元件。尤其地，喷嘴元件可以彼此并排地、尤其沿着假想的直线布置在介质涂覆设备的壳体上。优选地，喷嘴元件具有用于将介质输出到表面上的相同的介质输出方向。优选地，可以通过多个喷嘴元件将多个介质涂覆点同时涂覆到表面上。优选地，相比于使用单个喷嘴元件，介质涂覆过程可以通过多个喷嘴元件加速。介质涂覆过程尤其构造为以下过程，在该过程中用户借助于介质涂覆设备将用于制成介质涂覆部的介质涂覆到表面上。

介质优选至少部分地构造为液态介质。尤其地，介质可以设置成用于喷涂涂覆。优选地，介质构造为颜料介质、例如喷漆、分散型颜料、丙烯酸类颜料、丙烯酸类漆等。替代地可以考虑，介质构造为喷涂白垩、喷涂薄膜或其他本领域技术人员认为有意义的介质。优选地，介质可以包含在容器中。介质涂覆设备尤其可以具有用于接合和/或固定包含介质的容器的接合和/或固定单元。容器尤其可以构造为胶罐、筒、箱、瓶、喷射罐或其他本领域技术人员认为有意义的容器。替代地可以考虑，介质涂覆设备具有用于直接接收介质的集成容器。优选地，介质可以借助于管路元件供应给介质输出单元。管路元件优选可以与容器连接、尤其这样连接，使得能够实现接收在容器中的介质到喷嘴元件的供应。优选地，介质尤其可以穿过管路元件例如借助于压缩空气单元的压缩空气等供应给喷嘴元件。压缩空气单元尤其可以集成到介质涂覆设备中或者构造为外部压缩空气单元。压缩空气单元例如可以构造为压缩空气压缩器等。替代地或附加地可以考虑，喷嘴单元具有至少一个尤其与喷嘴元件连接的阀元件。尤其地，可以借助于喷嘴单元的阀元件调节介质至喷嘴元件的流量和/或调整介质的输出压力。

“电子部件单元”尤其应理解为具有至少一个控制电子部件的单元。“控制电子部件”尤其应理解为具有处理器单元和存储器单元以及存储在存储器单元中的运行程序的单元。优选地，电子部件单元可以控制和/或调节介质输出单元的多个参数。优选地，电子部件单元可以控制和/或调节介质输出的进行、介质输出的持续时间以及其他本领域技术人员认为有意义的参数。优选地，电子部件单元可以根据另外的参数和/或特征参量控制和/或调节介质输出单元。优选地，电子部件单元为了控制和/或调节介质输出单元可以与介质输出单元连接、尤其导电地连接。

构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元尤其设置成用于，通过喷嘴单元的激励出振动的振荡膜片输出介质。构造为压电喷嘴单元的喷嘴单元优选具有至少一个压电晶体，该压电晶体设置成用于激励喷嘴单元的振荡膜片产生振动。优选地，喷嘴单元构造为超声喷嘴单元，其中，喷嘴单元的振荡膜片尤其可以在超声频率范围中激励出振动。优选地，构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元至少区段式地布置在用于接收介质的容器上。优选地，构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元、尤其是喷嘴单元的振荡膜片至少区段式地构造用于接收介质的容器的侧壁。构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元尤其设置成用于输出多个不同的介质，如润滑剂、盘解冻剂、喷雾式粘接剂、除霉剂、防虫剂、能见度喷雾、尿素溶液、护理剂、清洁剂、冷却剂、水、调味汁等。

优选地，构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元设置成用于输出介质，为此使介质至少部分地雾化。优选地，包括构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元的介质涂覆设备设置成用于产生喷涂图像，例如借助于输出喷涂颜料。但也可以考虑，介质涂覆设备设置成使用在车辆中，其中，振荡喷嘴单元例如设置成用于输出用于废气后处理的尿素溶液、用于在车辆的内室中输出清洁剂等，介质涂覆设备设置成使用在家用器具中，例如使用在冰箱、咖啡机、烤箱、擦拭机器人或者淋浴头或水龙头中，其中，振荡喷嘴单元例如设置成用于自动地输出清洁剂、水雾、调味汁等，或者，介质涂覆设备设置成用于使用在工具机上，其中，振荡喷嘴单元例如设置成用于输出冷却剂、润滑剂等。

通过介质涂覆设备的根据本发明的构型可以有利地调整和/或校准喷嘴元件的喷嘴参数。有利地，喷嘴元件的喷嘴参数可以针对介质涂覆设备的不同的应用情况优化。有利地，介质涂覆设备可以使用在用于制成介质涂覆部的不同的应用情况中。有利地，能够实现针对应用情况优化的、尤其有利地精确的介质输出。

此外提出，电子部件单元设置成用于自动地调整和/或校准喷嘴参数。尤其地，电子部件单元设置成用于，根据另外的参数调整喷嘴参数。优选地，电子部件单元可以根据介质输出单元相对于表面的距离调整喷嘴元件的介质输出压力。尤其地，介质涂覆设备可以具有距离传感器单元、如激光雷达器、雷达器等，所述距离传感器单元优选设置成用于感测介质输出单元相对于表面的距离。优选地，距离传感器单元将关于介质输出单元相对于表面的距离的尤其是电信号传导到电子部件单元上。替代地可以考虑，电子部件单元从另外的、尤其在介质涂覆设备外部构造的单元得到关于介质输出单元相对于表面的距离的信号。优选地，介质输出单元可以具有驱动部、如伺服电机等。尤其地，电子部件单元可以操控伺服电机进行喷嘴元件的定向的自动调整和/或校准。有利地，可以减轻用户的调整和/或校准喷嘴参数的负担。有利地，可以使用户在介质涂覆过程期间减轻负担。有利地，能够实现舒适的介质涂覆过程。

此外提出，介质涂覆设备包括至少一个清洁和/或避免污染单元，该清洁和/或避免污染单元具有用于介质输出单元的至少一个清洁功能和/或该清洁和/或避免污染单元至少设置成用于避免围绕介质输出单元的环境的污染。清洁和/或避免污染单元优选与介质输出单元、尤其是介质输出单元的喷嘴单元连接和/或集成到介质输出单元中。清洁和/或避免污染单元优选具有用于清洁介质输出单元、尤其是介质残渣的至少一个功能。优选地，清洁和/或避免污染单元具有多个清洁功能。尤其地，清洁和/或避免污染单元尤其为了提供多个清洁功能而具有至少一个子单元和/或元件、优选多个子单元和/或元件。优选地，清洁功能可以构造为以清洁介质、尤其以清洁流体冲洗喷嘴元件和/或阀元件、吹净喷嘴元件和/或阀元件、擦拭喷嘴元件、机械地刮净喷嘴元件和/或阀元件、通过喷嘴元件和/或阀元件的振动移除介质残渣或者其他本领域技术人员认为有意义的清洁功能。

优选地，围绕介质输出单元的环境包括表面、尤其是表面的不设置用于介质涂覆部的区域和另外的尤其静止的、围绕介质输出单元的物体。尤其在内室中使用介质输出单元的情况下布置在内室中的物体、如家具、墙、门或类似物可以形成围绕介质输出单元的环境。尤其在外部区域中使用介质输出单元的情况下布置在外部区域中的物体、如树、房屋或类似物可以形成围绕介质输出单元的环境。优选地，清洁和/或避免污染单元设置成用于至少基本上防止通过介质输出单元将介质输出到围绕介质输出单元的环境的不设置用于介质涂覆的区域上。清洁和/或避免污染单元尤其设置成用于这样影响通过介质输出单元的介质输出，使得避免围绕介质输出单元的环境尤其通过介质的污染。清洁和/或避免污染单元为了避免围绕介质输出单元的环境的污染尤其具有至少一个子单元和/或元件、优选多个子单元和/或元件。优选地，清洁和/或避免污染单元通过吸走在喷嘴元件处的介质、通过使介质转向、通过收集介质、通过例如借助于沟槽等导出介质、通过精确地施撒(Ausbringen)介质、通过用于喷嘴元件的液滴保护或者以另外的本领域技术人员认为有意义的方式避免围绕介质输出单元的环境的污染。

优选地，构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元与清洁和/或避免污染单元作用连接或至少部分地构造清洁和/或避免污染单元。清洁和/或避免污染单元尤其用于清洁振荡膜片、尤其是振荡膜片的多个介质穿透开口。

通过介质涂覆设备的根据本发明的构型可以有利地清洁介质输出单元。有利地，可以防止阀元件和/或喷嘴元件的堵塞和/或干燥。有利地，可以提供具有长使用寿命和少维护费用的介质涂覆设备。有利地，可以实现高的用户舒适性。有利地，可以避免围绕介质输出单元的环境的污染。有利地，能够实现至少基本上没有清洁费用的介质涂覆过程。

此外提出，清洁和/或避免污染单元具有至少一个清洁元件，该清洁元件设置成用于清洁喷嘴单元的喷嘴元件和/或阀元件。优选地，清洁元件布置在喷嘴元件和/或阀元件上。替代地可以考虑，清洁元件布置在介质输出单元外部，例如布置在清洁站等中。优选地，清洁元件设置成用于借助于清洁流体清洁喷嘴元件和/或阀元件。清洁流体尤其可以构造为清洁液体、压缩空气或其他本领域技术人员认为有意义的清洁流体。替代地可以考虑，清洁元件设置成用于借助于超声、机械作用或另外的本领域技术人员认为有意义的措施来清洁喷嘴元件和/或阀元件。有利地，可以清洁喷嘴元件和/或阀元件。有利地，可以防止阀元件和/或喷嘴元件的堵塞和/或干燥。

此外提出，清洁和/或避免污染单元具有用于接收至少一种清洁流体和/或清洁流体单元的至少一个储备单元。优选地，储备单元构造为尤其至少基本上流体密封的箱。优选地，储备单元包括尤其可关闭的灌充元件，通过该灌充元件可以使储备单元优选灌充以清洁流体。替代地或附加地可以考虑，储备单元包括用于接收至少一个清洁流体单元的至少一个接收元件。清洁流体单元尤其可以构造为包含清洁流体的容器。优选地，清洁流体单元、尤其是空的清洁流体单元可以从储备单元取下并且可以通过新的、尤其装满的清洁流体单元替代。优选地，接收元件可以构造为螺旋封闭件、卡接封闭件、卡锁封闭件或其他本领域技术人员认为有意义的接收元件。优选地，储备单元尤其为了提供清洁流体与清洁元件和/或与喷嘴单元连接。有利地，可以接收并且提供尤其用于清洁介质输出单元的清洁流体。

此外提出，介质涂覆设备包括至少一个清洁和/或避免污染单元、尤其是前面提到的清洁和/或避免污染单元，该清洁和/或避免污染单元具有用于与介质涂覆方向相反地输送清洁流体的至少一个负压单元。优选地，负压单元尤其为了输送清洁流体与储备单元和/或清洁元件连接。优选地，负压单元设置成用于将清洁流体至少从储备单元输送至清洁元件。负压单元尤其为了输送清洁流体而设置成用于产生负压。优选地，清洁流体通过负压从储备单元中抽出。优选地，负压单元构造为泵或其他本领域技术人员认为有意义的负压单元。介质涂覆方向尤其相应于以下方向地实现，在该方向中介质通过喷嘴元件尤其输出到表面上。优选地，清洁流体通过负压单元并且尤其通过清洁元件与介质涂覆方向相反地输送经过喷嘴元件和/或阀元件。有利地，可以将介质残渣从喷嘴元件和/或从阀元件输送出。有利地，可以防止喷嘴元件和/或阀元件的堵塞和/或干燥。

此外提出，喷嘴单元尤其为了借助清洁和/或避免污染单元来清洁喷嘴单元的喷嘴元件和/或阀元件而构造为转塔喷嘴单元。优选地，转塔喷嘴单元包括多个喷嘴元件。附加地可以考虑，转塔喷嘴单元具有多个阀元件。优选地，转塔喷嘴单元尤其为了转塔喷嘴单元的灵活的应用可能性而具有多个不同构造的喷嘴元件和/或阀元件。喷嘴元件尤其可以通过喷嘴元件的喷嘴开口的直径、通过喷嘴开口的形式、通过喷嘴元件的尺寸、通过喷嘴元件的造型和/或通过喷嘴元件的其他本领域技术人员认为有意义的特征来区分。阀元件尤其可以通过阀元件的容积、通过阀元件的长度、通过阀元件的操纵机构和/或通过阀元件的其他本领域技术人员认为有意义的特征来区分。优选地，可以通过转塔喷嘴单元的运动、尤其是旋转将至少一个喷嘴元件和/或阀元件转换到工作位态中并且同时将至少一个另外的喷嘴元件和/或阀元件转换到清洁位态中。在工作位态中，喷嘴元件尤其设置成用于介质输出。在清洁位态中，喷嘴元件尤其设置成用于优选通过清洁元件进行清洁。优选地，介质输出可以通过至少一个喷嘴元件进行，而同时进行至少一个另外的阀元件和/或喷嘴元件的清洁。有利地，可以消除介质涂覆过程的用于清洁阀元件和/或喷嘴元件的中断的必要性。有利地，相比于没有转塔喷嘴单元，能够实现更顺利并且更有效的介质涂覆过程。有利地，可以实现高用户舒适性。

此外提出，清洁和/或避免污染单元具有至少一个促动器元件、至少一个推杆元件和至少一个膜片元件以用于通过喷嘴元件施撒介质。优选地，促动器元件与推杆元件作用连接。优选地，推杆元件与膜片元件作用连接。优选地，至少膜片元件布置在阀元件上。尤其地，位于阀元件中的介质可以借助于膜片元件的运动压缩。优选地，介质由于压缩可以通过喷嘴元件挤出并且尤其施撒。优选地，膜片元件通过推杆元件的运动激励出运动。优选地，推杆元件通过促动器元件激励出运动。促动器元件尤其可以构造为磁性执行器、涡流执行器、压电执行器或其他本领域技术人员认为有意义的促动器元件。优选地，促动器元件由电子部件单元控制和/或调节。有利地，受控制的介质输出可以通过喷嘴元件实现。有利地，尤其由于清洁和/或避免污染单元的构造可以防止喷嘴元件和/或阀元件的堵塞和/或干燥。

此外提出，喷嘴单元具有用于输出介质的至少一个振荡膜片和用于振荡膜片的尤其在超声频率范围中的振动激励的至少一个激励元件。优选地，振荡膜片至少部分弹性地构造，尤其可以激励出振动。优选地，振荡膜片具有多个介质穿透开口，通过所述介质穿透开口可以施撒介质。介质穿透开口尤其构造为振荡膜片的穿孔或孔洞。振荡膜片尤其构造为超声膜片、优选构造为超声板。振荡膜片尤其至少基本上构造作为振荡喷嘴单元构造的喷嘴单元的喷嘴元件。振荡膜片在振荡膜片的主延伸平面中观察优选圆面形地构造。替代地可以考虑，振荡膜片在振荡膜片的主延伸平面中观察椭圆面形、多边形、如正方形或三角形等等地构造。物体的“主延伸平面”尤其应理解为以下平面，该平面平行于刚好还完全围绕所述物体的最小假想的直角平行六面体的最大侧面并且尤其经过所述直角平行六面体的中点走向。

