阅读说明：本技术 装饰构件及其制备方法 (Decorative member and method for producing same ) 是由 金容赞 孙政佑 曹弼盛 金起焕 于 2018-06-26 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种装饰元件,其包括：显色层,包括光反射层以及设置在光反射层上的光吸收层；以及电致变色器件,设置在显色层的一个表面上。(The invention relates to a decorative element comprising: a color development layer including a light reflection layer and a light absorption layer disposed on the light reflection layer; and an electrochromic device disposed on one surface of the color developing layer.)

装饰构件及其制备方法

技术领域

本申请要求2017年6月27日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2017-0081401和2017年10月20日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2017-0136808的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。

本发明涉及一种装饰元件及其制备方法。特别地，本发明涉及适用于移动装置或电子产品的装饰元件以及该装饰元件的制备方法。

背景技术

对于移动电话、各种移动装置和电子产品，除了产品功能之外，诸如颜色、形状和图案等产品设计在向客户提供产品价值方面起主要作用。产品偏好和价格也取决于设计。

以移动电话作为一个示例，使用各种方法来获得各种颜色和色觉，并将其用于产品中。可以包括向移动电话壳体材料本身提供颜色的方法或者通过将实现颜色和形状的装饰膜附接到壳体材料来提供设计的方法。

在现有的装饰膜中，已经尝试通过诸如印刷和沉积等方法来显色。当在单个表面上表达异质颜色时，需要进行两次或更多次将印刷，并且当将各种颜色应用于三维图案时，几乎是不能实现的。另外，现有的装饰膜随视角具有固定的颜色，并且即使有轻微的变化，该变化也仅限于色觉的差异。

发明内容

技术问题

本发明旨在提供一种能够容易地获得各种颜色、能够根据需要在三维图案上获得多种颜色以及能够根据视角提供颜色变化的装饰元件。

技术方案

本申请的一个实施例提供了一种装饰元件，其包括：显色层，包括光反射层以及设置在光反射层上的光吸收层；以及电致变色器件，设置在显色层的一个表面上。

根据本发明的另一实施例，显色层还包括彩色膜，该彩色膜设置在光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上、光反射层与光吸收层之间或者在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上。

根据本申请的另一实施例，与未设置彩色膜时相比，当存在彩色膜时，彩色膜采用色差△E*ab(显色层的颜色坐标CIE L*a*b*中的L*a*b*空间中的距离)大于1。

根据本申请的另一实施例，基板设置在光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上或者在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上。基板可以设置在光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上，并且彩色膜可以设置在基板与光反射层之间，或者设置在基板的与面对光反射层的表面相对的表面上。基板可以设置在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上，并且彩色膜可以设置在基板与光吸收层之间，或者设置在基板的与面对光吸收层的表面相对的表面上。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括两个以上厚度不同的点。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括具有不同厚度的两个以上区域。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括一个或多个区域，在该一个或多个区域中上表面具有倾斜表面，该倾斜表面具有大于0度且小于或等于90度的倾斜角度，并且光吸收层包括一个或多个区域，该一个或多个区域的厚度与具有倾斜表面的任何一个区域中的厚度不同。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括具有逐渐变化的厚度的一个或多个区域。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括一个或多个区域，在该一个或多个区域中上表面具有倾斜表面，该倾斜表面具有大于0度且小于或等于90度的倾斜角度，并且具有倾斜表面的至少一个区域具有光吸收层的厚度逐渐变化的结构。

根据本申请的另一实施例，光吸收层对400nm的光的消光系数(k)值大于0且小于或等于4，优选0.01至4。

根据本申请的另一实施例，装饰元件为装饰膜、移动装置的壳体、电子产品的壳体或需要彩色装饰的商品。

有益效果

根据本说明书中描述的实施例，当外部光进入显色层时在进入路径中以及当反射时在反射路径中发生光吸收，并且由于外部光在光吸收层表面和光反射层表面中的每一个表面上发生反射，因此在光吸收层表面上的反射光与光反射层表面上的反射光之间发生相长干涉和相消干涉现象。通过进入路径和反射路径中的这种光吸收以及相长干涉和相消干涉现象可以产生特定颜色。因此，根据依赖于光反射层材料的反射光谱以及根据光吸收层成分，可以获得特定颜色。另外，由于产生的颜色依赖于厚度，所以即使具有相同的材料成分，颜色也可以根据厚度而变化。

通过在这种显色层的一个表面上设置电致变色器件，可以提供有源型装饰元件，于是，可以提供与现有的无源型装饰元件不同的审美价值。因此，可以在移动电话、各种移动装置和电子产品的装饰元件中获得各种颜色。

另外，当进一步包括彩色膜时，即使光反射层和光吸收层的材料和厚度是确定的，也可以进一步大大增加可获得颜色的范围。通过添加滤色膜而获得的颜色变化的范围可以由颜色差(△E*ab)来限定，其为应用滤色膜之前和之后L*a*b*的差异。此外，通过使光吸收层在同一表面上具有两个以上厚度不同的点或区域，可以产生多种颜色，而通过在三维图案上形成显色层，可以在三维图案中获得各种颜色。

