一种漫反射型标定板及其制备方法

文档序号:160749 发布日期:2021-10-29 浏览:34次 >En<

阅读说明:本技术 一种漫反射型标定板及其制备方法 (Diffuse reflection type calibration plate and preparation method thereof ) 是由 邓辉 陈保国 范海文 于 2020-04-28 设计创作,主要内容包括:本发明公开了一种漫反射型标定板的制备方法,包括以下步骤:使用20%-60%DN95粒径10微米以下的金刚砂溶液,对抛光片/原版玻璃的上表面和/或下表面研磨10-40min,得到第一研磨面,抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面或平面;在抛光片/原版玻璃的上表面采用半导体掩模版图形制作工艺流程加工制作图形,依次进行镀膜、涂胶、光刻、显影和腐蚀,制得金属铬层;进行精密切割,尺寸精度为±0.05mm,本发明还公开了利用该方法制得的标定板,本发明采用研磨工艺制作磨砂效果,满足高平面度要求,砂粒精细并可控,反射率小于0.1%。(The invention discloses a preparation method of a diffuse reflection type calibration plate, which comprises the following steps: grinding the upper surface and/or the lower surface of the polishing sheet/original glass for 10-40min by using 20-60% DN95 carborundum solution with the grain diameter of less than 10 microns to obtain a first grinding surface, wherein the upper surface of the polishing sheet/original glass is a first grinding surface or plane; processing and manufacturing a graph on the upper surface of the polished wafer/original plate glass by adopting a semiconductor mask graph manufacturing process flow, and sequentially carrying out film coating, glue coating, photoetching, developing and corrosion to prepare a metal chromium layer; the invention adopts grinding process to make the frosted effect, which satisfies the requirement of high flatness, the sand grain is fine and controllable, and the reflectivity is less than 0.1%.)

一种漫反射型标定板及其制备方法

技术领域

本发明涉及标定板领域,尤其涉及一种漫反射型标定板及其制备方法。

背景技术

在机器视觉、图像测量、摄影测量、三维重建等应用中,为校正镜头畸变,确定物理尺寸和像素间的换算关系,以及确定空间物体表面某点的三维几何位置与其在图像中对应点之间的相互关系,需要建立相机成像的几何模型。通过相机拍摄带有固定间距图案阵列平板、经过标定算法的计算,可以得出相机的几何模型,从而得到高精度的测量和重建结果。但在前置光源情况下,玻璃材质标定板会出现反光的情况。

目前存在几种现有技术来解决玻璃材质标定板出现反光的问题:

1)使用陶瓷作为基材,在陶瓷片进行镀铬,陶瓷基材不反光。但是氧化铝、氧化锆陶瓷成本比玻璃要高,平整度也较玻璃的差。陶瓷基材一般厚度只有1mm、能加工的尺寸最大在200mm左右,玻璃基材可以各种厚度、能加工大尺寸,目前国内最大型抛光设备能做到1米。

2)在玻璃表面涂高分子材料膜,膜层不反光。但是在玻璃表面涂高分子材料膜附着力比磁控溅射镀的铬膜差,不耐气候、高温、酸碱等坏境。

目前尚无对玻璃材质标定板表面进行处理来解决反光问题的技术,在操作过程中发现利用喷砂加工磨砂效果,会对玻璃表面造成损伤,且不适合加工薄片玻璃。

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