优选地，激励元件布置在振荡膜片上，尤其与振荡膜片作用连接。优选地，激励元件设置成用于使振荡膜片激励出至少基本上垂直于振荡膜片的主延伸平面的振动。优选地，振荡膜片和激励元件这样构造，使得振荡膜片由于横向于振荡膜片的主延伸平面的激励触碰介质输出单元的介质运输元件，该介质运输元件设置成用于将介质从用于接收介质的容器输送至振荡膜片，并且从介质运输元件接收介质的一部分并且通过振荡膜片的接下来的运动沿背离用于接收介质的容器的方向将介质通过介质穿透开口输出、尤其抛出。介质运输元件尤其可以能抽吸地构造并且按照灯芯原理或海绵原理起作用。替代地可以考虑，介质输出单元没有介质运输元件地构造并且振荡膜片和激励元件这样构造，使得振荡膜片由于横向于振荡膜片的主延伸平面的激励至少部分地伸入到介质中，例如伸入用于接收介质的容器内部，在该容器上布置有振荡膜片，在此接收介质的一部分并且通过振荡膜片的接下来的运动沿背离容器的方向将介质通过介质穿透开口输出、尤其抛出。

构造为振荡喷嘴单元的喷嘴单元尤其设置成用于以每秒至少50个介质涂覆点的输出频率、优选以每秒至少100个介质涂覆点的输出频率并且特别优选以每秒至少200个介质涂覆点的输出频率输出、尤其印刷介质涂覆点。激励元件尤其设置成用于以至少1kHz的激励频率、优选以至少16kHz的激励频率、特别优选以至少20kHz的激励频率并且完全特别优选以至少130kHz的激励频率振动地激励振荡膜片。激励元件尤其设置成用于以最高200kHz的激励频率振动地激励振荡膜片。优选地，激励元件设置成用于以预先确定的、优选可调节的波形、例如以正弦波形、三角波形、锯齿波形或其他本领域技术人员认为有意义的波形振动地激励振荡膜片。优选地，通过介质涂覆设备的电子部件单元可以给激励元件预先规定期望的激励频率和/或波形，尤其通过将电压施加到激励元件上。优选地，激励元件构造为压电晶体。压电晶体尤其由于施加到压电晶体上的电压改变其形状，这尤其通过压电晶体与振荡膜片的机械耦合导致振荡膜片的振动。替代地可以考虑，激励元件构造为MEMS执行器(微机械系统执行器)、超声转换器或其他本领域技术人员认为有意义的激励元件。有利地，能够实现精确控制的介质输出。

此外提出，激励元件沿着振荡膜片的至少基本上整个最大周边至少基本上环形地布置在振荡膜片上。激励元件尤其沿着振荡膜片的最大周边的至少60％、优选沿着振荡膜片的最大周边的至少75％、特别优选沿着振荡膜片的最大周边的至少90％并且完全特别优选沿着振荡膜片的整个最大周边至少基本上环形地布置在振荡膜片上。优选地，激励元件沿着振荡膜片的至少基本上整个最大周边与振荡膜片机械耦合。振荡膜片尤其沿着振荡膜片的至少基本上整个最大周边固定在激励元件上。优选地，激励元件限界振荡膜片在振荡膜片的主延伸平面中的延伸。激励元件优选构造为压电环。替代地可以考虑，激励元件构造为MEMS环等。有利地，可以提供紧凑构造的喷嘴单元，该喷嘴单元能够实现振荡膜片的有利均匀的激励。有利地，能够实现恒定质量的精确的介质输出。

此外提出，振荡膜片具有介质穿透开口的至少一个穿孔网栅，该穿孔网栅这样构造，使得借助于喷嘴单元可以产生介质涂覆点，所述介质涂覆点具有大于1mm的最大直径。介质穿透开口的穿孔网栅尤其这样构造，使得借助于喷嘴单元可以印刷介质涂覆点，所述介质涂覆点具有大于1mm的最大直径。尤其地，振荡膜片具有介质穿透开口的至少一个穿孔网栅，该穿孔网栅这样构造，使得可以借助于喷嘴单元以喷嘴单元相对于在其上进行介质输出的表面的距离、优选以喷嘴单元相对于所述表面的最高35cm的距离、特别优选以喷嘴单元的相对于所述表面的最高20cm的距离并且完全特别优选以喷嘴单元相对于所述表面的最高10cm的距离产生介质涂覆点，所述介质涂覆点具有大于1mm的最大直径。尤其为了印刷介质涂覆点，喷嘴单元具有相对于待印刷的表面的最高1cm的距离、优选相对于待印刷的表面的最高5mm的距离并且特别优选相对于待印刷的表面的最高3mm的距离。穿孔网栅尤其构造为振荡膜片的以下区域，在该区域中布置有介质穿透开口。穿孔网栅优选可以尤其根据介质涂覆点的要产生的形状具有不同的形状。穿孔网栅优选圆形地、椭圆形地、卵形地、多边形地、如方形地、六边形地、菱形地、三角形地或梯形地、半圆形等等地构造。替代地或附加地可以考虑，穿孔网栅构造题材(Motiv)，如季节题材、动物形状、人物肖像、企业图标等。优选地，穿孔网栅布置在振荡膜片的中心区域中。振荡膜片的中心区域尤其是振荡膜片的尤其在振荡膜片的主延伸平面中的围绕中点的区域。

优选地，介质穿透开口具有直径，该直径构造为要输出的介质的最大颗粒尺寸的至少三倍大。优选地，介质穿透开口至少基本上垂直于振荡膜片的主延伸平面地延伸穿过振荡膜片。介质穿透开口尤其柱形、截锥形等地构造。介质穿透开口尤其相对彼此等距地布置。振荡膜片尤其具有介质穿透开口的每平方毫米至少1个介质穿透开口、优选每平方毫米至少5个介质穿透开口、特别优选每平方毫米至少10个介质穿透开口并且完全特别优选每平方毫米至少20个介质穿透开口的密度。优选地，设置用于喷射地输出和/或用于使介质雾化的喷嘴单元可以包括振荡膜片，该振荡膜片具有介质穿透开口的每平方毫米至少80个介质穿透开口的密度。振荡膜片尤其具有至少50个介质穿透开口、优选至少75个介质穿透开口并且特别优选至少100个介质穿透开口。振荡膜片尤其具有至少1mm、优选至少2mm并且特别优选至少3mm的最大直径。优选地，振荡膜片设置成用于输出基于水的颜料、尤其是基于水的丙烯酸类漆。介质涂覆设备尤其可以具有至少一个混合器单元和/或腔系统以用于调整颜料与水的混合比例。优选地，清洁和/或避免污染单元设置成用于清洁介质穿透开口，尤其在堵塞时冲干净、吹干净介质穿透开口。有利地，能够实现可灵活适配的和大面积的介质涂覆部。

此外提出，介质涂覆设备包括尤其与清洁和/或避免污染单元作用连接的至少一个混合器单元，该混合器单元设置成用于使至少两个不同的介质混合。可以考虑，介质涂覆设备构造成用于在与清洁和/或避免污染单元无关的替代构型中以根据本发明的方式解决任务。优选地，介质涂覆设备在与替代构型中、尤其在与清洁和/或避免污染单元无关构造的构型中至少包括混合器单元，该混合器单元设置成用于使至少两个不同的介质混合。优选地，清洁和/或避免污染单元设置成用于清洁混合器单元。优选地，混合器单元具有至少一个混合腔，在该混合腔中使至少两个不同的介质混合。优选地，混合腔与多个、优选与所有包含不同介质的容器连接。优选地，不同的介质可以从容器输送到混合腔中。优选地，混合器单元具有至少一个计量元件、优选数量相应于不同介质的数量的计量元件以用于计量不同介质到混合腔中的流量。尤其地，混合器单元可以具有至少一个混合器元件、如搅拌器等。优选地，混合器元件布置在混合腔中。混合器元件尤其设置成用于使不同介质混合。优选地，在不同介质构造为不同颜料时可以由少数基本颜料、尤其由四种基本颜料通过混合器单元混合所有颜料。有利地，可以自动地混合不同的介质。有利地，能够实现多种介质输出。有利地，可以实现高用户舒适性。

此外提出，清洁和/或避免污染单元具有至少一个介质供应单元，该介质供应单元设置成用于将介质尤其在过压的作用下供应给介质输出单元。优选地，过压构造为高于围绕介质输出单元的环境的环境压力、尤其是空气压力的压力。所述过压尤其构造为以下压力，该压力高于存在于空的阀元件中的压力。优选地，介质供应单元具有介质供应元件、如软管、管等，以用于将介质供应至介质输出单元。尤其地，介质供应元件尤其为了引导介质与混合器单元、尤其与混合器单元的混合腔和/或与包含介质的至少一个容器连接。尤其地，介质供应元件与介质输出单元、尤其与喷嘴元件和/或阀元件连接。优选地，介质供应单元具有用于输送介质的至少一个介质输送元件、如泵等。尤其地，介质输送元件布置在介质供应元件上。优选地，介质输送元件设置成用于产生过压，该过压将尤其来自混合器单元的混合腔中的介质从喷嘴元件挤出和/或挤到阀元件中。优选地，介质通过过压经由喷嘴元件施撒。有利地，介质尤其在过压的作用下供应给介质输出单元。有利地，可以防止阀元件和/或喷嘴元件的堵塞和/或干燥。

此外提出，清洁和/或避免污染单元具有至少一个介质导回单元，该介质导回单元设置成用于至少在介质涂覆过程期间接收介质的至少一部分并且供应给混合器单元和/或介质输出单元。介质涂覆过程尤其构造为以下过程，在该过程中用户借助于介质涂覆设备将介质涂覆到所述表面上以用于制成介质涂覆部。优选地，介质导回单元设置成用于接收介质的对于介质涂覆部剩余的部分并且供应给混合器单元和/或介质输出单元。尤其地，介质导回单元具有用于接收、尤其用于收集介质的一部分的至少一个收集元件。介质导回单元尤其具有用于将介质的部分导回到混合器单元和/或介质输出单元上的至少一个导回元件。尤其地，收集元件和导回元件相互连接地、优选一件式地构造。优选地，导回元件与混合器单元的混合腔、喷嘴元件和/或阀元件连接。优选地，收集元件在介质涂覆方向中观察布置在喷嘴元件后面，尤其至少部分地布置在介质从喷嘴元件输出之后的飞行轨迹中。尤其可以考虑介质输出单元按照连续喷墨方法的运行。优选地，在介质输出单元按照连续喷墨方法的运行中尤其借助于介质输出单元的充电电极以静电方式充电的各个介质滴通过喷嘴元件输出。尤其地，介质滴借助于介质输出单元的至少一个偏转电极偏转到所述表面上的确定位置上。尤其地，多余的和/或偏转过远的介质滴可以通过收集元件收集并且通过导回元件供应给混合器单元和/或介质输出单元。有利地，可以再使用介质的一部分。有利地，可以避免围绕介质输出单元的环境由于多余介质的污染。

此外提出，清洁和/或避免污染单元具有至少一个偏转单元，该偏转单元设置成用于至少在介质涂覆过程期间使介质的至少一部分偏转。优选地，偏转单元设置成用于，将输出的介质的至少一部分从介质的尤其通过喷嘴元件的定向和输出压力预给定的飞行轨迹偏转开。尤其地，偏转单元具有至少一个偏转元件，该偏转元件设置成用于使介质的至少一部分偏转。优选地，偏转元件可以构造为直接的或间接的偏转元件。直接的偏转元件尤其直接与待偏转的介质接触。直接的偏转元件尤其可以构造为壁、幕或其他本领域技术人员认为有意义的直接偏转元件，该直接偏转元件尤其可以至少部分地运动到介质的飞行轨迹中。间接的偏转元件尤其产生用于偏转介质的力。间接的偏转元件尤其可以构造为用于产生空气幕的空气喷嘴、用于产生磁场的磁体、尤其是电磁体或者其他本领域技术人员认为有意义的间接偏转元件。优选地，偏转单元具有用于接收偏转介质的另外的收集元件和用于将偏转介质导回到介质输出单元和/或混合器单元上的另外的导回元件。替代地可以考虑，为了接收偏转的介质使用介质导回单元的收集元件，并且为了将偏转介质导回到混合器单元和/或介质输出单元上使用介质导回单元的导回元件。有利地，可以导回介质。有利地，可以避免围绕介质输出单元的环境的污染。

此外提出，至少喷嘴单元、清洁元件、储备单元、混合器单元、介质供应单元、介质导回单元和/或偏转单元具有防污涂层。优选地，喷嘴单元、尤其是喷嘴单元的喷嘴元件和阀元件以及清洁元件以及储备单元以及混合器单元、尤其是混合器单元的混合腔以及介质供应单元、尤其是介质供应单元的介质供应元件和和介质输送元件以及介质导回单元、尤其是介质导回单元的收集元件和导回元件以及偏转单元、尤其是偏转单元的偏转元件、所述另外的收集元件和所述另外的导回元件具有防污涂层。优选地，防污涂层构造为例如根据莲花原理的纳米结构涂层或其他本领域技术人员认为有意义的防污涂层。有利地，可以简化介质涂覆设备的清洁。有利地，可以实现高用户舒适性。

此外提出，介质涂覆设备包括至少一个操作单元和/或操作功能，其中，操作单元和/或操作功能设置成用于控制和/或调节介质涂覆设备的至少一个功能。尤其可以考虑操作单元和/或操作功能的下列实施方式，其中，以下列表不是最终的：

·操作单元优选构造为开关元件、例如构造为开闭开关、喷嘴操纵开关、按键、触摸开关、用于断开电流的物理开关等并且符合人体工程学地布置在用户的拇指的抓握区域中。

·操作单元优选构造为输出单元。

·操作单元和/或操作功能优选设置成用于没有限制地自由施撒单点。

·操作单元优选构造为安全操作元件，和/或，操作功能构造为安全操作功能，例如构造为打开锁、持续操纵功能或类似物。

·操作单元尤其构造为复位操作元件，和/或，操作功能构造为复位激活功能，以便触发系统、尤其是介质涂覆设备的运行系统的重新启动。

·操作单元优选构造为蓝牙操作元件，和/或，操作功能构造为蓝牙激活功能。

·也可以考虑设置成用于建立介质涂覆设备和摄像机和/或计算机单元之间的连接的无线连接配对操作元件和/或无线连接配对功能。

·操作单元和/或操作功能尤其设置成用于控制由两个或更多颜料的以分级的和/或无级的方式的混合颜料的输出。

·操作单元和/或操作功能优选设置成用于控制借助于一个或多个颜料稀释剂的以分级的和/或无级的方式的颜料稀释。

·优选设置有清洁激活操作元件和/或清洁激活功能。

·操作单元优选可以构造为触觉元件。触觉元件优选构造为振动元件。触觉元件尤其可以不同地定位在器具上、尤其定位在介质涂覆设备的壳体上。优选地，多个触觉元件可以定位在器具上、尤其定位在介质涂覆设备的壳体上，所述触觉元件也可以单独地使用。