另外，当光吸收层的上表面具有至少一个倾斜表面时，可以根据视角获得所产生颜色的变化，并且可以使用简单工艺将光吸收层制备成具有两个以上具有不同厚度的区域。

附图说明

图1示出了根据本发明的一个实施例的装饰元件的层叠结构；

图2是模拟图，用于描述光反射层和光吸收层结构中显色的工作原理；

图3至图6示出了根据本发明实施例的装饰元件的层叠结构；

图7至图10示出了根据本申请实施例的装饰元件的光吸收层的上表面结构；

图11至图14示出了根据本发明实施例的装饰元件的层叠结构；

图15至图17示出了根据光吸收层的厚度不同地显示出的颜色；

图18示出了阴极侧电致变色层和阳极侧电致变色层的结构；

图19示出了观察示例中制备的装饰元件的颜色的照片；

图20示出了示例1至3和比较例1中制备的装饰元件的颜色的仿真结果；

图21示出了示例4的包括棱镜图案结构的层叠结构；

图22示出了示例4中制备的装饰元件的颜色的仿真结果；

图23示出了区分光吸收层和光反射层的方法。

具体实施方式

在下文中，将详细描述本发明。

在本说明书中，“部位”表示不具有面积的一个位置。在本说明书中，光吸收层具有两个以上厚度不同的点。

在本说明书中，“区域”表示具有特定面积的部分。例如，当将装饰元件置于地面上使得光反射层位于底部而光吸收层位于顶部，以及相对于地面垂直划分倾斜表面的两端或具有相同厚度的两端时，具有倾斜表面的区域是指由倾斜表面的两端划分的区域，并且具有相同厚度的区域是指由具有相同厚度的两端划分的区域。

在本说明书中，“表面”或“区域”可以是平坦表面，但不限于此，一部分或全部可以为弯曲表面。例如，可以包括垂直截面形状为圆或椭圆的一部分弧形的结构、波形结构、锯齿形等。

在本说明书中，“倾斜表面”是指当将装饰构件置于地面上使得光反射层位于底部而光吸收层位于顶部时，上表面相对于地面形成的角度大于0度且小于或等于90度的表面。

在本说明书中，某层的“厚度”是指从相应层的下表面到上表面的最短距离。

在本说明书中，除非另外定义，否则“或”表示选择性地或全部包括所列项目的情形，即“和/或”的含义。

在本说明书中，“层”是指覆盖存在相应层的区域的70％或更多。这意味着优选覆盖75％或更多，更优选80％或更多。根据本申请的一个实施例的装饰元件包括：显色层，所述显色层包括光反射层和设置在所述光反射层上的光吸收层；以及电致变色器件，设置在所述显色层的一个表面上。

在本说明书中，可以使用已知的表面电阻器根据4点探针法测量电阻或表面电阻。至于表面电阻，通过使用4探针测量电流(I)和电压(V)来测量电阻值(V/I)，并通过使用样品的面积(单位面积，W)和用于测量电阻的电极之间的距离(L)，通过(V/I×W/L)获得表面电阻，然后，乘以电阻校正因子(RCF)从而计算为欧姆/方块(表面电阻单位)。可以使用样本大小、样本厚度和测量时的温度来计算电阻校正因子，并且可以使用泊松方程来计算电阻校正因子。可以从层叠体本身来测量和计算整个层叠体的表面电阻，并且可以在使用整个层叠体的形成待测量目标层的材料之外的其余材料形成层之前测量每层的表面电阻，可以在使用整个层叠体的形成待测量目标层的材料之外的其余材料形成的层之后测量每层的表面电阻，或者可以通过分析目标层的材料、然后在与目标层相同的条件下形成层来测量每层的表面电阻。

电致变色是电致变色活性材料的光学性质通过电化学氧化还原反应而改变的现象，当从外部施加电压时，由于电子迁移或氧化还原反应之故，电致变色材料可逆地改变它们的光学性质，即材料固有的颜色和透射率。利用这种电致变色现象的电致变色器件主要包括，如电池，阳极、阴极和电解质层。在阳极与电解质之间或者在阴极与电解质之间形成电致变色层，并且当施加特定电势时，诸如H⁺、Li⁺或Na⁺等离子在电解质中发生迁移，同时通过经外部电路的电子迁移，电致变色材料的电子密度发生变化，进而导致光学性质的变化。换句话说，当通过电化学氧化还原反应加入和去除电子和离子时，在金属氧化物表面上出现着色或漂白。

根据一个实施例，电致变色器件包括阳极、阳极侧电致变色层、电解质层、阴极侧电致变色层和阴极。这些层可以按上述顺序层叠。

在阳极的与阳极侧电致变色层邻接的表面相对的表面上，或在阴极的与阴极侧电致变色层邻接的表面相对的表面上，可以进一步设置基板。

在本说明书的一个实施例中，可以使用本领域已知的材料作为基板。具体地，可以使用玻璃、塑料等作为基板，然而，所述基板不限于此。

在本说明书的一个实施例中，透明基板可用作所述基板。在一个实施例中，在可见区域中具有60％或更高透射率的透明基板可用作所述基板。在另一实施例中，在可见区域中具有80％或更高透射率的透明基板可用作所述基板。

