阅读说明：本技术 一种水基环保中性清洗液 (Water-based environment-friendly neutral cleaning solution ) 是由 刘江华 付元涛 章小琴 于 2019-09-18 设计创作，主要内容包括：一种水基环保中性清洗液,属于微电子材料用清洗液的技术领域,按重量百分比计,包括式I结构的烷基醇聚醚0.1-25％、醇醚类溶剂0.1-50％、醇类溶剂0.1-25％,去离子水30-99.7％,<Image he="189" wi="446" file="DSA0000191220040000011.GIF" imgContent="drawing" imgFormat="GIF" orientation="portrait" inline="no"></Image>其中m,n均为1-50的整数。本发明清洗液适用于TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面的清洗。(A water-based environment-friendly neutral cleaning solution belongs to the technical field of cleaning solutions for microelectronic materials, and comprises, by weight, 0.1-25% of alkyl alcohol polyether with a structure of formula I, 0.1-50% of alcohol ether solvents, 0.1-25% of alcohol solvents, 30-99.7% of deionized water, wherein m and n are integers from 1 to 50. The cleaning solution is suitable for TFT-LCD, LED and OLEDCleaning of substrate equipment surfaces during packaging and semiconductor wafer fabrication processes.)

一种水基环保中性清洗液

技术领域

本发明涉及微电子材料用清洗液的技术领域，具体涉及一种水基环保中性清洗液，该清洗液适用于TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面的清洗。

背景技术

TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造工艺主要是通过光刻工艺来实现的。在整个光刻工艺中，会大量使用到光刻胶及其配套的电子化学品，在整个工艺流程中会在设备基材表面产生大量的残留杂质，需要定期对设备基材的表面进行清洗。这些残留物如不能有效去除，就会对后续工序或产品的生产造成影响。有些设备特别是需要人工来清洗。市场上的一些强碱强酸类清洗液可以去除上述残留的杂质，此类型清洗液不但对设备基材存在严重腐蚀，对人体也会造成非常大的危害，影响人体健康。

发明内容

本发明的目的是提供一种水基环保中性清洗液，该清洗液能有效去除TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面残余物。该产品清洗效果好、润湿渗透性强、无毒无污染，可以直接人工手动擦洗。

本发明的中的水基环保中性清洗液组合物组成：a)烷基醇聚醚，b)醇醚类溶剂，c)醇类溶剂，d)高纯水。

本发明为实现其目的采用的技术方案是：

一种水基环保中性清洗液，按重量百分比计，包括式I结构的烷基醇聚醚0.1-25％(优选1-15％)、醇醚类溶剂0.1-50％(优选5-30％)、醇类溶剂0.1-25％(优选0.5-20％)，去离子水30-99.7％(优选40-98％)，

其中m，n均为1-50的整数。

所述的醇醚类溶剂为乙二醇醚和/或丙二醇醚。其中乙二醇醚较佳的为乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二***、乙二醇二丙醚、乙二醇二丁醚、乙二醇甲***、乙二醇甲丙醚、乙二醇甲丁醚、乙二醇乙丙醚、乙二醇乙丁醚、乙二醇丙丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单***、二乙二醇单丙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇双甲醚、二乙二醇双***、二乙二醇双丙醚、二乙二醇双丁醚、二乙二醇甲***、二乙二醇甲丙醚、二乙二醇甲丁醚、二乙二醇乙丙醚、二乙二醇乙丁醚、二乙二醇丙丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单***、三乙二醇单丙醚、三乙二醇单丁醚、三乙二醇双甲醚、三乙二醇双***、三乙二醇双丙醚、三乙二醇双丁醚、三乙二醇甲***、三乙二醇甲丙醚、三乙二醇甲丁醚、三乙二醇乙丙醚、三乙二醇乙丁醚、三乙二醇丙丁醚、中的一种或几种；其中丙二醇醚较佳的为丙二醇单甲醚、丙二醇单***、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二***、丙二醇二丙醚、丙二醇二丁醚、丙二醇甲***、丙二醇甲丙醚、丙二醇甲丁醚、丙二醇乙丙醚、丙二醇乙丁醚、丙二醇丙丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单***、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单丁醚、二丙二醇双甲醚、二丙二醇双***、二丙二醇双丙醚、二丙二醇双丁醚、二丙二醇甲***、二丙二醇甲丙醚、二丙二醇甲丁醚、二丙二醇乙丙醚、二丙二醇乙丁醚、二丙二醇丙丁醚、三丙二醇单甲醚、三丙二醇单***、三丙二醇单丙醚、三丙二醇单丁醚中的一种或几种。

所述的去离子水为电阻值大于2MΩ/cm的去离子水。

本发明中的醇类溶剂较佳的为乙醇、丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇、异丙醇、异丁醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇、、季戊四醇、木糖醇、山梨糖醇、环戊醇、环己醇、苯甲醇、苯乙醇、苯丙醇中的一种或几种。

所述清洗液是将式I结构的烷基醇聚醚、醇醚类溶剂、醇类溶剂和去离子水依次加入搅拌溶解，控制溶解过程温度≤50℃，溶解完成后过0.2μm滤芯所得。

所述清洗液直接使用，或稀释2-100倍(优选5-50倍)使用。本发明的清洗液在使用过程中没有特殊限制，可以直接手动擦洗也可淋洗。

本发明的有益效果是：本发明的水基环保中性清洗液能有效去除TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面的油脂、光阻残余物、颗粒、手印、金属杂质等杂质。该产品清洗效果好、润湿渗透性强、无毒无污染，可以直接人工手动擦洗。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本发明作进一步的说明，进一步阐述本发明的优点，但本发明的保护范围不仅仅局限于下述实施例。

一、具体实施例

实施例水基环保中性清洗液的组分和含量，参见表1。

表1

注：wt％均指的是质量百分含量。

二、效果试验

为了进一步考察该水基环保中性清洗液的清洗效果，本发明采用了如下技术手段：将毛巾浸泡在上述清洗液原液或稀释液中，然后利用毛巾直接擦洗设备基材表面，擦洗后，利用去离子水再次清洗基材设备表面，确认清洗效果。该水基环保中性清洗液性质以及清洗效果如下表2所示。

表2

实施例	溶液性质(5～35℃)	稀释倍数	清洗效果
				1	溶解均一	10	干净，无残留
2	溶解均一	原液	干净，无残留
				3	溶解均一	1	干净，无残留
4	溶解均一	50	干净，无残留
				5	溶解均一	20	干净，无残留
6	溶解均一	2	干净，无残留
				7	溶解均一	30	干净，无残留
8	溶解均一	5	干净，无残留
				空白实验	丙酮	原液	不干净，有残留

从上述表格2可以看出，本发明的水洗环保中性清洗液如实施例1-8所示，在5-50℃范围内均可得到溶解均一的溶液。清洗效果表明都可以得到干净、无残留清洗结果。与实施例对比，丙酮无法有效的清洗基材表面的杂质，丙酮属于易制毒产品，对人体危害较大。

综上所述，本发明的进步意义在于提供了一种水基环保中性清洗液，该组合物能有效去除TFT-LCD、LED、OLED、先进封装和半导体晶圆等制造过程中基材设备表面残余物。该产品清洗效果好、润湿渗透性强、无毒无污染，可以直接人工手动擦洗。

以上对本发明的具体实施例进行了详细描述，但其只是作为范例，本发明并不限制于以上描述的具体实施例。对于本领域技术人员而言，任何对本发明进行的等同修改和替代也都在本发明的范畴之中。因此，在不脱离本发明的精神和范围下所作的均等变换和修改，都应涵盖在本发明的范围内。