此外提出，操作单元和/或操作功能设置成用于将至少一个单点一次地施撒在确定的位置上。

此外提出，操作单元和/或操作功能设置成用于将至少一个单点重复地施撒在确定的位置上。操作单元和/或操作功能尤其设置成用于进行单点在确定的位置上的重复施撒。

此外提出，操作单元和/或操作功能设置成用于分级地或无级地控制至少一个单点的期望尺寸。

此外提出，介质涂覆设备包括至少一个操作单元和/或操作功能、尤其是所提到的操作单元和/或所提到的操作功能，其中，操作单元和/或操作功能设置成用于分级地或无级地控制至少一个单点的灰度值或色度。操作单元和/或操作功能优选设置成用于激活或解除激活喷涂图像的尤其点尺寸和/或灰度等级的自动操控。

此外提出，操作单元和/或操作功能设置成用于自动地操控至少一个工作模式。

此外提出，操作单元和/或操作功能设置成用于控制至少一个显示器。操作单元和/或操作功能尤其设置成用于控制显示器、尤其是用于显示在工作区域的背景前的颜料平面上的工作位置的显示器的视图。

此外提出，操作单元和/或操作功能设置成用于控制至少一个照明单元。操作单元尤其构造为照明操作元件和/或操作功能构造为照明操作功能。

此外提出，操作单元和/或操作功能设置成用于语音或手势控制。介质涂覆设备的操控尤其也可以通过语音和/或手势控制实现。

此外，本发明涉及一种用于介质涂覆设备、尤其是根据本发明的介质涂覆设备的运行的方法。

本发明提出，尤其在至少一个方法步骤中清洁至少一个喷嘴元件和/或至少一个阀元件。有利地，可以清洁喷嘴元件和/或阀元件。有利地，可以防止阀元件和/或喷嘴元件的堵塞和/或干燥。

此外，本发明涉及一种具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据本发明的介质涂覆设备和至少一个控制和/或调节单元的涂覆系统。

本发明提出，控制和/或调节单元具有至少一个感测设备，该感测设备设置成用于感测介质涂覆设备相对于至少一个表面的至少一个位置和/或定向，并且介质涂覆设备的至少一个电子部件单元设置成用于参照感测设备的至少一个特征参量控制和/或调节介质涂覆设备的至少一个介质输出单元。“控制和/或调节单元”尤其应理解为具有至少一个控制电子部件的单元。优选地，控制和/或调节单元可以构造为外部控制和/或调节单元，该外部控制和/或调节单元尤其布置在介质涂覆设备的外部。控制和/或调节单元尤其可以构造为移动设备、如智能手机、平板电脑或其他本领域技术人员认为有意义的移动设备。替代地或附加地可以考虑，将控制和/或调节单元集成到介质涂覆设备中。尤其地，控制和/或调节单元、尤其是控制和/或调节单元的感测设备可以与介质涂覆设备布置在共同的壳体中。感测设备尤其设置成用于感测介质涂覆设备相对于表面、尤其根据介质涂覆设备的参照元件的至少一个位置和/或定向。为了感测介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的参照元件，感测设备优选具有至少一个感测元件。感测元件尤其可以构造为摄像机、光学传感器、电磁传感器、声学传感器或其他本领域技术人员认为有意义的感测元件。尤其地，感测设备可以具有多个优选不同的感测元件。

优选地，介质涂覆设备和控制和/或调节单元分别具有尤其无线的至少一个通信单元以用于彼此和/或与至少一个另外的外部单元交换电子数据。通信单元尤其设置成用于以小于30ms的延迟时间传递数据。通信单元优选构造为蓝牙单元、无线电单元、基于光的通信单元或其他本领域技术人员认为有意义的通信单元。基于光的通信单元可以将电子数据尤其通过第三方设备如联网灯或灯泡和/或通过调制光传递。基于光的通信单元优选可以构造为激光二极管、尤其构造为VCSEL二极管(垂直腔面发射激光器)。替代地可以考虑，通信单元有线地构造。优选地，电子数据的交换可以通过USB线缆、通过以太网线缆或通过其他本领域技术人员认为有意义的线缆实现。尤其地，通信单元设置成用于以小于30ms的延迟时间、优选以小于20ms的延迟时间并且特别优选以小于10ms的延迟时间进行数据传递。“延迟时间”尤其应理解为在发送和接收电子数据之间流逝的时间。

尤其可以借助于介质涂覆设备的电子部件单元的通信单元传送感测设备的特征参量。优选地，可以将感测设备的多个特征参量传送给电子部件单元。优选地，感测设备的特征参量构造为通过感测设备感测的特征参量或感测设备的参数。优选地，通过感测设备感测的特征参量可以构造为介质涂覆设备相对于所述表面的位置、介质涂覆设备相对于所述表面的定向、在所述表面上的介质涂覆部、所述表面的表面特性或其他本领域技术人员认为有意义的通过感测设备感测的特征参量。感测设备的参数优选可以构造为感测设备相对于所述表面的定向、尤其是斜度或感测设备的其他本领域技术人员认为有意义的参数。有利地，感测介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以根据感测设备的特征参量、尤其根据介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元。有利地，能够实现受控的介质涂覆过程。

此外提出，电子部件单元设置成用于这样控制和/或调节介质输出单元，使得至少一个介质的输出仅在介质输出单元相对于所述表面至少基本上垂直定向的情况下进行。在这里，表述“基本上垂直”尤其应限定一方向相对于参考方向的定向，其中，所述方向和参考方向尤其在一平面中观察围成90°的角度并且所述角度具有尤其小于8°、有利地小于5°并且特别有利地小于2°的最大偏差。优选地，介质输出单元相对于所述表面的尤其至少基本上垂直的定向可以通过控制和/或调节单元的感测设备感测。优选地，关于介质输出单元相对于表面的定向的信号可以借助于通信单元引导到电子部件单元上。优选地，电子部件单元设置成用于，在介质输出单元相对于表面至少基本上垂直定向的情况下将用于打开喷嘴元件的控制信号发送到介质输出单元上。优选地，电子部件单元设置成用于，在介质输出单元相对于表面的定向偏离介质输出单元相对于表面的至少基本上垂直的定向的情况下将用于关闭喷嘴元件的控制信号发送到介质输出单元上。有利地，介质输出可以仅在介质输出单元相对于表面至少基本上垂直定向的情况下实现。有利地，可以实现精确的介质涂覆。

此外提出，感测设备设置成用于感测至少一个特定于对象的特征参量，电子部件单元根据所述特征参量控制和/或调节所述至少一个介质输出单元。特定于对象的特征参量优选构造为所述表面的特定于表面的特征参量，介质涂覆部涂覆到所述表面上，和/或，构造为在所述表面上的介质涂覆部的特定于涂覆的特征参量。特定于表面的特征参量尤其可以构造为所述表面的材料、所述表面的结构、所述表面的特性、所述表面的温度、所述表面的湿度或其他本领域技术人员认为有意义的特定于表面的特征参量。特定于涂覆的特征参量尤其可以构造为用于制成介质涂覆部所使用的介质的类型、在所述表面上的介质的涂覆厚度、介质涂覆中的不均匀性、在所述表面上的借助于介质遮盖的面积或其他本领域技术人员认为有意义的特定于涂覆的特征参量。感测设备尤其可以具有用于感测特定于对象的特征参量的至少一个对象传感器元件。对象传感器元件优选可以构造为摄像机、激光雷达设备、激光扫描器、激光温度计、热成像摄像机、红外湿度计、雷达设备、超声传感器或其他本领域技术人员认为有意义的对象传感器元件。替代地可以考虑，为了感测特定于对象的特征参量，使用感测设备的感测元件。有利地，可以根据特定于对象的特征参量适配介质涂覆部。有利地，可以实现介质涂覆部的高于没有感测特定于对象的特征参量的质量。

此外提出，感测设备设置成用于，感测所述表面的至少一个不同于其他区域的区域，在所述区域中电子部件单元这样控制和/或调节介质输出单元，使得停止介质的输出。尤其可以借助于感测设备的感测元件感测不同于所述表面的其他区域的区域。优选地，不同于所述表面的其他区域的区域可以构造为门、窗、光控开关或其他本领域技术人员认为有意义的不同于所述表面的其他区域的区域。优选地，感测设备将关于在制成介质涂覆部时要空出的区域的位置的信号发送给电子部件单元。尤其当介质输出单元位于要空出的区域中时，电子部件单元优选这样控制和/或调节介质输出单元，使得喷嘴元件关闭和/或保持关闭。有利地，介质输出可以自动地仅在所述表面的设置用于介质涂覆部的区域上进行。有利地，可以取消在所述表面上的要空出的区域通过用户的遮盖、尤其是掩盖。有利地，能够实现舒适的介质涂覆过程。

此外提出，控制和/或调节单元具有至少一个斜度传感器单元，该斜度传感器单元设置成用于感测感测设备至少相对于所述表面的至少一个斜度并且补偿所感测的斜度。优选地，斜度传感器单元具有至少一个斜度感测元件，该斜度感测元件设置成用于感测感测设备相对于所述表面的斜度。斜度感测元件尤其可以构造为斜度传感器、陀螺仪或其他本领域技术人员认为有意义的斜度感测元件。优选地，斜度感测元件感测感测设备相对于所述表面在多个空间方向上的定向。优选地，斜度传感器单元具有至少一个斜度补偿元件，该斜度补偿元件设置成用于补偿所感测的感测设备相对于所述表面的斜度。替代地可以考虑，所感测的感测设备相对于所述表面的斜度借助于控制和/或调节单元的运算单元和/或借助于介质涂覆设备的电子部件单元补偿。优选地，斜度补偿元件构造为微处理器、数字电路或其他本领域技术人员认为有意义的斜度补偿元件。优选地，斜度补偿元件可以根据所感测的感测设备相对于所述表面的斜度计算出借助于倾斜的感测设备感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向的偏移。尤其地，斜度补偿元件可以根据所感测的感测设备相对于所述表面的斜度借助于梯形修正、尤其借助于水平的和/或竖直的梯形修正来矫正所述表面、在所述表面上的介质涂覆部和/或介质涂覆设备的由于感测设备相对于所述表面的斜度所引起的失真的感测。有利地，可以补偿感测设备相对于所述表面的斜度。有利地，可以确保相对于所述表面倾斜的感测设备的正确的功能性。

此外提出，感测设备具有至少一个运算单元，该运算单元设置成用于预先计算出在所述表面上的至少一个在介质涂覆方面连续的区域，在该区域中电子部件单元这样控制和/或调节介质输出单元，使得至少一个喷嘴元件保持打开。“运算单元”尤其应理解为具有处理器、存储器单元的控制器和/或存储在存储器单元中的运行、控制和/或计算程序。尤其地，可以在运算单元的存储器单元中存储用于介质涂覆过程的介质涂覆策略。介质涂覆策略尤其是用于介质涂覆过程的流程计划。介质涂覆策略尤其针对要涂覆的题材的每个介质涂覆点包括关于在所述表面上的输出位置、点尺寸和介质类型的信息。介质涂覆策略尤其包括要使用的介质的数量和关于要使用的介质的涂覆的顺序。优选地，介质涂覆策略用于控制和/或调节介质输出单元。在所述表面上的关于介质涂覆连续的区域尤其可以构造为在所述表面上的以下区域，在该区域中介质涂覆策略设置相同介质类型的多个介质涂覆点的介质涂覆部，尤其是相同介质类型的、具有所述区域的相对于题材的边缘至少5个介质涂覆点的距离的至少10个介质涂覆点的介质涂覆部。优选地，运算单元可以根据介质涂覆策略预先计算出在所述表面上的关于介质涂覆连续的区域。电子部件单元的运算单元尤其可以发送关于所述表面上的连续区域的位置的信号。优选地，电子部件单元尤其可以在所述表面上的连续区域在介质输出单元的位置方面这样控制和/或调节介质输出单元，使得喷嘴元件保持打开并且在所述表面上的连续区域中进行到所述表面上的持续介质输出。有利地，可以实现比没有喷嘴元件的持续打开的情况更顺利的介质涂覆过程。

此外，本发明涉及一种涂覆系统、尤其是根据本发明的涂覆系统，具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据本发明的介质涂覆设备和带着至少一个另外的喷嘴单元的至少一个喷射罐单元，该喷嘴单元具有至少一个另外的喷嘴元件和至少一个另外的阀元件。

本发明提出，介质涂覆设备的至少一个清洁和/或避免污染单元具有至少一个促动器单元，该促动器单元设置成用于操纵所述另外的阀元件以使至少一个介质经由所述另外的喷嘴元件施撒。可以考虑，涂覆系统除了介质涂覆设备和喷射罐单元之外附加地具有至少一个控制和/或调节单元、尤其是所提到的控制和/或调节单元。喷射罐单元优选构造为喷射罐，该喷射罐尤其包含介质。附加地可以考虑，喷射罐单元尤其为了在过压的作用下将介质从所述另外的喷嘴元件中施撒出而包含溶解的气溶胶。优选地，喷射罐单元具有用于固定在介质涂覆设备的接合和/或固定单元上的至少一个另外的固定元件、如夹紧封闭部、螺旋封闭件、卡锁封闭件等。优选地，促动器单元具有至少一个另外的推杆元件，该推杆元件设置成用于操纵所述另外的阀元件。尤其地，所述另外的推杆元件在喷射罐单元装配在介质涂覆设备上的状态中与所述另外的阀元件作用连接。优选地，促动器单元包括用于激励推杆元件的至少一个另外的促动器元件。所述另外的促动器元件尤其可以构造为磁性执行器、涡流执行器、压电执行器或其他本领域技术人员认为有意义的促动器元件。有利地，可以提供成本有利的介质涂覆设备，移位可以取消在介质涂覆设备中的喷嘴单元。有利地，促动器单元可以完全与介质引导和介质输出分开地构造。有利地，可以避免促动器单元的污染。有利地，尤其在喷射罐单元的另外的喷嘴单元干燥和/或堵塞的情况下尤其可以通过用户由新的喷射罐单元代替喷射罐单元。