在本说明书的一个实施例中，可以使用透射率为80％或更高的玻璃作为所述基板。可以根据需要选择基板厚度，例如，基板的厚度可以在50微米至200微米的范围内。

在本说明书的一个实施例中，阳极和阴极没有特别限制，只要它们是本领域已知的即可。在一个实施例中，阳极和阴极可各自独立地包含掺铟氧化锡(ITO)、掺锑氧化锡(ATO)、掺氟氧化锡(FTO)、掺铟氧化锌(IZO)、ZnO等，但不限于此。

在本说明书的一个实施例中，阳极和阴极可各自为透明电极。具体地，可以使用具有80％或更高透射率的ITO。

在本说明书的一个实施例中，阳极和阴极各自独立地具有10nm至500nm的厚度，例如100nm。

在本说明书的一个实施例中，阳极侧电致变色层可以是普鲁士蓝膜。普鲁士蓝膜包括蓝色MFeFe(CN)₆或无色M2FeFe(CN₆)。这里，M是一价碱金属离子，例如H⁺、Li⁺、Na⁺或K⁺。当着色时呈蓝色，漂白时呈无色。

在本说明书的一个实施例中，阳极侧电致变色层的厚度大于或等于20nm且小于或等于700nm，例如300nm至400nm。

在本说明书的一个实施例中，阳极侧电致变色层在550nm的波长下具有1.8至2.9的折射率。

在本说明书的一个实施例中，可以使用本领域已知的材料和方法制备电解质层。具体地，可以使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)单体、1M或更高的LiClO₄、聚碳酸酯(PC)等，然而，电解质层不限于此。

在一个实施例中，电解质层可包含锂盐、增塑剂、低聚物、单体、添加剂、自由基引发剂等。本发明中使用的低聚物需要与增塑剂具有相容性。

在本说明书的一个实施例中，电解质层可以使用下述方法来形成：例如，在第一离型膜上涂布电解质溶液，然后将第二离型膜粘合到其上，并用UV固化所得物以形成电解质膜。在从电解质膜上除去第一离型膜和第二离型膜之后，可以将制备的电解质膜粘合到阳极侧电致变色层和阴极侧电致变色层。

作为第一离型膜和第二离型膜，可以使用本领域已知的材料。

基于25℃，电解质溶液的粘度可以为10cps至100000cps，并且可以为1000cps至5000cps。当电解质溶液的粘度满足上述范围时，涂布加工性优异，并且通过防止混合过程和消泡过程中的缺陷，可以容易地进行膜型涂布。

在本说明书的一个实施例中，电解质层的厚度可各自独立地为10μm至500μm，例如50μm至100μm。

在本说明书的一个实施例中，阴极侧电致变色层包含含钨(W)氧化物。

在本说明书的一个实施例中，阴极侧电致变色层包含含钨(W)氧化物，并且还可包含铬(Cr)、锰(Mn)、铌(Nb)等。

在本说明书的一个实施例中，阴极侧电致变色层可包括具有含钨(W)氧化物的薄膜。在一个实施例中，该薄膜可具有1g/cm³至4g/cm³的密度。

在本说明书的一个实施例中，含钨(W)氧化物可以由化学式WO_z表示，并且z是大于或等于1且小于或等于3的实数。

在一个实施例中，含钨(W)氧化物是三氧化钨(WO₃)。

在本说明书的一个实施例中，阴极侧电致变色层的厚度大于或等于10nm且小于或等于1μm，例如，300nm至400nm。

在本说明书的一个实施例中，阴极侧电致变色层可以使用本领域已知的方法形成。

阳极侧电致变色层和阴极侧电致变色层可各自在边缘处包括金属汇流条。金属汇流条的材料可以由具有高导电性的金属形成，并且可以使用银、铜、铝等。金属汇流条的厚度可以设定为与电致变色层的厚度相同，并且金属汇流条的宽度可以形成为1mm至10mm，然而，该厚度和宽度不限制于此。

图1示出了根据本申请的一个实施例的装饰元件的层叠结构。图1示出了包括显色层(100)和电致变色器件(200)的装饰元件。显色层(100)包括基板(101)、光反射层(201)和光吸收层(301)。电致变色器件(200)包括阴极(501)、阴极侧电致变色层(601)、电解质层(701)、阳极侧电致变色层(801)、阳极(901)和基板(1001)。图1示出了基板(101)设置在显色层(100)中的光反射层(201)侧的结构，然而，可以不包括基板(101)，或者基板(101)可以设置在光反射层(301)的与邻接光吸收层(201)的表面相对的表面上。另外，图1示出了基板(1001)设置在电致变色器件(200)中的阳极(901)侧的结构，然而，也可以在阴极(501)侧设置附加基板，或可以不包括基板(1001)。图1示出了阴极(501)、阴极侧电致变色层(601)、电解质层(701)、阳极侧电致变色层(801)和阳极(901)顺序层叠在显色层上的结构，然而，该结构不限于此。例如，阳极(901)、阳极侧电致变色层(801)、电解质层(701)、阴极侧电致变色层(601)和阴极(501)顺序层叠在显色层上的结构也包括在本发明的范围内。

通过图23，描述光吸收层和光反射层。在图23的装饰元件中，基于光进入方向，以L_i-1层、L_i层和L_i+1层的顺序层叠各层，界面I_i位于L_i-1层与L_i层之间，界面I_i+1位于L_i层与L_i+1层之间。

当在与各层垂直的方向上照射具有特定波长的光使得不发生薄膜干涉时，界面I_i处的反射率可以由以下数学方程式1表示。

[数学方程式1]