此外，本发明涉及一种涂覆系统、尤其是根据本发明的涂覆系统，具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据本发明的介质涂覆设备和可以与介质涂覆设备耦合的至少一个交替储备设备以用于接收至少一种介质。

本发明提出，交替储备设备具有用于输出介质的至少一个振荡膜片，其中，振荡膜片借助于交替储备设备和/或介质涂覆设备的至少一个激励元件尤其在超声频率范围中可振动地激励。可以考虑，涂覆系统除了介质涂覆设备和交替储备设备之外附加地具有至少一个控制和/或调节单元、尤其是所提到的控制和/或调节单元。尤其地，交替储备设备具有用于接收介质的至少一个交替容器。优选地，交替容器至少基本上流体密封地构造。优选地，交替储备设备、尤其是交替容器设置成用于一次性使用。尤其地，交替储备设备、尤其是交替容器设置成在完全排空之后清除。替代地可以考虑，交替储备设备可重复使用地构造，交替容器尤其可重复灌充地构造。交替容器尤其具有用于接收最高125ml、优选最高100ml并且特别优选最高75ml的介质的最大容积。优选地，交替储备设备具有用于显示介质在交替容器中的剩余容积和/或颜色的至少一个液位显示装置。优选地，液位显示装置构造为交替容器的至少部分透明的部分区域、尤其构造为视窗。替代地可以考虑，液位显示装置构造为例如具有光学、声学和/或触觉输出的液位传感器。

交替储备设备优选包括单个振荡膜片，该振荡膜片尤其在振荡膜片的介质穿透开口的直径、材料、材料尺寸、数量和/或布置、介质穿透开口的直径和/或形状等方面与位于交替容器中的介质相协调。替代地可以考虑，交替储备设备具有多个振荡膜片。交替储备设备的振荡膜片优选至少基本上类似于前面描述的介质涂覆设备的喷嘴单元的振荡膜片地构造。交替储备设备的振荡膜片尤其在交替储备设备布置在介质涂覆设备上的状态中至少部分地构造介质涂覆设备的喷嘴元件。优选地，振荡膜片布置在交替容器上，尤其至少区段式地构造交替容器的壁。振荡膜片尤其与位于交替容器中的介质接触。尤其地，在交替储备设备的使用状态中介质通过作用到介质上的重力供应给振荡膜片。优选地，振荡膜片、尤其是振荡膜片的介质穿透开口这样构造，使得振荡膜片在无激励的状态中至少基本上流体密封地密封交替容器。替代地或附加地可以考虑，交替储备设备包括至少一个密封元件、例如可在振荡膜片前面运动的盖，该密封元件设置成用于至少基本上流体密封地密封交替容器。

优选地，交替储备设备具有至少一个激励元件、尤其是压电环。激励元件尤其至少基本上类似于前面描述的介质涂覆设备的喷嘴单元的激励元件地构造。尤其地，交替储备设备可以具有用于通过介质涂覆设备、尤其通过介质涂覆设备的电子部件单元对交替储备设备的激励元件进行操控和/或能量供给的至少一个电接触部。替代地或附加地可以考虑，介质涂覆设备包括至少一个激励元件、尤其是前面提到的激励元件以用于振动地激励交替储备设备的振荡膜片。尤其地，交替储备设备可以包括至少一个机械接触部、尤其是接触面，该机械接触部尤其设置成用于使介质涂覆设备的激励元件与交替储备设备的振荡膜片振动机械地耦合。

优选地，介质涂覆设备具有与交替储备设备尤其力锁合和/或形状锁合地耦合的至少一个紧固单元。优选地，紧固单元设置成用于交替储备设备、尤其是交替储备设备的振荡膜片与介质涂覆设备的激励元件和/或介质涂覆设备的壳体的挤压连接。尤其地，紧固单元可以具有至少一个操纵杆，该操纵杆设置成用于将交替储备设备、尤其是交替储备设备的振荡膜片紧固在介质涂覆设备的激励元件和/或介质涂覆设备的壳体上。替代地或附加地可以考虑，紧固单元设置成用于与交替储备设备的夹紧连接、旋拧连接、负压连接或其他本领域技术人员认为有意义的连接。尤其地，紧固单元设置成用于将交替储备设备、尤其是交替储备设备的振荡膜片以至少5N、优选至少7N并且特别优选至少10N的保持力、尤其是挤压力尤其紧固在介质涂覆设备的激励元件和/或介质涂覆设备的壳体上。有利地，可以提供用户舒适的交替系统。有利地，振荡膜片和激励元件可以优化地预先调节出确定的介质，从而可以取消通过用户的调整。有利地，可以取消振荡膜片的清洁。

此外提出，交替储备设备具有用于通过介质涂覆设备的至少一个探测单元机械地、光学地、电子地和/或电磁地识别的至少一个识别单元。优选地，识别单元设置成用于给探测单元提供至少一个识别特征参量，该识别特征参量尤其明确地识别交替储备设备。优选地，探测单元设置成用于，参照识别特征参量推断出交替储备设备的参数、如交替容器的最大容积、包含在交替容器中的介质、振荡膜片的构造、激励元件的构造等。尤其地，关于每个已知的识别特征参量可以在介质涂覆设备的探测单元和/或电子部件单元的存储器单元中存储交替储备设备的相应参数。替代地可以考虑，识别单元设置成用于，给探测单元提供交替储备设备的所有参数。尤其地，不同的交替储备设备可以构造成用于接收不同的介质，所述介质尤其来自食品领域、如脂肪、油、巧克力或果冻，来自清洁领域、如特殊清洁剂、浸渍剂、玻璃清洁剂或房间芳香剂，来自植物护理领域、如植物保护剂或肥料，来自健康和/或卫生领域、如消毒剂或喷涂石膏，来自化妆领域、如沐浴液、液态肥皂、防晒霜或化妆品，或者来自其他领域、如粘接剂、润滑剂或喷涂薄膜。例如可以考虑，识别单元根据位于交替容器中的不同介质设置成用于提供不同的识别特征参量。

优选地，识别单元可以设置成用于机械地识别。尤其地，识别单元为了机械地识别可以包括可以由探测单元感测的至少一个机械识别元件。机械识别元件尤其可以构造为根据交替储备设备的不同参数的不同长度的操纵销、根据交替储备设备的不同参数的不同程度绷紧的压缩弹簧等。优选地，识别单元可以设置成用于光学地识别。尤其地，识别单元为了光学地识别可以包括根据交替储备设备的不同参数而不同的、可以由探测单元光学感测的至少一个光学识别元件。光学识别元件尤其可以构造为光学编码、如QR码、条形码等，构造为可阅读字符、颜色代码、形状代码或其他本领域技术人员认为有意义的光学识别元件。关于探测单元替代地或附加地可以考虑，控制和/或调节单元、尤其是控制和/或调节单元的感测设备设置成用于尤其通过识别单元的光学识别元件的扫描来识别交替储备设备。优选地，识别单元可以设置成用于电子地识别。尤其地，识别单元为了电子地识别可以包括根据交替储备设备的不同参数而不同的、可以由探测单元电子地感测的至少一个电子识别元件。电子识别元件尤其可以构造为电子触点、微芯片或其他本领域技术人员认为有意义的电子识别元件。优选地，识别单元可以设置成用于电磁地识别。尤其地，识别单元为了电磁地识别可以包括根据交替储备设备的不同参数而不同的、可以由探测单元电磁感测的至少一个电磁识别元件。电磁识别元件尤其可以构造为射频发射器(RFID)、磁体带、磁性颜料或其他本领域技术人员认为有意义的电磁识别元件。优选地，介质涂覆设备的电子部件单元根据交替储备设备的识别设置用于调整介质涂覆设备的参数。有利地，可以实现介质涂覆设备和交替储备设备之间的自动的和用户舒适的协调。

此外提出，交替储备设备具有至少一个吸收单元，该吸收单元设置成用于防止介质的不受控制的流出。尤其地，吸收单元设置成用于防止介质从交替容器中的流出，该流出尤其不同于通过振荡膜片的输出，例如在交替容器出现缺陷或泄露的情况下。优选地，吸收单元布置在和/或尤其可以自动地布置在交替容器的内室中。优选地，吸收单元至少部分地由能吸收的材料构造。尤其地，吸收单元设置成用于至少部分地接收、尤其吸收介质，尤其按照灯芯原理或海绵原理。优选地，吸收单元构造为海绵、吸入器或本领域技术人员认为有意义的吸收单元。替代地或附加地可以考虑，介质涂覆设备的清洁和/或避免污染单元、尤其清洁和/或避免污染单元的介质导回单元设置成用于防止介质的不受控制的流出。有利地，可以防止介质涂覆设备和/或围绕介质涂覆设备的环境的污染。

此外，本发明涉及一种用于运行涂覆系统、尤其是根据本发明的涂覆系统的方法。

本发明提出，尤其在至少一个方法步骤中，借助于控制和/或调节单元在初始化步骤中和/或在运行期间为了优化介质涂覆过程进行与至少一个用户的至少一个直接互动。尤其地，控制和/或调节单元为了与用户直接互动、尤其为了将提示输出给用户和/或为了通过用户输入指令而具有至少一个输出和/或输入单元。优选地，输出和/或输入单元为了将提示输出给用户包括至少一个输出元件。优选地，输出元件可以构造为屏幕、扬声器、振动马达或其他本领域技术人员认为有意义的输出元件。优选地，输出和/或输入单元为了通过用户输入指令可以包括至少一个输入元件。输入元件尤其可以构造为至少一个按键、触碰敏感面、麦克风或其他本领域技术人员认为有意义的输入元件。优选地，输出和/或输入单元具有组合的输出和/或输入元件以用于将提示输出给用户和/或通过用户输入指令。优选地，组合的输出和/或输入元件可以构造为触摸屏幕或其他本领域技术人员认为有意义的组合输出和/或输入元件。初始化步骤尤其可以构造为控制和/或调节单元和/或介质涂覆设备的调整的执行、要涂覆的题材的选择、控制和/或调节单元在所述表面之前的定向或其他本领域技术人员认为有意义的初始化步骤。在涂覆系统的运行期间，尤其可以输出关于介质涂覆过程的提示和/或输入关于介质涂覆过程的指令。有利地，能够实现与用户的直接互动。有利地，能够实现特定的介质涂覆过程。

此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，预先计算出至少一个数量和/或类型的用于至少基本上无中断的介质涂覆过程所需的介质并且输出给至少一个用户。优选地，至少基本上无中断的介质涂覆过程最多通过替换包含介质的容器而中断。尤其地，针对至少基本上无中断的介质涂覆过程所有用于制成介质涂覆部所需的介质、尤其是包含所需介质的容器准备好使用。优选地，用于至少基本上无中断的介质涂覆过程所需的介质的数量和/或类型可以根据介质涂覆策略尤其借助于控制和/或调节单元的运算单元预先计算出。优选地，介质涂覆策略包含关于用于制成介质涂覆部所需的介质的类型的信息和关于每个介质类型在题材上的面积分量的信息。优选地，介质涂覆策略包含关于尤其通过用户选择的、在所述表面上的介质涂覆部的尺寸的信息。优选地，可以根据用于制成介质涂覆部所需的介质类型、介质类型在题材上的面积分量和在所述表面上的介质涂覆部的尺寸预先计算出用于至少基本上无中断的介质涂覆过程所需的介质的数量。优选地，用于至少基本上无中断的介质涂覆过程所需的介质的预先计算出的数量和/或类型借助于输出和/或输入单元、尤其借助于组合的输出和/或输入元件输出给用户。有利地，能够实现至少基本上无中断的介质涂覆过程。

此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，至少一个应用特定的预先调整存储为至少一个介质涂覆模式以用于通过用户选择。优选地，应用特定的预先调整构造为介质涂覆设备的参数、尤其是喷嘴参数、介质输出单元的参数或者电子部件单元的参数的调整，或者构造为控制和/或调节单元的参数、尤其是介质涂覆策略的参数的调整。尤其地，介质涂覆模式可以构造为多个尤其彼此不同的预先调整的组合。优选地，介质涂覆模式可以构造为特定于表面的介质涂覆模式、特定于介质涂覆过程的介质涂覆模式、节电介质涂覆模式或其他本领域技术人员认为有意义的介质涂覆模。优选地，控制和/或调节单元尤其针对不同的应用情况具有多个介质涂覆模式。尤其地，将介质涂覆模式存储在控制和/或调节单元的存储器单元中。优选地，尤其根据应用情况可以通过用户选择介质涂覆模式。优选地，可以借助于输出和/或输入单元选择介质涂覆模式。有利地，介质涂覆模式可以适配于应用情况地选择。有利地，能够实现特定于应用的介质涂覆过程。

此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，为了调整至少一个控制和/或调节单元向用户提出至少一个问题和/或给出至少一个提示。优选地，为了调整控制和/或调节单元向用户提出多个问题和/或给出多个提示。优选地，问题提出和提示输出借助于输出和/或输入单元进行。优选地，用户通过问题和/或提示引导经过用于使涂覆系统初始化的初始化过程。优选地，用户可以参照问题和/或提示进行用于介质涂覆的调整、如题材、介质涂覆部的尺寸、要使用的介质等。优选地，用户可以通过提示和/或问题在定位控制和/或调节单元时例如通过数字水平仪得到支持。有利地，可以将用户引导至涂覆系统的正确调整。有利地，能够实现用于介质涂覆过程的无挫折的初始化过程。

此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，感测至少一个特定于对象的特征参量，根据所述特征参量将至少一个提示至少一次输出给用户。优选地，特定于对象的特征参量借助于感测设备、尤其借助于感测设备的感测元件和/或借助于感测设备的对象传感器元件感测。优选地，提示输出给用户优选借助于输出和/或输入单元、尤其借助于输出和/或输入单元的组合的输出和/或输入元件进行。优选地，尤其在感测的特定于对象的特征参量和选择的涂覆系统的调整彼此不相符时，可以将警告提示输出给用户。有利地，可以探测特定于对象的特征参量和所选择的涂覆系统的调整的不一致性并且通知用户。有利地，可以识别出使用失误并且至少尽可能地防止对于介质涂覆部的影响。

在这里，根据本发明的介质涂覆设备、根据本发明的涂覆系统、用于运行介质涂覆设备的根据本发明的方法和/或用于运行涂覆系统的根据本发明的方法不应该限制于上面所描述的应用和实施方式。尤其地，根据本发明的介质涂覆设备、根据本发明的涂覆系统、用于介质涂覆设备的运行的根据本发明的方法和/或用于涂覆系统的运行的根据本发明的方法为了满足这里所述的功能性具有与各个元件、构件和单元以及方法步骤的这里提到的数量不同的数量。此外，在该公开中说明的数值范围中，位于所提到的界限内部的值也应视为公开并且可以任意使用。

附图说明

其他优点由下面的附图说明得出。在附图中示出本发明的八个实施例。附图、说明书和权利要求包含组合的多个特征。本领域技术人员也符合目的地单独观察所述特征并且总结成有意义的其他组合。