在数学方程式1中，n_i(λ)表示第i层的取决于波长(λ)的折射率，k_i(λ)表示第i层的取决于波长(λ)的消光系数。消光系数是能够定义主体材料吸收特定波长光的强弱的度量，并且定义如上所述。

使用数学方程式1，当在各波长处计算的界面I_i处的各波长的反射率之和为R_i时，R_i如下面的数学方程式2中所示。

[数学方程式2]

这里，当层叠体的界面中I_i的R_i是最大的时，邻接界面I_i且在光进入方向上面对界面I_i的层可以定义为光反射层，而剩余层可以定义为光吸收层。例如，在图23所示的层叠体中，当界面I_i+1处的各波长的反射率之和最大时，邻接I_i+1并且在光进入方向上面对界面I_i+1的L_i+1层可以定义为光反射层，剩余的L_i-1层和L_i层可以定义为光吸收层。

图18示出了在阳极侧电致变色层和阴极侧电致变色层的边缘处设置金属汇流条的结构。在图18中，电致变色层的宽度和高度分别示出为100mm和70mm，然而，这仅是示例，并不限制本发明的范围。例如，可以根据最终需要的装饰元件的尺寸来确定电致变色层的宽度和高度，并且例如，当装饰元件旨在用作用于移动电话的壳体时，宽度和高度可以由移动电话的大小决定。

根据实施例，光吸收发生在光吸收层中光的进入路径和反射路径中，并且通过在光吸收层的表面以及在光吸收层和光反射层的界面上反射光，两个反射光发生相长干涉或相消干涉。在本说明书中，在光吸收层的表面上反射的光可以表述为表面反射光，并且在光吸收层和光反射层的界面上反射的光可以表述为界面反射光。这种工作原理的模拟图示于图2中。图2示出了基板(101)设置在光反射层(201)侧的结构，然而，该结构不限于这种结构，至于基板(101)的位置，基板可以设置在如上所述的其他位置上。

根据本申请的另一实施例，当光吸收层包括图案时，该图案可以具有对称结构、不对称结构或它们的组合。

根据一个实施例，光吸收层可包括对称结构图案。作为对称结构，包括棱镜结构、柱状透镜结构等。

根据本申请的另一实施例，光吸收层可以包括不对称结构图案。

在本说明书中，不对称结构图案是指，当从上表面、侧表面或横截面观察时在至少一个表面上具有不对称结构。当具有这种不对称结构时，装饰构件可以产生二色性。二色性意味着根据视角观察到不同的颜色。

二色性可以通过与上述颜色差有关的下式来表示：ΔE*ab＝√{(ΔL)²+(Δa)²+(Δb)²}，并且依赖于视角的颜色差△E*ab>1可以被定义为具有二色性。

光吸收层可具有△E*ab>1的二色性。

根据一个实施例，光吸收层包括上表面具有锥形突起或凹槽的图案。锥形包括圆锥形、椭圆锥形或多棱锥形。这里，多棱锥形的底面的形状包括三角形、正方形、具有5个以上突出点的星形等。锥形可具有形成在光吸收层的上表面上的突起的形状，或形成在光吸收层的上表面上的凹槽的形状。所述突起具有三角形横截面，并且所述凹槽具有倒三角形横截面。光吸收层的下表面也可以具有与光吸收层的上表面相同的形状。

根据一个实施例，锥形图案可以具有不对称结构。例如，当基于锥体的顶点将锥形图案旋转360度并从上表面观察时，如果存在三个或更多相同形状，则难以从所述图案产生二色性。然而，当基于锥体的顶点将锥形图案旋转360度并从上表面观察时，如果存在两个或更少相同形状，则会产生二色性。图7示出了锥形的上表面，并且(a)都示出了对称结构的锥形，而(b)示出了不对称结构的锥形。

对称结构的锥形具有下述结构：在该结构中，锥形底面是圆形或具有相同边长的正多边形，并且锥体的顶点在底面重心的垂直线上。然而，不对称结构的锥形具有下述结构：在该结构中，当从上表面观察时，锥体顶点的位置在不是底面重心的点的垂直线上，或者在该结构中，底面是不对称结构的多边形或椭圆形。当底面是不对称结构的多边形时，该多边形的至少一条边和角度可以设计成与其余的边和角度不同。

例如，如图8所示，可以改变锥体顶点的位置。具体地，如图8的第一图所示，在将锥体的顶点设计成当从上表面观察时位于底面重心(O1)的垂直线上时，当基于锥体的顶点旋转360度时，可以获得4个相同的结构(4重对称)。然而，通过将锥体的顶点设计在不是底面重心(O1)的位置(O2)来破坏对称结构。当底面的一边的长度为x、锥体顶点的迁移距离为a和b、锥形高度即从锥体顶点(O1或O2)到底面的垂直连线的长度为h、并且由锥体的底面和侧面形成的角度为θn时，图8中的面1、面2、面3和表4的余弦值可以如下获得。

这里，θ1和θ2相同，因此不存在二色性。然而，θ3和θ4不同，并且│θ3-θ4│表示两种颜色之间的颜色差(E*ab)，因此可以获得二色性。这里，│θ3-θ4│>0。如上所述，对称的结构在多大程度上被破坏，即不对称程度，可以使用锥体的底面和侧面所形成的角度之差来定量地表示，并且表示这种不对称程度的值与二色性的颜色差是成比例的。