在附图中：

图1以立体示图示出根据本发明的介质涂覆设备，

图2以示意性剖示图示出图1中的根据本发明的介质涂覆设备，

图3以立体示图示出控制和/或调节单元，

图4以另外的立体示图示出图3中的控制和/或调节单元，

图5以示意性示图示出根据本发明的涂覆系统，

图6以示意性示图示出介质涂覆点，

图7以立体视图示出替代的根据本发明的介质涂覆设备，

图8以示意性剖示图示出图7中的替代的根据本发明的介质涂覆设备，

图9以立体示图示出另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备的介质输出单元，

图10以示意性剖示图示出另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备的介质输出单元，

图11以示意性剖示图示出另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备的介质输出单元，

图12以立体剖示图示出替代的根据本发明的涂覆系统的一部分，

图13以立体示图示出另外的替代的介质涂覆设备的介质输出单元的一部分的爆炸视图，

图14以示意性示图示出图13中的介质输出单元的替代的穿孔网栅的不同实施方式，

图15以示意性示图示出另外的替代的根据本发明的涂覆系统，

图16以另外的示意性示图示出图15中的另外的替代的根据本发明的涂覆系统，

图17以示意性示图示出图15中的另外的替代的根据本发明的涂覆系统的交替储备设备，和

图18以示意性剖示图示出图17中的交替储备设备。

具体实施方式

图1以立体示图示出介质涂覆设备10a。介质涂覆设备10a构造为手持的颜料涂覆设备。介质涂覆设备10a具有壳体40a。壳体40a由塑料形成。替代地可以考虑，壳体40a由金属形成。壳体40a具有头部区域42a和接收区域44a。头部区域42a和接收区域44a一件式地构造。在头部区域42a中布置有对于介质涂覆设备10a的运行必需的构件。接收区域44a构造为一半的空心柱体。接收区域44a这样成形，使得隐含示出的、包含要涂覆的介质的容器46a在装配在介质涂覆设备10a上的状态中由接收区域44a部分地包围。容器46a构造为介质箱。介质构造为颜料介质。所述介质构造为喷漆。

壳体40a在头部区域42a的下侧上并且与接收区域44a连接地具有接合和/或固定单元48a。接合和/或固定单元48a设置用于在介质涂覆设备10a上接收容器46a。接合和/或固定单元48a具有用于紧固容器46a的适配器钩元件50a(参见图2)。

在壳体40a的头部区域42a的上侧上布置有介质涂覆设备10a的参照元件52a。介质涂覆设备10a的参照元件52a对于未进一步示出的用户38a而言防眩光地构造。介质涂覆设备10a的参照元件52a构造为发出辐射的发光元件，该发光元件发出来自电磁频谱的蓝色的光谱范围中的电磁辐射。介质涂覆设备10a的参照元件52a构造为蓝色的发光二极管。替代地可以考虑，介质涂覆设备10a的参照元件52a发出来自对于人眼不可见的光谱范围中的辐射，发光元件设置成用于脉冲式地发出辐射，或者介质涂覆设备10a的参照元件52a构造为无辐射的编码元件。

在壳体40a的头部区域42a上布置有介质涂覆设备10a的防眩光元件54a。防眩光元件54a由不透光的塑料形成。防眩光元件54a与壳体40a一件式地构造。防眩光元件54a构造为遮盖部。防眩光元件54a部分地遮盖介质涂覆设备10a的参照元件52a。介质涂覆设备10a的参照元件52a部分地布置在防眩光元件54a内部。防眩光元件54a设置成用于屏蔽由介质涂覆设备10a的参照元件52a发出的辐射以保护用户38a不受影响。

在壳体40a的头部区域42a的上侧上布置有介质涂覆设备10a的输出单元56a。输出单元56a构造为屏幕。输出单元56a构造为触摸屏幕。输出单元56a与壳体40a齐平地装入头部区域42a中。输出单元56a设置用于将信息输出给用户38a和/或用于通过用户38a输入指令。

介质涂覆设备10a包括至少一个操作单元132a和/或操作功能，其中，操作单元132a和/或操作功能设置成用于，控制和/或调节介质涂覆设备10a的至少一个功能。输出单元56a至少部分地构造介质涂覆设备10a的操作单元132a。操作单元132a和/或操作功能设置成用于，将至少一个单点一次地施撒在确定的位置上。操作单元132a和/或操作功能设置成用于，将至少一个单点重复地施撒在确定的位置上。操作单元132a和/或操作功能设置成用于，进行单点在确定的位置上的重复施撒。操作单元132a和/或操作功能设置成用于分级地或无级地控制至少一个单点的期望的尺寸。

介质涂覆设备10a包括至少一个操作单元132a和/或操作功能、尤其是前面提到的操作单元132a和/或前面提到的操作功能，其中，操作单元132a和/或操作功能设置成用于分级地或无级地控制至少一个单点的灰度值或色度。操作单元132a和/或操作功能优选设置成用于喷涂图像、尤其是点尺寸和/或灰度等级的自动控制的激活或解除激活。

操作单元132a和/或操作功能设置成用于自动操控至少一个工作模式。操作单元132a和/或操作功能设置成用于控制至少一个显示器。操作单元132a和/或操作功能设置成用于控制显示器、尤其是用于示出在工作区域的背景前面的颜料平面上的工作位置的显示器(这里未进一步示出)的视图。操作单元132a和/或操作功能设置成用于控制至少一个照明单元(这里未进一步示出)。操作单元132a构造为照明操作元件，和/或，操作功能构造为照明操作功能。操作单元132a和/或操作功能设置成用于语音或手势控制。介质涂覆设备10a的操控也可以通过语音和/或手势控制进行。

替代地或附加地可以考虑操作单元132a和/或操作功能的下列实施方式，其中，列表不是最终的：

·操作单元132a构造为开关元件、例如构造为开闭开关、喷嘴操纵开关、按键、触摸开关、用于断开电流的物理开关等并且符合人体工程学地布置在用户38a的拇指的抓握区域中。

·操作单元132a和/或操作功能设置成用于单点的没有限制的自由的施撒。

·操作单元132a构造为安全操作元件和/或操作功能构造为安全操作功能，例如构造为打开锁(Einschaltsperre)、持续操纵功能或类似物。

·操作单元132a构造为复位操作元件和/或操作功能构造为复位激活功能，以便触发系统、尤其是介质涂覆设备10a的运行系统的重新启动。

·操作单元132a构造为蓝牙操作元件和/或操作功能构造为蓝牙激活功能。

·也可以考虑无线连接配对操作元件和/或无线连接配对功能，其设置成用于建立在介质涂覆设备10a与摄像机和/或计算机单元之间的连接。

·操作单元132a和/或操作功能设置成用于控制分级地和/或无级地由两个或更多颜料组成的混合颜料的输出。

·操作单元132a和/或操作功能设置成用于控制分级地和/或无级地借助于一个或多个颜料稀释剂的颜料稀释。

·设置清洁激活操作元件和/或清洁激活功能。

·操作单元132a可以构造为触觉元件。触觉元件构造为振动元件。触觉元件可以在器具上、尤其在介质涂覆设备10a的壳体40a上不同地定位。在器具上、尤其在介质涂覆设备10a的壳体40a上可以定位有多个触觉元件，所述触觉元件也可以单独地使用。

图2以示意性剖示图示出图1的介质涂覆设备10a。示出头部区域42a、具有适配器钩元件50a的接合和/或固定单元48a和接收区域44a的一部分。在头部区域42a上布置有介质涂覆设备10a的参照元件52a和防眩光元件54a。在壳体40a内部在接收区域44a中布置有介质涂覆设备10a的能量供给单元58a。能量供给单元58a设置成用于，为了介质涂覆设备10a的运行给介质涂覆设备10a的介质输出单元12a供应以电能。能量供给单元58a构造为蓄电池。

介质输出单元12a在壳体40a内部布置在头部区域42a中。介质输出单元12a包括喷嘴单元14a和介质供应单元60a。喷嘴单元14a具有喷嘴元件16a。在当前实施例中，喷嘴单元14a附加地具有阀元件62a。然而原则上可以考虑，喷嘴单元14a不包括阀元件62a。喷嘴元件16a可旋转地支承在壳体40a中。喷嘴元件16a与介质涂覆设备10a的参照元件52a布置在同一排中。喷嘴元件16a设置成用于将介质输出在未进一步示出的表面18a上。喷嘴元件16a为了输送介质通过喷嘴单元14a的管路元件64a与阀元件62a连接。替代地可以考虑，喷嘴单元14a仅包括喷嘴元件16a和管路元件64a。阀元件62a设置成用于能够使介质流经喷嘴元件16a。喷嘴元件16a设置成用于，将介质作为至少一个介质涂覆点66a输出到表面18a上。喷嘴元件16a的至少一个喷嘴参数是可调整和/或可校准的。喷嘴元件16a的定向、喷嘴元件16a的介质输出压力、喷嘴元件16a的介质输出量和喷嘴元件16a的喷嘴输出开口的横截面的尺寸可调整和/或可校准地构造。喷嘴元件16a的喷嘴参数构造成可以通过用户38a调整和/或校准。

介质输出单元12a具有用于将介质供应至阀元件62a的介质供应单元60a。替代地可以考虑，介质供应单元60a设置用于将介质直接供应至喷嘴元件16a。介质供应单元60a包括介质供应元件68a和适配器元件70a，该介质供应元件与阀元件62a连接。替代地可以考虑，介质供应元件68a与喷嘴元件16a或与管路元件64a连接。适配器元件70a与介质供应元件68a连接并且设置成用于，建立与出于概要性原因未示出的容器46a的连接。适配器元件70a设置成用于将介质从容器46a引导至介质供应元件68a。

在壳体40a内部并且安置在介质涂覆设备10a的支撑元件72a上地布置有介质涂覆设备10a的电子部件单元20a。电子部件单元20a构造为具有未进一步示出的处理器单元和未进一步示出的存储器单元的电路板。电子部件单元20a设置成用于，控制和/或调节介质输出单元12a。电子部件单元20a设置成用于，自动地调整和/或校准喷嘴元件16a的喷嘴参数。电子部件单元20a由能量供给单元58a供给以电能。

介质涂覆设备10a具有通信单元74a。通信单元74a布置在壳体40a内部。通信单元74a构造为无线的通信单元。通信单元74a构造为蓝牙模块。替代地可以考虑，通信单元74a构造为无线模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。通信单元74a具有小于30ms的延迟时间。通信单元74a设置成用于与控制和/或调节单元24a和/或另外的外部单元交换电子数据。

图3以立体示图示出控制和/或调节单元24a。示出控制和/或调节单元24a的后侧76a。控制和/或调节单元24a构造为智能手机。控制和/或调节单元24a具有壳体单元78a。壳体单元78a由金属形成。替代地可以考虑，壳体单元78a由玻璃或塑料形成。

控制和/或调节单元24a具有另外的通信单元80a。所述另外的通信单元80a布置在壳体单元78a内部。所述另外的通信单元80a构造为无线的通信单元。所述另外的通信单元80a构造为蓝牙模块。替代地可以考虑，所述另外的通信单元80a构造为无线模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。所述另外的通信单元80a具有小于30ms的延迟时间。所述另外的通信单元80a设置成用于与未进一步示出的介质涂覆设备10a和/或另外的外部单元交换电子数据。

控制和/或调节单元24a具有感测设备26a。感测设备26a设置成用于，感测介质涂覆设备10a相对于表面18a的位置和/或定向。为了感测介质涂覆设备10a相对于表面18a的位置和/或定向，感测设备26a具有构造为摄像机的感测元件82a。感测元件82a在控制和/或调节单元24a的后侧76a上布置在壳体单元78a上。介质涂覆设备10a的电子部件单元20a设置成用于，根据感测设备26a的至少一个特征参量控制和/或调节介质涂覆设备10a的介质输出单元12a。感测设备26a的特征参量可以构造为介质涂覆设备10a相对于表面18a的位置、介质涂覆设备10a相对于表面18a的定向、在表面18a上的介质涂覆部34a、表面18a的表面特性或感测设备26a相对于表面18a的定向、尤其是斜度。电子部件单元20a设置成用于，这样控制和/或调节介质输出单元12a，使得介质的输出仅在介质输出单元12a相对于表面18a至少基本上垂直定向时才进行。介质输出单元12a相对于表面18a的定向可以借助于感测设备26a的感测元件82a感测。感测设备26a设置成用于，感测至少一个特定于对象的特征参量。特定于对象的特征参量可以借助于感测设备26a的感测元件82a感测。替代地或附加地可以考虑，感测设备26a具有用于感测特定于对象的特征参量的对象传感器元件。特定于对象的特征参量可以构造为表面18a的材料、表面18a的结构、表面18a的特性、表面18a的温度、表面18a的湿度、一类用于制成介质涂覆部34a的介质、在表面18a上的介质的涂覆厚度、介质涂覆部34a中的不均匀性或在表面18a上借助于介质覆盖的面积。电子部件单元20a设置成用于，根据特定于对象的特征参量控制和/或调节介质输出单元12a。感测设备26a设置成用于，感测至少一个不同于表面18a的其他区域的区域28a。所述不同于表面18a的其他区域的区域28a可以构造为门、窗或光控开关。电子部件单元20a这样控制和/或调节在所述不同于表面18a的其他区域的区域28a中的介质输出单元12a，使得停止介质的输出。

控制和/或调节单元24a具有斜度传感器单元30a。斜度传感器单元30a设置成用于，感测感测设备26a相对于表面18a的斜度并且补偿所感测的斜度。斜度传感器单元30a具有斜度感测元件84a。斜度感测元件84a设置成用于感测感测设备26a相对于表面18a的斜度。斜度感测元件84a构造为斜度传感器。斜度感测元件84a布置在壳体单元78a内部。斜度传感器单元30a具有斜度补偿元件86a。斜度补偿元件86a设置成用于补偿所感测的感测设备26a相对于表面18a的斜度。斜度补偿元件86a可以参照感测设备26a的所感测的斜度计算出借助于倾斜的感测设备26a感测的、介质涂覆设备10a相对于表面18a的位置和/或定向的偏移。斜度补偿元件86a构造为微处理器。斜度补偿元件86a布置在壳体单元78a内部。

感测设备26a具有运算单元32a。运算单元32a设置成用于，预先计算出关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a。运算单元32a设置成用于，参照用于制成介质涂覆部34a的介质涂覆策略预先计算出关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a。介质涂覆策略存储在运算单元32a的未进一步示出的存储器单元。电子部件单元20a设置成用于，在关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a中这样控制和/或调节介质输出单元12a，使得喷嘴元件16a保持打开。