根据另一实施例，光吸收层包括具有突起或凹槽的图案，在突起的最高点具有线形状，在凹槽中最低点具有线形状。线形状可以是直线形状或曲线形状，并且可以包括曲线和直线两者。当基于上表面的重心将具有线形突起或凹槽的图案旋转360度并从上表面观察时，如果存在两个以上相同形状，则难以形成二色性。然而，当基于上表面的重心将具有线形突起或凹槽的图案旋转360度并从上表面观察时，如果仅存在一个相同形状，则会产生二色性。图9示出了具有线形突起的图案的上表面，(a)示出了不产生二色性的具有线形突起的图案，(b)示出了产生二色性的具有线形突起的图案。图9(a)的X-X'横截面是等腰三角形或等边三角形，而图9(b)的Y-Y'横截面是具有不同边长的三角形。

根据另一实施例，光吸收层包括上表面具有突起或凹槽的图案，该突起或凹槽具有锥形上表面被切的结构。图案的这种横截面可以具有梯形形状或倒梯形形状。在这种情况下，也可以通过将上表面、侧表面或横截面设计成具有不对称结构来产生二色性。

除了上面所示的结构之外，可以有如图10所示的各种突起或凹槽图案。

根据本申请的另一实施例，光吸收层可包括具有不同厚度的两个以上区域。

根据实施例的结构的示例示于图3和图4。图3和图4示出了层叠有光反射层(201)和光吸收层(301)的结构。图3和图4的装饰元件可以包括基板，并且基板(101)可以设置在光反射层(201)侧，或者基板(101)也可以设置在光吸收层(301)侧。根据图3和图4，光吸收层(301)具有两个以上厚度不同的点。根据图3，光吸收层(301)中A区域和B区域的厚度是不同的。根据图4，光吸收层(301)中C区域和D区域的厚度是不同的。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括一个或多个区域，在该一个或多个区域中，上表面，该倾斜表面具有大于0度且小于或等于90度的倾斜角度，并且光吸收层包括一个或多个区域，该一个或多个区域的厚度与具有倾斜表面的任何一个区域中的厚度不同。

光反射层的诸如上表面斜率等表面特性可以与光吸收层的上表面相同。例如，通过在形成光吸收层时使用沉积方法，光吸收层的上表面的斜率可以与光反射层的上表面的斜率相同。

图5示出了具有光吸收层的装饰元件的结构，在该光吸收层中上表面具有倾斜表面。该结构是层叠有基板(101)、光反射层(201)和光吸收层(301)的结构，在光吸收层(301)中，E区域中的厚度t1和F区域中的厚度t2是不同的。

图5涉及具有彼此面对的倾斜表面的光吸收层，即该光吸收层具有三角形横截面的结构。在如图5所示的具有彼此面对的倾斜表面的图案的结构中，即使在相同条件下进行沉积时，光吸收层的厚度在三角形结构的两个表面中也可以不同。因此，仅使用一个工艺就可以形成具有厚度不同的两个以上区域的光吸收层。于是，产生的颜色会根据光吸收层的厚度而变得不同。这里，光反射层具有一定厚度以上的厚度时光反射层的厚度不影响颜色的变化。

图5示出了基板(101)设置在光反射层(201)侧的结构，然而，该结构不限于此，并且如上所述，基板(101)也可以设置在其他位置上。另外，在图5中，基板(101)的与光反射层(201)邻接的表面是平坦表面，然而，基板(101)的与光反射层(201)邻接的表面可以具有与光反射层(201)的上表面斜率相同的图案。由于基板图案的斜率差异，这会导致光吸收层的厚度不同。然而，本发明不限于此，并且即使当使用不同的沉积方法将基板和光吸收层制备为具有不同的斜率时，也可以通过使光吸收层的厚度在图案的两侧不同来获得上述二色性。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括具有逐渐变化厚度的一个或多个区域。图3示出了光吸收层的厚度逐渐变化的结构。

根据本申请的另一实施例，光吸收层包括一个或多个区域，其中上表面具有倾斜表面，倾斜表面具有大于0度且小于或等于90度的倾斜角度，并且具有倾斜表面的至少一个区域具有光吸收层的厚度逐渐变化的结构。图6示出了一种光吸收层的结构，该光吸收层包括上表面具有倾斜表面的区域。在图6中，G区域和H区域都具有下述结构：在该结构中，光吸收层的上表面具有倾斜表面，并且光吸收层的厚度逐渐变化。

根据一个实施例，光吸收层包括具有第一倾斜表面的第一区域，该第一倾斜表面具有在1度至90度范围内的倾斜角度，并且光吸收层还可以包括第二区域，在该第二区域中，上表面具有倾斜表面，该倾斜表面与第一倾斜表面具有不同的倾斜方向或倾斜角度，或者上表面是水平的。这里，在光吸收层中，第一区域与第二区域中的厚度可以彼此不同。

根据另一实施例，光吸收层包括具有第一倾斜表面的第一区域，该第一倾斜表面具有在1度至90度范围内的倾斜角度，并且光吸收层还可包括两个以上区域，在该两个以上区域中，上表面具有倾斜表面，该倾斜表面与第一倾斜表面不同的倾斜方向或倾斜角度，或者上表面是水平的。这里，在光吸收层中，第一区域与所述两个以上区域中的厚度可以全部彼此不同。