图4以另外的立体示图示出图3的控制和/或调节单元24a。示出控制和/或调节单元24a的前侧88a。

控制和/或调节单元24a具有输出和/或输入单元90a。输出和/或输入单元90a设置成用于向用户38a输出提示和/或通过用户38a输入指令。输出和/或输入单元90a包括组合的输出和/或输入元件92a和输出元件94a。组合的输出和/或输入元件92a构造为屏幕。组合的输出和/或输入元件92a构造为触摸屏幕。组合的输出和/或输入元件92a设置成用于向用户38a输出提示和/或通过用户38a输入指令。输出元件94a构造为扬声器。输出元件94a设置成用于向用户38a输出提示。组合的输出和/或输入元件92a和输出元件94a齐平地装入到壳体单元78a中。

优选地，控制和/或调节单元24a设置成用于使用在根据图5中示出的、尤其具有介质涂覆设备10a的涂覆系统22a中。但是也可以考虑，可以使用控制和/或调节单元24a与根据图7中示出的实施例的介质涂覆设备10b、根据图9中示出的实施例的介质涂覆设备10c、根据图10中示出的实施例的介质涂覆设备10d、根据图11中示出的实施例的介质涂覆设备10e、根据图12中示出的实施例的介质涂覆设备10f、根据图13中示出的实施例的介质涂覆设备10g和/或根据图15中示出的实施例的介质涂覆设备10h。

图5以示意性示图示出涂覆系统22a。涂覆系统22a包括介质涂覆设备10a和控制和/或调节单元24a。介质涂覆设备10a由用户38a用手持有。用户38a借助于介质涂覆设备10a将介质涂覆到表面18a上。控制和/或调节单元24a为了感测介质涂覆设备10a相对于表面18a的位置和/或定向而布置在表面18a前面的三脚架96a上。表面18a构造为房间壁。

表面18a包括所述不同于表面18a的其他区域的区域28a。所述不同于表面18a的其他区域的区域28a构造为门。如果用户38a引导介质输出单元12a经过所述不同于表面18a的其他区域的区域28a上方，电子部件单元20a这样控制和/或调节介质输出单元12a，使得介质的输出停止。

介质涂覆部34a被涂覆到表面18a上。介质涂覆部34a由多个介质涂覆点66a形成。表面18a包括关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a。所述关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a构造为由相同介质类型的十个介质涂覆点66a组成的区域。所述关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a相对于介质涂覆部34a的边缘98a具有五个介质涂覆点66a的距离。运算单元32a设置成用于，预先计算出所述关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a。如果用户38a引导介质输出单元12a经过所述关于介质涂覆部34a而言粘附在表面18a上的区域36a，那么电子部件单元20a这样控制和/或调节介质输出单元12a，使得喷嘴元件16a保持打开。

下面描述用于运行涂覆系统22a的方法。在至少一个方法步骤中，在初始化步骤中和/或在用于优化介质涂覆过程的运行期间借助于控制和/或调节单元24a进行与用户38a的至少一个直接互动。与用户38a的直接互动借助于控制和/或调节单元24a的输出和/或输入单元90a进行。在至少一个另外的方法步骤中，预先计算出至少一个数量和/或类型的用于至少基本上无中断的介质涂覆过程所需的介质并且将其输出给用户38a。所述数量和/或类型的用于至少基本上无中断的介质涂覆过程所需的介质借助于输出和/或输入单元90a输出给用户38a。替代地或附加地可以考虑，所述数量和/或类型的用于至少基本上无中断的介质涂覆过程所需的介质借助于介质涂覆设备10a的输出单元56a输出给用户38a。在至少一个另外的方法步骤中，至少一个应用特定的预先调整通过用户38a存储为至少一个介质涂覆模式以用于选择。在至少一个另外的方法步骤中，向用户38a提出至少一个问题和/或给出至少一个提示以用于控制和/或调节单元24a的调整。借助于输出和/或输入单元90a向用户38a提出至少一个问题和/或给出至少一个提示以用于控制和/或调节单元24a的调整。替代地或附加地可以考虑，借助于输出单元56a向用户38a提出至少一个问题和/或给出至少一个提示以用于控制和/或调节单元24a的调整。在至少一个另外的方法步骤中，感测至少一个特定于对象的特征参量，参照所述特征参量进行至少一个提示向用户38a的至少一个输出。特定于对象的特征参量借助于感测设备26a感测。提示向用户38a的输出借助于输出和/或输入单元90a进行。替代地或附加地可以考虑，提示向用户38a的输出借助于输出单元56a进行。

关于用于运行涂覆系统22a的方法的另外的方法步骤应参见前面对涂覆系统22a的描述，因为该描述也类似地用于所述方法并且因此所有关于涂覆系统22a的特征也关于用于运行涂覆系统22a的方法视为公开。

图6以示意性示图示出介质涂覆点66a。介质涂覆点66a通过喷嘴元件16a的标准定向产生。介质涂覆点66a在表面18a上产生。在喷嘴元件16a的标准定向的情况下，喷嘴元件16a的介质输出方向与介质涂覆设备10a的参照元件52a至少基本上在同一排中定向。喷嘴元件16a的标准定向借助于点100a表明。点100a代表介质涂覆设备10a的参照元件52a的位置到表面18a上的投影。介质涂覆点66a围绕点100a对称地布置。介质涂覆点66a点形地构造。示出了另外的介质涂覆点102a。所述另外的介质涂覆点102a通过喷嘴元件16a的相对于喷嘴元件16a的标准定向移位的定向产生。喷嘴元件16a的定向这样移位，使得喷嘴元件16a的介质输出方向相对于具有介质涂覆设备10a的参照元件52a的一排成角度地定向。所述另外的介质涂覆点102a在表面18a上产生。所述另外的介质涂覆点102a椭圆形地构造。所述另外的介质涂覆点102a的边缘104a布置在点100a上。

在图7至18中示出本发明的七个另外的实施例。下面的描述和附图基本上局限于实施例之间的区别，其中，关于相同标明的构件、尤其关于具有相同的附图标记的构件基本上也可以参见另外的实施例、尤其是图1至6的附图和/或说明。为了区分实施例，将字母a置于图1至6中的实施例的附图标记后面。在图7至18的实施例中，字母a通过字母b至h代替。

图7以立体示图示出替代的介质涂覆设备10b。介质涂覆设备10b构造为手持的颜料涂覆设备。介质涂覆设备10b具有壳体40b。壳体40b由塑料形成。替代地可以考虑，壳体40b由金属形成。壳体40b具有头部区域42b和接收区域44b。头部区域42b和接收区域44b一件式地构造。在头部区域42b中布置有为了介质涂覆设备10b的运行所需的构件。接收区域44b构造为一半的空心柱体。接收区域44b这样成形，使得隐含示出的、包含要涂覆的介质的容器46b在装配在介质涂覆设备10b上的状态中由接收区域44b部分地包围。容器46b构造为介质箱。介质构造为颜料介质、尤其是基于水的和/或基于溶剂的颜料介质。介质构造为喷漆。替代地可以考虑，介质构造为分散型颜料、丙烯酸类颜料、丙烯酸类漆、基于着色剂或色素淀积的墨、喷涂白垩(Sprühkreide)、喷涂薄膜等类似物。

壳体40b在头部区域42b上并且与接收区域44b连接地具有接合和/或固定单元48b。接合和/或固定单元48b设置成用于在介质涂覆设备10b上接收容器46b。替代地可以考虑，接合和/或固定单元48b设置成用于接收多个容器46b，和/或，介质涂覆设备10b具有多个接合和/或固定单元48b。接合和/或固定单元48b具有用于紧固容器46b的适配器钩元件50b(参见图8)。

在壳体40b的头部区域42b上布置有介质涂覆设备10b的参照元件52b。介质涂覆设备10b参照元件52b对于未进一步示出的用户而言防眩光地构造。介质涂覆设备10b的参照元件52b构造为发出辐射的发光元件，该发光元件发出来自电磁频谱的蓝色的光谱范围中的电磁辐射。介质涂覆设备10b的参照元件52b构造为蓝色的发光二极管。替代地可以考虑，介质涂覆设备10b的参照元件52b发出来自对于人眼不可见的光谱范围中的辐射，发光元件设置成用于脉冲式地发出辐射，或者介质涂覆设备10b的参照元件52b构造为无辐射的编码元件。介质涂覆设备10b的参照元件52b设置成用于通过控制和/或调节单元、如智能手机、平板电脑、增强现实眼镜等感测介质涂覆设备10b相对于表面的位置和/或定向。

在壳体40b的头部区域42b布置有介质涂覆设备10b的防眩光元件54b。防眩光元件54b由不透光的塑料形成。防眩光元件54b与壳体40b一件式地构造。防眩光元件54b构造为遮盖部。防眩光元件54b部分地遮盖介质涂覆设备10b的参照元件52b。介质涂覆设备10b的参照元件52b部分地布置在防眩光元件54b内部。防眩光元件54b设置成用于屏蔽由介质涂覆设备10b的参照元件52b发出的辐射以保护用户不受影响。

图8以示意性剖示图示出图7中的替代的介质涂覆设备10b。示出头部区域42b、具有适配器钩元件50b的接合和/或固定单元48b和接收区域44b的一部分。在头部区域42b上布置有介质涂覆设备10b的参照元件52b和防眩光元件54b。在壳体40b内部在接收区域44b中布置有介质涂覆设备10b的能量供给单元58b。能量供给单元58b设置成用于，为了介质涂覆设备10b的运行给介质涂覆设备10b的介质输出单元12b供应以电能。能量供给单元58b构造为蓄电池。

介质输出单元12b在壳体40b内部布置在头部区域42b中。介质输出单元12b包括喷嘴单元14b。喷嘴单元14b具有第一喷嘴元件16b。在当前实施例中，喷嘴单元14b附加地具有第一阀元件62b。然而原则上可以考虑，喷嘴单元14b不包括第一阀元件62b。第一喷嘴元件16b可旋转地支承在壳体40b中。第一喷嘴元件16b与介质涂覆设备10b的参照元件52b布置在同一排中。第一喷嘴元件16b设置成用于将介质输出在未进一步示出的表面上。第一喷嘴元件16b为了输送介质通过喷嘴单元14b的第一管路元件64b与第一阀元件62b连接。替代地可以考虑，喷嘴单元14b仅包括喷第一嘴元件16b和第一管路元件64b。第一阀元件62b设置成用于能够使介质流经第一喷嘴元件16b。

介质涂覆设备10b具有清洁和/或避免污染单元112b。清洁和/或避免污染单元112b具有用于介质输出单元12b的清洁功能。清洁和/或避免污染单元112b设置成用于，避免围绕介质输出单元12b的环境的污染。围绕介质输出单元12b的环境包括表面和另外的、尤其静止的、围绕介质输出单元12b的物体。

清洁和/或避免污染单元112b具有清洁元件146b。清洁元件146b设置成用于清洁第一喷嘴元件16b和第一阀元件62b。清洁元件146b设置成用于借助于清洁流体清洁第一喷嘴元件16b和第一阀元件62b。清洁流体构造为清洁液体。替代地可以考虑，清洁元件146b设置成用于借助于超声或借助于机械作用来清洁第一喷嘴元件16b和/或第一阀元件62b。清洁元件146b在头部区域42b中布置在壳体40b内部。替代地可以考虑，清洁元件146b布置在介质输出单元12b外部，例如布置在清洁站中。清洁和/或避免污染单元112b具有储备单元148b。储备单元148b设置成用于接收清洁流体。替代地或附加地可以考虑，储备单元148b设置成用于接收清洁流体单元。储备单元148b构造为至少基本上流体密封的箱。储备单元148b包括未进一步示出的可关闭的灌充元件。通过灌充元件可以使储备单元148b灌充以清洁流体。替代地或附加地可以考虑，储备单元148b包括用于接收清洁流体单元的接收元件。储备单元148b为了提供清洁流体通过流体管路元件150b与清洁元件146b连接。

清洁和/或避免污染单元112b具有负压单元114b。负压单元114b设置成用于与介质涂覆方向116b相反地输送清洁流体。负压单元114b与储备单元148b和流体管路元件150b连接。负压单元114b设置成用于将清洁流体从储备单元148b通过流体管路元件150b输送至清洁元件146b。负压单元114b设置成用于产生负压以输送清洁流体。清洁流体由于负压从储备单元148b中吸出。负压单元114b构造为泵。介质涂覆方向116b相当于以下方向，介质在该方向上通过第一喷嘴元件16b输出到表面上。清洁流体通过负压单元114b并且经由清洁元件146b与介质涂覆方向116b相反地输送经过第一喷嘴元件16b和/或第一阀元件62b。

介质涂覆设备10b具有混合器单元152b。混合器单元152b与清洁和/或避免污染单元112b作用连接。混合器单元152b设置成用于，将至少两个不同的介质混合。清洁和/或避免污染单元112b设置成用于清洁混合器单元152b。混合器单元152b具有混合腔154b，在该混合腔中所述至少两个不同的介质混合。混合腔154b与容器46b通过介质供应元件68b。介质可以从容器46b输送到混合腔154b中。原则上可以考虑，在将多个容器46b装配在介质涂覆设备10b上的情况下可以将多个不同的介质输送到混合腔154b中。混合器单元152b具有未进一步示出的计量元件以用于计量介质到混合腔154b中的流量。混合器单元152b具有未进一步示出的混合器元件。混合器元件构造为搅拌器。混合器元件布置在混合腔154b中。混合器元件设置成用于混合不同的介质。

清洁和/或避免污染单元112b具有介质供应单元60b。介质供应单元60b设置成用于，将介质供应给介质输出单元12b。介质供应单元60b设置成用于，将介质在过压的作用下供应给介质输出单元12b。介质供应单元60b具有用于将介质供应给介质输出单元12b的介质供应元件68b。介质供应元件68b构造为软管。介质供应元件68b与第一阀元件62b连接。但原则上可以考虑，介质供应元件68b与第一喷嘴元件16b连接。介质供应单元60b具有适配器元件70b。适配器元件70b与介质供应元件68b连接并且设置成用于，建立与出于概要性原因未示出的容器46b的连接。介质供应单元60b具有介质输送元件156b。介质输送元件156b设置成用于输送介质。介质输送元件156b构造为泵。介质输送元件156b布置在介质供应元件68b上。介质输送元件156b设置成用于产生过压，该过压将介质从混合器单元152b的混合腔154b压到第一阀元件62b中。但原则上可以考虑，过压将介质从混合器单元152b的混合腔154b直接压到第一喷嘴元件16b中。介质通过过压经由第一喷嘴元件16b施撒出。