根据本申请的另一实施例，显色层包括彩色膜，该彩色膜设置在光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上、在光反射层与光吸收层之间、或者在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上。

当存在彩色膜时，与未设置彩色膜时相比，彩色膜没有特别限制，只要它具有大于1的颜色差△E*ab(显色层的在L*a*b*空间中的颜色坐标CIEL*a*b*之间的距离)即可。

颜色可以由CIE L*a*b*表示，并且颜色差可以使用L*a*b*空间中的距离(ΔE*ab)来定义。具体地，颜色差为ΔE*ab＝√{(ΔL)²+(Δa)²+(Δb)²}，并且在0<ΔE*ab<1的范围内，观察者不会识别出颜色差[参考文献：MachineGraphics and Vision Volume 20(Issue:4):383-411]。因此，在本说明书中，通过彩色膜添加获得的颜色差可以由△E*ab>1定义。

图11示出了包括彩色膜的颜色转换层。图11(a)示出了相继层叠有光反射层(201)、光吸收层(301)和彩色膜(401)的结构，图11(b)示出了相继层叠有光反射层(201)、彩色膜(401)和光吸收层(301)的结构，图11(c)示出了相继层叠有彩色膜(401)、光反射层(201)和光吸收层(301)的结构。

彩色膜还可以起到基板的作用。例如，可以用作基板的那些通过在其中添加颜料或染料而可以用作彩色膜。

基板可以设置在光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上(图12(a))；或者基板可以设置在在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上(图12(b))。

例如，当基板设置在光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上，并且彩色膜位于光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上时，彩色膜可以设置在基板与光反射层之间；或者彩色膜可以设置在基板的与面对光反射层的表面相对的表面上。作为另一示例，当基板设置在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上，并且彩色膜位于光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上时，彩色膜可以设置在基板与光吸收层之间；或者彩色膜可以设置在基板的与面对光吸收层的表面相对的表面上。

根据本申请的另一实施例，基板设置在光反射层的与面对光吸收层的表面相对的表面上，并且还设置有彩色膜。图13(a)示出了彩色膜(401)设置在光吸收层(301)的与光反射层(201)侧相对的表面上的结构，图13(b)示出了彩色膜(401)设置在光吸收层(301)与光反射层(201)之间的结构，图13(c)示出了彩色膜(401)设置在光反射层(201)与基板(101)之间的结构，图13(d)示出了彩色膜(401)设置在基板(101)的与光反射层(201)侧相对的表面上的结构，图13(e)示出了下述结构：在该结构中，彩色膜(401a、401b、401c、401d)分别设置在光吸收层(301)的与光反射层(201)侧相对的表面上、在光吸收层(301)与光反射层(201)之间、在光反射层(201)与基板(101)之间、以及在基板(101)的与光反射层(201)侧相对的表面上，然而，该结构不限于此，并且1至3个彩色膜(401a、401b、401c、401d)可以不包括在内。

根据本申请的另一实施例，基板设置在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上，并且还设置有彩色膜。图14(a)示出了彩色膜(401)设置在基板(101)的与光吸收层(301)侧相对的表面上的结构，图14(b)示出了彩色膜(401)设置在基板(101)与光吸收层(301)之间的结构，图14(c)示出了彩色膜(401)设置在光吸收层(301)与光反射层(201)之间的结构，图14(d)示出了彩色膜(401)设置在光反射层(201)的与光吸收层(301)侧相对的表面上的结构，图14(e)示出了下述结构：在该结构中，彩色膜(401a，401b，401c，401d)分别设置在基板(101)的与光吸收层(201)侧相对的表面上、在基板(101)与光吸收层(301)之间、在光吸收层(301)与光反射层(201)之间、以及在光反射层(201)的与光吸收层(201)侧相对的表面上，然而，该结构不限于此，并且1至3个彩色膜(401a、401b、401c、401d)可以不包括在内。

在诸如图13(b)和图14(c)的结构中，当彩色膜具有大于0％的可见光透射率时，光反射层可以反射通过彩色膜进入的光，因此，通过层叠光吸收层和光反射层可以获得颜色。

在诸如图13(c)、图13(d)和图14(d)的结构中，从光反射层(201)的彩色膜产生的颜色的透光率可以是1％或更大，优选3％或更大，更优选5％或更大，使得可以识别通过添加彩色膜所获得的色差的变化。这是因为，在这样的可见光透射率范围内透射的光可以与通过彩色膜获得的颜色相混合。

彩色膜可以设置为一片，或者设置为相同或不同类型的2片或更多片的层叠体。

作为彩色膜，可以使用能够与上述光反射层和光吸收层的层叠结构所产生的颜色相组合而产生目标颜色的彩色膜。例如，可以使用通过将一种或两种以上颜料和染料分散到基质树脂中来呈现颜色的彩色膜。这种彩色膜可以通过在可设置彩色膜的位置上直接涂布用于形成彩色膜的组合物来形成，或者可以使用下述方法：通过在单独的基板上涂布用于形成彩色膜的组合物、或使用诸如铸造或挤出等已知模制方法来制备彩色膜，然后将该彩色膜设置或附着在可设置彩色膜的位置上。作为涂布方法，可以使用湿涂法或干涂法。