清洁和/或避免污染单元112b具有介质导回单元158b。介质导回单元158b设置成用于，在介质涂覆过程期间接收介质的至少一部分并且供应给混合器单元152b。替代地或附加地可以考虑，介质导回单元158b设置成用于，在介质涂覆过程期间接收介质的一部分并且供应给介质输出单元12b。介质导回单元158b设置成用于，接收介质的多余部分并且供应给混合器单元152b。介质导回单元158b具有用于接收介质的一部分的收集元件160b。介质导回单元158b具有用于将介质的一部分导回到混合器单元152b上的导回元件162b。收集元件160b和导回元件162b一件式地构造。导回元件162b未进一步示出地与混合器单元152b的混合腔154b连接。导回元件162b的一部分安置在壳体40b的头部区域42b上。收集元件160b在介质涂覆方向116b上观察布置在第一喷嘴元件16b后面。收集元件160b部分地布置在介质从第一喷嘴元件16b中输出之后的飞行轨迹中。在介质输出单元12b根据持续喷墨方法的运行中，可以通过收集元件160b收集多余的和/或过远偏转的介质滴并且通过导回元件162b供应给混合器单元152b。

清洁和/或避免污染单元112b具有偏转单元164b。偏转单元164b设置成用于，在介质涂覆过程期间使介质的至少一部分偏转。偏转单元164b设置成用于，将输出的介质的一部分从介质的飞行轨迹偏转。偏转单元164b具有偏转元件166b，该偏转元件设置成用于使介质的至少一部分偏转。偏转元件166b构造为间接的偏转元件。替代地可以考虑，偏转元件166b构造为直接的偏转元件。偏转元件166b构造为用于产生空气幕的空气喷嘴。替代地可以考虑，偏转元件166b构造为用于产生磁场的磁体或构造为用于产生电场的电极。为了接收偏转的介质使用介质导回单元158b的收集元件160b，并且为了将偏转的介质导回到混合器单元152b上使用介质导回单元158b的导回元件162b。替代地可以考虑，偏转单元164b本身具有另外的收集元件和/或另外的导回元件。

喷嘴单元14b、清洁元件146b、储备单元148b、混合器单元152b、介质供应单元60b、介质导回单元158b和偏转单元164b具有防污涂层。喷嘴单元14b的第一喷嘴元件16b和第一阀元件62b以及混合器单元152b的混合腔154b以及介质供应单元60b的介质供应元件68b、适配器元件70b和介质输送元件156b以及介质导回单元158b的收集元件160b和导回元件162b以及偏转单元164b的偏转元件166b具有防污涂层。防污涂层构造为根据莲花原理(Lotusprinzip)的纳米结构涂层。

在壳体40b内部并且安置在介质涂覆设备10b的支撑元件72b上地布置有介质涂覆设备10b的电子部件单元20b。电子部件单元20b构造为具有未进一步示出的处理器单元和未进一步示出的存储器单元的电路板。电子部件单元20b设置成用于，控制和/或调节介质输出单元12b。电子部件单元20b由能量供给单元58b供给以电能。

介质涂覆设备10b具有通信单元74b。通信单元74b布置在壳体40b。通信单元74b构造为无线的通信单元。通信单元74b构造为蓝牙模块。替代地可以考虑，通信单元74b构造为无线模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。通信单元74b具有小于30ms的延迟时间。通信单元74b设置成用于与控制和/或调节单元和/或另外的外部单元交换电子数据。

可以考虑，介质涂覆设备10b可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元24a的涂覆系统22a中。

下面描述用于运行介质涂覆设备10b的方法。在至少一个方法步骤中，清洁第一喷嘴元件16b和/或第一阀元件62b。关于用于运行介质涂覆设备10b的另外的方法步骤应参见前面对介质涂覆设备10b的描述，因为该描述也类似地用于所述方法并且因此所有关于介质涂覆设备10b的特征也关于用于运行介质涂覆设备10b的方法视为公开。

图9以立体示图示出另外的替代的介质涂覆设备10c的介质输出单元12c。介质输出单元12c具有喷嘴单元14c。喷嘴单元14c构造为转塔喷嘴单元。喷嘴单元14c具有四个喷嘴元件16c、106c、108c、110c。在当前实施例中，喷嘴单元14c附加地具有四个阀元件62c、118c、120c、122c。然而原则上可以考虑，喷嘴单元14c不包括阀元件62c、118c、120c、122c。喷嘴元件16c、106c、108c、110c中的各一个喷嘴元件沿介质涂覆方向116c观察布置在阀元件62c、118c、120c、122c的相应阀元件后面。第一喷嘴元件16c与第一阀元件62c通过第一管路元件64c连接。第二喷嘴元件106c与第二阀元件118c通过第二管路元件168c连接。第三喷嘴元件108c与第三阀元件120c通过第三管路元件170c连接。第四喷嘴元件110c与第四阀元件122c通过第四管路元件172c连接。通过喷嘴单元14c围绕沿介质涂覆方向116c的方向假想的轴线的旋转，第一喷嘴元件16c和第一阀元件62c可以转运到工作位态中并且同时第三喷嘴元件108c和第三阀元件120c可以转运到清洁位态中。在工作位态中，第一喷嘴元件16c设置成用于输出介质。在清洁位态中，第三喷嘴元件108c设置成用于通过清洁和/或避免污染单元的未进一步示出的清洁元件进行清洁。介质输出可以通过第一阀元件62c并且通过第一喷嘴元件16c进行，而同时进行第三阀元件120c和第三喷嘴元件108c的清洁。

可以考虑，介质涂覆设备10c可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元24a的涂覆系统22a中。

图10以示意性剖示图示出另外的替代的介质涂覆设备10d的介质输出单元12d。示出清洁和/或避免污染单元112d的一部分。此外示出喷嘴单元14d的第一阀元件62d和第一喷嘴元件16d。第一喷嘴元件16d直接布置在第一阀元件62d上。介质通过介质供应单元60d的介质供应元件68d供应给第一阀元件62d。清洁和/或避免污染单元112d具有促动器元件174d、推杆元件176d和膜片元件178d以用于使介质通过第一喷嘴元件16d施撒。促动器元件174d与推杆元件176d作用连接。促动器元件174d围绕推杆元件176d布置。推杆元件176d与膜片元件178d作用连接。膜片元件178d布置在第一阀元件62d上。位于第一阀元件62d中的介质可以借助于膜片元件的178d运动压缩。介质可以基于压缩挤压通过第一喷嘴元件16d并且施撒。膜片元件178d通过推杆元件176d的运动激励出运动。推杆元件176d通过促动器元件174d激励出运动。促动器元件174d构造为磁性执行器。替代地可以考虑，促动器元件174d构造为涡流执行器或压电执行器。促动器元件174d由介质涂覆设备10d的电子部件单元控制和/或调节(这里未进一步示出)。第一阀元件62d和第一喷嘴元件16d可以通过清洁和/或避免污染单元112d的未进一步示出的清洁元件清洁。

可以考虑，介质涂覆设备10d可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元24a的涂覆系统22a中。

图11以示意性剖示图示出另外的替代的介质涂覆设备10e的介质输出单元12e。介质输出单元12e包括喷嘴单元14e。喷嘴单元14e具有第一阀元件62e。第一阀元件62e构造为磁体阀。第一阀元件62e由介质涂覆设备10e的电子部件单元控制和/或调节(这里未进一步示出)。介质通过介质供应单元60e的介质供应元件68e供应给第一阀元件62e。介质在过压的作用下供应给第一阀元件62e。喷嘴单元14e具有第一喷嘴元件16e。第一喷嘴元件16e直接布置在第一阀元件62e上。第一喷嘴元件16e设置成用于，在操纵第一阀元件62e时输出处于过压下的介质。第一阀元件62e和第一喷嘴元件16e可以通过介质涂覆设备10e的清洁和/或避免污染单元的未进一步示出的清洁元件清洁。

可以考虑，介质涂覆设备10e可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元24a的涂覆系统22a中。

图12以立体剖示图示出替代的涂覆系统22f的一部分。涂覆系统22f包括介质涂覆设备10f和喷射罐单元180f。喷射罐单元180f包括另外的喷嘴单元182f。所述另外的喷嘴单元182f具有另外的喷嘴元件和另外的阀元件184f。介质涂覆设备10f的清洁和/或避免污染单元112f具有促动器单元186f。促动器单元186f设置成用于，操纵所述另外的阀元件184f以用于通过所述另外的喷嘴元件施撒介质。所述另外的喷嘴元件未进一步示出。喷射罐单元180f构造为喷射罐。喷射罐单元180f包含介质。附加地，喷射罐单元180f包含溶解的气溶胶。喷射罐单元180f具有另外的固定元件188f以用于固定在介质涂覆设备10f的接合和/或固定单元上。所述另外的固定元件188f构造为夹紧封闭部。促动器单元186f具有另外的推杆元件190f。所述另外的推杆元件190f设置成用于操纵所述另外的阀元件184f。所述另外的推杆元件190f在喷射罐单元180f的装配在介质涂覆设备10f上的状态中与所述另外的阀元件184f作用连接。促动器单元186f包括另外的促动器元件192f。所述另外的促动器元件192f设置成用于激励所述另外的推杆元件190f。所述另外的促动器元件192f围绕所述另外的推杆元件190f布置。所述另外的促动器元件192f构造为磁性执行器。替代地可以考虑，所述另外的促动器元件192f构造为涡流执行器或压电执行器。促动器单元186f由介质涂覆设备10f的电子部件单元控制和/或调节(这里未进一步示出)。

可以考虑，介质涂覆设备10f可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元24a的涂覆系统22a中。

图13以立体示图示出另外的替代的介质涂覆设备10g的介质输出单元12g的一部分的爆炸视图。介质输出单元12g包括喷嘴单元14g和用于接收介质的容器46g。介质输出单元12g包括用于封闭容器46g的盖194g。喷嘴单元14g构造为振荡喷嘴单元、尤其构造为压电喷嘴单元。喷嘴单元14g具有用于输出介质的至少一个振荡膜片124g和用于振荡膜片124g的尤其在超声频率范围中的振动激励的至少一个激励元件126g。喷嘴单元14g构造为超声喷嘴单元。喷嘴单元14g的振荡膜片124g可以激励出超声频率范围中的振动。喷嘴单元14g至少区段式地布置在用于接收介质的容器46g上。喷嘴单元14g、尤其是喷嘴单元14g的振荡膜片124g至少区段式地构造用于接收介质的46g的侧壁196g。振荡膜片124g遮盖在容器46g的侧壁196g中的供应开口198g。介质输出单元12g包括介质运输元件200g，该介质运输元件设置成用于将介质从容器46g运输至振荡膜片124g。介质运输元件200g柱形地构造。介质运输元件200g在供应开口198g和容器46g内部延伸。介质运输元件200g能抽吸地构造并且按照灯芯远离起作用，以便给振荡膜片124g供应介质。替代地可以考虑，介质运输元件200g按照海绵原理起作用。喷嘴单元14g设置成用于输出多个不同的介质、如润滑剂、盘解冻剂、喷雾式粘接剂、除霉剂、防虫剂、能见度喷雾(VisibilitySpray)、尿素溶液(AdBlue)、护理剂、清洁剂、冷却剂、水、调味汁(Bratensoβe)等。

喷嘴单元14g设置成用于输出介质，以至少部分地使介质雾化。包括喷嘴单元14g的介质涂覆设备10g设置成用于产生喷涂图像、例如借助于输出喷涂颜料。但也可以考虑，介质涂覆设备10g设置成用于使用在车辆中，其中，喷嘴单元14g例如设置成用于输出尿素溶液以进行废气后处理、用于在车辆的内室中输出清洁剂等，介质涂覆设备10g设置成用于使用在家用器具中、例如使用在冰箱、咖啡机、烤箱、擦拭机器人或淋浴头或水龙头中，其中，喷嘴单元14g例如设置成用于自动输出清洁剂、水雾、调味汁等，或者，介质涂覆设备10g设置成用于使用在工具机上，其中，喷嘴单元14g例如设置成用于输出冷却剂、润滑剂等。

喷嘴单元14g与介质涂覆设备10g的清洁和/或避免污染单元作用连接(这里未进一步示出)。清洁和/或避免污染单元设置成用于清洁振荡膜片124g、尤其是清洁振荡膜片124g的多个介质穿透开口130g。替代地可以考虑，喷嘴单元14g至少部分地构造清洁和/或避免污染单元。

振荡膜片124g至少部分弹性地构造、尤其构造成可以激励出振动。振荡膜片124g具有多个介质穿透开口130g，通过所述介质穿透开口可以施撒介质。介质穿透开口130g构造为振荡膜片124g的穿孔或孔洞。振荡膜片124g构造为超声膜片。振荡膜片124g构造为超声板。振荡膜片124g至少基本上构造喷嘴单元14g的喷嘴元件16g。振荡膜片124g在振荡膜片124g的主延伸平面202g中观察圆面形地构造。替代地可以考虑，振荡膜片124g在振荡膜片124g的主延伸平面202g中观察椭圆面形地、多边形地、例如方面形地或三角面形地或者类似形状地构造。

激励元件126g布置在振荡膜片124g上、尤其与振荡膜片124g作用连接。激励元件126g设置成用于，激励振荡膜片124g产生至少基本上垂直于振荡膜片124g的主延伸平面202g的振动。振荡膜片124g和激励元件126g这样构造，使得振荡膜片124g由于横向于振荡膜片124g的主延伸平面202g的激励而接触介质运输元件200g并且由介质运输元件200g接收介质的一部分并且通过振荡膜片124g的随后的在背离用于接收介质的容器46g的方向上的运动将介质经由介质穿透开口130g输出、尤其抛出。替代地可以考虑，介质输出单元12g不构造介质运输元件200g并且振荡膜片124g和激励元件126g这样构造，使得振荡膜片124g由于横向于振荡膜片124g的主延伸平面202g的激励至少部分地拉伸到介质中、例如在用于接收介质的容器46g内部，在该容器上布置有振荡膜片124g，在此接收介质的一部分并且通过振荡膜片124g的随后的在背离容器46g的方向上的运动将介质经由介质穿透开口130g输出、尤其抛出。

喷嘴单元14g尤其设置成用于以每秒至少50个介质涂覆点的输出频率、优选以每秒至少100个介质涂覆点的输出频率并且特别优选以每秒至少200个介质涂覆点的输出频率输出、尤其印刷介质涂覆点。激励元件126g尤其设置成用于以至少1kHz的激励频率、优选以至少16kHz的激励频率、特别优选以至少20kHz的激励频率并且完全特别优选以至少130kHz的激励频率振动地激励振荡膜片124g。尤其地，激励元件126g设置成用于以最高200kHz的激励频率振动地激励振荡膜片124g。激励元件126g设置成用于以预先确定的、优选可调整的波形、例如以正弦波形、以三角波形、以锯齿波形或以另外的本领域技术人员认为有意义的波形振动地激励振荡膜片124g。通过介质涂覆设备10g的这里未进一步示出的电子部件单元、尤其通过将电压施加到激励元件126g上，可以预给定激励元件126g期望的激励频率和/或波形。激励元件126g构造为压电晶体。压电晶体由于将电压施加到压电晶体上而改变其形状，这通过压电晶体与振荡膜片124g的机械耦合导致振荡膜片124g的振动。替代地可以考虑，激励元件126g构造为MEMS执行器、超声转换器等。