能够包含在彩色膜中的颜料和染料可以选自能够从最终装饰构件获得目标颜色并且在本领域中已知的那些颜料和染料，并且可以使用诸如红色基、黄色基、紫色基、蓝色基或粉色基颜料和染料中的一种或两种以上。具体地，可以单独使用或作为组合使用下述染料，例如环酮基红色染料、蒽醌基红色染料、甲烷基黄色染料、蒽醌基黄色染料、蒽醌基紫色染料、酞菁基蓝色染料、硫靛基粉色染料或异靛基粉色染料。可以单独使用或作为组合使用下述颜料，例如炭黑、铜酞菁(C.I.颜料蓝15:3)、C.I.颜料红112、颜料蓝或异吲哚啉黄。可以使用市售的那些染料或颜料作为这样的染料或颜料，例如，可以使用由Ciba ORACET或Chokwang Paint Ltd.制造的材料。染料或颜料的类型及其颜色仅用于说明目的，可以使用各种已知的染料或颜料，并且可以从中获得更多样的颜色。

作为彩色膜中包含的基质树脂，可以使用已知作为透明膜、底漆层、粘合层或涂层材料的材料，并且基质树脂不特别限于这些材料。例如，可以选择各种材料，例如丙烯酸基树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯基树脂、聚氨酯基树脂、线性烯烃基树脂、环烯烃基树脂、环氧基树脂或三乙酰纤维素基树脂，并且也可以使用上述材料的共聚物或混合物。

如在，例如，图13(a)和(b)以及图14(a)、(b)和(c)的结构中那样，当彩色膜设置得比光反射层或光吸收层更接近观察装饰构件的位置时，从光反射层、光吸收层、或光反射层和光吸收层的层叠结构通过彩色膜所产生的颜色的透光率可以是1％或更大，优选3％或更大，更优选5％或更大。于是，通过组合从彩色膜产生的颜色和从光反射层、光吸收层或它们的层叠结构产生的颜色，可以获得目标颜色。

彩色膜的厚度没有特别限制，本领域技术人员可以选择和设定厚度，只要能够获得目标颜色即可。例如，彩色膜可以具有500nm至1mm的厚度。

光吸收层可以根据折射率(n)、消光系数(k)和厚度(t)实现各种颜色。图15示出了取决于光吸收层厚度的反射率-波长关系，图16示出了从中获得的颜色。具体而言，图15是根据CuO/Cu的CuO沉积厚度的反射率仿真图，并且图15是在相同的沉积条件下将CuO厚度从10nm变化到60nm时制备的材料。

图17示出了仿真结果，表明根据视角观察到不同颜色。图17是CuON/Al的仿真结果。在图17中，光吸收层的厚度以10nm为单位从10nm增加到100nm，并且入射角以15度间隔从0度调整到60度。通过这样的仿真结果，可以看出，在根据本申请的实施例的结构中，通过调节光吸收层的厚度和上表面的倾斜角度可以获得各种颜色。通过额外设置彩色膜，可以获得更多样的颜色。

在图17中，a1至a5的L*a*b*坐标值各自为(91,3,5)，b1至b5的L*a*b*坐标值分别为(74,14,8)、(74,14,8)、(72,15,10)、(69,15,11)和(66,16,13)，c1至c5的L*a*b*坐标值分别为(46,22,-11)、(45,22,-10)、(43,25,-9)、(40,28,-4)和(42,30,6)，d1到d5的L*a*b*坐标值分别为(36,-12,-22)、(35,-11,-23)、(30,-7,-24)、(20,6,-26)和(18,38,-12)，e1到e5的L*a*b*坐标值分别为(49,-20,-7)、(48,-20,-7)、(43,-20,-8)、(34,-18,39)和(18,7,-10)，f1到f5的L*a*b*坐标值分别为(60,-10,4)、(59,-10,4)、(55,-11,4)、(47,-11,4)和(31,-4,3)，g1至g5的L*a*b*坐标值为(66,-4,10)、(65,-4,10)、(62,-4,10)、(54,-5,11)和(40，-2,10)，h1至h5的L*a*b*坐标值分别为(69,1,11)、(68,1,12)、(64,1,13)、(58,1,14)和(44,2,13)，i1至i5的坐标值L*a*b*分别为(68,5,11)、(67,5,11)、(64,5,12)、(58,6,14)和(41,7,14)，j1至j5的L*a*b*坐标值是(66,8,8)、(65,8,8)、(62,8,10)、(56,9,11)和(43,11,11)。

光反射层没有特别限制，只要其为能够反射光的材料即可，然而，光反射率可以根据材料来确定，例如，颜色容易呈现为50％或更大。可以使用椭偏仪测量光反射率。

光吸收层优选对400nm的光具有0至8的折射率(n)，并且折射率可以为0至7，可以为0.01至3，并且可以为2至2.5。折射率(n)可以通过sinθ1/sinθ2计算(θ1是入射在光吸收层表面上的光的角度，θ2是光吸收层内部的光的折射角)。