激励元件126g沿着振荡膜片124g的至少基本上整个最大周边至少基本上环形地布置在振荡膜片124g上。尤其地，激励元件126g沿着振荡膜片124g的最大周边的至少60％、优选沿着振荡膜片124g的最大周边的至少75％、特别优选地沿着振荡膜片124g的最大周边的至少90％并且完全特别优选地沿着振荡膜片124g的整个最大周边至少基本上环形地布置在振荡膜片124g上。激励元件126g沿着振荡膜片124g的至少基本上整个最大周边与振荡膜片124g机械耦合。振荡膜片124g沿着振荡膜片124g的至少基本上整个最大周边固定在激励元件126g上。激励元件126g限界振荡膜片124g在振荡膜片124g的主延伸平面202g中的延伸。激励元件126g构造为压电环。替代地可以考虑，激励元件126g构造为MEMS环等。喷嘴单元14g具有固定环204g。固定环204g设置成用于，将振荡膜片124g和激励元件126g、尤其是在其上固定有振荡膜片124g的激励元件126g固定在容器46g上。替代地可以考虑，激励元件126g和/或振荡膜片124g可以直接固定在容器46g上。

振荡膜片124g具有介质穿透开口130g的至少一个穿孔网栅128g，该穿孔网栅这样构造，使得借助于喷嘴单元14g可以产生介质涂覆点，所述介质涂覆点具有大于1mm的最大直径。介质穿透开口130g的穿孔网栅128g这样构造，使得借助于喷嘴单元14g可以印刷具有大于1mm的最大直径的介质涂覆点。尤其地，振荡膜片124g具有介质穿透开口130g的至少一个穿孔网栅128g，该穿孔网栅这样构造，使得借助于喷嘴单元14g能够以喷嘴单元14g相对于这里未进一步示出的表面(在该表面上进行介质输出)最高50cm的距离、优选以喷嘴单元14g相对于所述表面最高35cm的距离、特别优选以喷嘴单元14g相对于所述表面最高20cm的距离并且完全特别优选以喷嘴单元14g相对于所述表面最高10cm的距离产生具有大于1mm的最大直径的介质涂覆点。尤其地，为了印刷介质涂覆点，喷嘴单元14g具有相对于要印刷的表面的最高1cm的距离、优选相对于要印刷的表面的最高5mm的距离并且特别优选相对于要印刷的表面的最高3mm的距离。穿孔网栅128g构造为振荡膜片124g的布置有介质穿透开口130g的区域。穿孔网栅128g可以尤其根据介质涂覆点的要产生的形状而具有不同的形状。在图13中，穿孔网栅128g六边形地构造。替代地可以考虑，穿孔网栅128g圆形地、椭圆形地、卵形地、多边形地、如方形地、菱形地、三角形地或梯形地、半圆形等地构造。穿孔网栅128g布置在振荡膜片124g的中心区域中。振荡膜片124g的中心区域是振荡膜片124g的、尤其在振荡膜片124g的主延伸平面202g中的围绕中点的区域。

介质穿透开口130g具有直径，该直径构造成要输出的介质的最大颗粒尺寸的至少三倍大。介质穿透开口130g至少基本上垂直于振荡膜片124g的主延伸平面202g地延伸穿过振荡膜片124g。介质穿透开口130g可以构造成柱形、截锥形等。介质穿透开口130g相对彼此等距地布置。振荡膜片124g尤其具有介质穿透开口130g的每平方毫米至少1个介质穿透开口130g、优选每平方毫米至少5个介质穿透开口130g、特别优选每平方毫米至少10个介质穿透开口130g并且完全特别优选每平方毫米至少20个介质穿透开口130g的密度。设置用于介质的喷射输出和/或雾化的喷嘴单元14g优选可以包括振荡膜片124g，该振荡膜片具有介质穿透开口130g的每平方毫米至少80个介质穿透开口130g的密度。清洁和/或避免污染单元设置成用于，清洁介质穿透开口130g，尤其在堵塞时以冲净、吹净等方式清洁介质穿透开口130g。

可以考虑，介质涂覆设备10g可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元24a的涂覆系统22a中。

图14以示意性示图示出图13中的介质输出单元12g的替代的穿孔网栅128g’的不同实施方式。示例性地示出穿孔网栅128g’的24个不同的实施方式。穿孔网栅128g’例如可以构造为圆形206g’、等边三角形208g’、正方形210g’、五边形212g’、椭圆214g’、等腰三角形216g’、矩形218g’、七边形220g’、菱形222g’、卵形224g’、钝角等腰三角形226g’、平行四边形228g’、八边形230g’、弯曲三角形232g’、半圆234g’、直角三角形236g’、等腰梯形238g’、九边形240g’、四叶形242g’、新月形244g’、风筝形246g’、梯形248g’、十边形250g’、五角星形252g’等。

图15以示意性示图示出另外的替代的涂覆系统22h。涂覆系统22h包括介质涂覆设备10h和可以与介质涂覆设备10h耦合的交替储备设备134h。交替储备设备134h在图15中以与介质涂覆设备10h解耦的状态示出。交替储备设备134h可以沿着第一箭头方向254h至少区段式地推入到介质涂覆设备10h中。交替储备设备134h具有用于输出介质的至少一个振荡膜片136h，其中，振荡膜片136h可以借助于交替储备设备134h和/或介质涂覆设备10h的至少一个激励元件138h尤其在超声频率范围中振动地激励。介质涂覆设备10h具有用于与交替储备设备134h尤其力锁合和/或形状锁合地耦合的至少一个紧固单元256h。紧固单元256h设置成用于交替储备设备134h、尤其是交替储备设备134h的振荡膜片136h与介质涂覆设备10h的壳体40h的挤压连接。紧固单元256h具有至少一个操纵杆258h，该操纵杆设置成用于交替储备设备134h、尤其是交替储备设备134h的振荡膜片136h在介质涂覆设备10h的壳体40h上的紧固。为了紧固交替储备设备134h，操纵杆258h可以沿着第二箭头方向260h枢转。替代地或附加地可以考虑，紧固单元256h设置成用于与交替储备设备134h夹紧连接、旋拧连接、负压连接或者以另外的本领域技术人员认为有意义的方式连接。尤其地，紧固单元256h设置成用于，以至少5N、优选至少7N并且特别优选至少10N的保持力、尤其是挤压力将交替储备设备134h、尤其是交替储备设备134h的振荡膜片136h尤其紧固在介质涂覆设备10h的壳体40h上。

图16以另外的示意性示图示出图15中的另外的替代的涂覆系统22h。交替储备设备134h在图16中以与介质涂覆设备10h耦合的状态示出。交替储备设备134h借助于紧固单元256h紧固在介质涂覆设备10h的壳体40h上。

图17以另外的示意性示图示出图15中的另外的替代的涂覆系统22h的交替储备设备134h。交替储备设备134h具有用于接收介质的至少一个交替容器262h。交替容器262h至少基本上流体密封地构造。交替储备设备134h、尤其是交替容器262h设置成用于一次性使用。交替储备设备134h、尤其是交替容器262h在完全排空之后设置成用于清除。替代地可以考虑，交替储备设备134h可以重复使用地构造，尤其地，交替容器262h可以重复灌充地构造。交替容器262h尤其具有用于接收最高125ml、优选最高100ml并且特别优选最高75ml的介质的最大容积。交替储备设备134h具有用于显示交替容器262h中的介质的剩余容积和/或颜色的至少一个液位显示装置264h。液位显示装置264h构造为交替容器262h的至少部分透明的部分区域、尤其构造为视窗。替代地可以考虑，液位显示装置264h构造为液位传感器，例如具有光学的、声学的和/或触觉的输出。

交替储备设备134h包括单个振荡膜片136h，该振荡膜片尤其在直径、材料、材料尺寸、振荡膜片136h的介质穿透开口的数量和/或布置、介质穿透开口的直径和/或形状等方面匹配于位于交替容器262h中的介质。替代地可以考虑，交替储备设备134h具有多个振荡膜片136h。交替储备设备134h的振荡膜片136h至少基本上类似于前面描述的图13中示出的实施例的介质涂覆设备10g的喷嘴单元14g的振荡膜片124g地构造。尤其地，在交替储备设备134h的振荡膜片136h的构造和/或功能性方面应参照对图13中示出的实施例的介质涂覆设备10g的喷嘴单元14g的振荡膜片124g的描述。交替储备设备134h的振荡膜片136h在交替储备设备134h布置在介质涂覆设备10h上的状态中至少部分地构造介质涂覆设备10h的喷嘴元件16h。振荡膜片136h布置在交替容器262h上，尤其至少区段式地构造交替容器262h的壁。振荡膜片136h与位于交替容器262h中的介质接触(参见图18)。振荡膜片136h在交替储备设备134h的使用状态中通过作用到介质上的重力来供应介质。振荡膜片136h、尤其是振荡膜片136h的介质穿透开口(这里未进一步示出)这样构造，使得振荡膜片136h在无激励的状态中至少基本上流体密封地密封交替容器262h。替代地或附加地可以考虑，交替储备设备134h包括至少一个密封元件、例如可以运动到振荡膜片136h前面的盖，该盖设置成用于至少基本上流体密封地密封交替容器262h。

交替储备设备134h具有至少一个激励元件138h、尤其是压电环。激励元件138h至少基本上类似于前面描述的图13中示出的实施例的介质涂覆设备10g的喷嘴单元14g的激励元件126g地构造。尤其地，在交替储备设备134h的激励元件138h的构造和/或功能性方面应参见对图13中示出的实施例的介质涂覆设备10g的喷嘴单元14g的激励元件126h的描述。交替储备设备134h具有用于通过介质涂覆设备10h、尤其通过介质涂覆设备10h的电子部件单元操控和/或能量供应给交替储备设备134h的激励元件138h的至少一个电接触部(这里未示出)。替代地或附加地可以考虑，介质涂覆设备10h包括用于振动地激励交替储备设备134h的振荡膜片136h的至少一个激励元件。尤其地，交替储备设备134h可以在这种构造形式中包括至少一个机械接触部、尤其是接触面，该机械接触部尤其设置成用于使介质涂覆设备10h的激励元件与交替储备设备134h的振荡膜片136h振动机械地耦合。

图18以示意性剖示图示出图17中的交替储备设备134h。交替储备设备134h相比于图17旋转90°地画出。可看出位于交替容器262h中的流体的流体表面266h。交替储备设备134h具有用于通过介质涂覆设备10h的至少一个探测单元142h机械地、光学地、电子地和/或电磁地识别的至少一个识别单元140h(参见图16)。识别单元140h设置成用于，提供给探测单元142h至少一个识别特征参量，该识别特征参量明确地识别交替储备设备134h。探测单元142h设置成用于，参照识别特征参量推断出交替储备设备134h的参数，如交替容器262h的最大容积、包含在交替容器262h中的介质、振荡膜片136h的构造、激励元件138h的构造等。关于每个已知的识别特征参量可以将交替储备设备134h的相应的参数存储在探测单元142h的存储器单元和/或介质涂覆设备10h的电子部件单元中。替代地可以考虑，识别单元140h设置成用于，探测单元142h将所有参数提供给交替储备设备134h。不同的交替储备设备134h可以构造成用于接收不同的介质，所述介质尤其来自：食品领域，如脂肪、油、巧克力或果冻；清洁领域，如特殊清洁剂、浸渍剂、玻璃清洁剂或房间芳香剂；植物护理领域，如植物保护剂或肥料；健康和/或卫生领域，如消毒剂或喷涂石膏；化妆领域，如沐浴液、液态肥皂、防晒霜或化妆品；或其他领域，如粘接剂、润滑剂或喷涂薄膜。例如可以考虑，识别单元140h设置成用于根据位于交替容器262h中的不同介质提供不同的识别特征参量。

在当前实施例中，识别单元140h示例性地设置成用于电磁识别。识别单元140h为了电磁地识别而包括至少一个根据交替储备设备134h的不同参数的不同的、可以由探测单元142h电磁感测的电磁识别元件268h。电磁识别元件268h构造为磁体带。替代地可以考虑，电磁识别元件268h构造为射频发射器、磁性颜料等。替代于或附加于电磁识别地可以考虑，识别单元140h设置成用于机械地、光学地和/或电子地识别。尤其地，识别单元140h为了机械地识别可以包括至少一个可以由探测单元142h机械感测的机械识别元件。机械识别元件尤其可以构造为根据交替储备设备134h的不同参数的不同长度的操纵销、构造为根据交替储备设备134h的不同参数的不同绷紧的压缩弹簧等。尤其地，识别单元140h为了光学地识别可以包括至少一个根据交替储备设备134h的不同参数的不同的、可以由探测单元142h光学地感测的光学识别元件。光学识别元件尤其可以构造为光学编码，例如构造为QR码、条形码等，构造为可阅读字符、颜色代码、形状码或另外的本领域技术人员认为有意义的光学识别元件。替代于或附加于探测单元142h地可以考虑，涂覆系统22h的控制和/或调节单元、尤其是控制和/或调节单元的感测设备设置成用于交替储备设备134h的识别，尤其通过扫描识别单元140h的光学识别元件。尤其地，识别单元140h为了电子地识别可以包括至少一个根据交替储备设备134h的不同参数的不同的、可以由探测单元142h电子感测的电子识别元件。电子识别元件尤其可以构造为电子接触部、微芯片或另外的本领域技术人员认为有意义的电子识别元件。介质涂覆设备10h的电子部件单元根据交替储备设备134h的识别设置成用于调整介质涂覆设备10h的参数。

交替储备设备134h具有至少一个吸收单元144h，该吸收单元设置成用于，防止介质的不受控制的流出。吸收单元144h设置成用于，防止介质从交替容器262h的尤其不同于通过振荡膜片136h的输出的流出，例如在交替容器262h有缺陷或泄露的情况下。吸收单元144h布置在交替容器262h的内室270h中。替代地可以考虑，吸收单元144h尤其可以自动地布置在交替容器262h的内室270h中。吸收单元144h至少部分地由能吸收的材料构造。吸收单元144h设置成用于，尤其按照灯芯原理或海绵原理至少部分地接收、尤其吸收介质。吸收单元144h构造为海绵。替代地可以考虑，吸收单元144h构造为吸入器等。替代地或附加地可以考虑，介质涂覆设备10h的清洁和/或避免污染单元、尤其是清洁和/或避免污染单元的介质导回单元设置成用于防止介质的不受控制的流出(这里未示出)。

可以考虑，介质涂覆设备10f可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元24a的涂覆系统22a中。