光吸收层优选对380nm至780nm的光具有0至8的折射率(n)，并且折射率可以为0至7，可以为0.01至3，并且可以为2至2.5。

对于400nm的光，光吸收层可以具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，并且消光系数(k)优选为0.01至4，可以为0.01至3.5，可以为0.01至3，并且可以为0.1至1。消光系数(k)为-λ/4πI(dI/dx)(此处，λ/4π乘以dI/I的值，光吸收层中单位路径长度(dx)(例如1m)上光强度的减少部分，这里，λ是光的波长)。

对于380nm至780nm的光，光吸收层可以具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，并且消光系数(k)优选为0.01至4，可以为0.01至3.5，可以为0.01至3，并且可以为0.1至1。

对于400nm的光，优选对380nm至780nm的整个可见波长区域中的光，消光系数(k)处于上述范围内，因此光吸收层可以在可见光范围内起作用。

例如，使用向树脂中添加染料来吸收光的方法、以及使用具有如上所述消光系数的材料导致不同的光吸收光谱。当通过向树脂中添加染料来吸收光时，吸收波长带是固定的，并且只发生吸收量根据涂层厚度的变化而变化的现象。另外，为了获得目标光吸收量，需要改变至少数微米或更大的厚度，以调节光吸收量。另一方面，在具有消光系数的材料中，即使厚度变化数纳米到数十纳米量级，波长带吸收光也会改变。

根据一个实施例，光反射层可以是金属层、金属氧化物层、金属氮化物层、金属氮氧化物层或无机材料层。光反射层可以形成为单层，或者可以形成为两层或更多层的多层。

作为一个示例，光反射层可以是单层或多层，包括选自铟(In)、钛(Ti)、锡(Sn)、硅(Si)、锗(Ge)、铝(Al)、铜(Cu)、镍(Ni)、钒(V)、钨(W)、钽(Ta)、钼(Mo)、钕(Nd)、铁(Fe)、铬(Cr)、钴(Co)、金(Au)和银(Ag)或它们的氧化物、氮化物或氮氧化物中的一种或两种以上材料，以及碳和碳复合物中的一种或两种以上材料。例如、光反射层可包括选自上述材料中的两种或更多种合金或它们的氧化物、氮化物或氮氧化物。根据另一实施例，光反射层通过使用含碳或碳复合物的油墨来制备，可以形成高阻反射层。可以包括炭黑、CNT等作为碳或碳复合物。含碳或碳复合物的油墨可包含上述材料或它们的氧化物、氮化物或氮氧化物，例如，可以包括选自铟(In)、钛(Ti)、锡(Sn)、硅(Si)、锗(Ge)、铝(Al)、铜(Cu)、镍(Ni)、钒(V)、钨(W)、钽(Ta)、钼(Mo)、钕(Nd)、铁(Fe)、铬(Cr)、钴(Co)、金(Au)和银(Ag)中的一种或两种以上氧化物。在印刷了含碳或碳复合物的油墨之后，可以进一步进行固化过程。

当光反射层包括两种或更多种材料时，可以使用一种工艺形成两种或更多种材料，例如，使用沉积或印刷的方法，然而，可以使用这样的方法：首先使用一种或多种材料形成一层、然后使用一种或多种材料在其上另外形成一层。例如，可以通过沉积铟或锡形成一层、然后印刷含碳的油墨、然后固化所得物来形成光反射层。油墨可进一步包含氧化物，例如氧化钛或氧化硅。

根据一个实施例，光吸收层可以是单层、或者两层或更多层的多层。

光吸收层可以由对400nm(优选为380nm至780nm)的光具有消光系数(k)的材料形成，即光吸收层可以由消光系数大于0且小于或等于4(优选为0.01至4)的材料形成。例如，光吸收层可包括选自金属、类金属以及金属或类金属的氧化物、氮化物、氮氧化物和碳化物中的一种或两种以上。金属或类金属的氧化物、氮化物、氮氧化物或碳化物可以在本领域技术人员设定的沉积条件等下形成。光吸收层还可以包括与光反射层相同的两种或更多种的金属、类金属、合金或氮氧化物。

例如，光吸收层可以是单层或多层，包括选自铟(In)、钛(Ti)、锡(Sn)、硅(Si)、锗(Ge)、铝(Al)、铜(Cu)、镍(Ni)、钒(V)、钨(W)、钽(Ta)、钼(Mo)、钕(Nd)、铁(Fe)、铬(Cr)、钴(Co)、金(Au)和银(Ag)或它们的氧化物、氮化物或氮氧化物中的一种或两种以上材料。作为具体实例，光吸收层包括选自氧化铜、氮化铜、氮氧化铜、氧化铝、氮化铝、氮氧化铝和氮氧化钼钛中的一种或两种以上。

根据一个实施例，光吸收层包含硅(Si)或锗(Ge)。

对于400nm的光，由硅(Si)或锗(Ge)形成的光吸收层可以具有0至8或0至7的折射率(n)，并且由硅(Si)或锗(Ge)形成的光吸收层可具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，优选0.01至4，消光系数(k)可以为0.01至3或0.01至1。

根据另一实施例，光吸收层包含选自氧化铜、氮化铜、氮氧化铜、氧化铝、氮化铝、氮氧化铝和氮氧化钼钛中的一种或两种以上。在这种情况下，对于400nm的光，光吸收层可以具有1至3的折射率(n)，例如，2至2.5，并且光吸收层可以具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，优选0.01至2.5，优选0.2至2.5，更优选0.2至0.6。

根据一个实施例，光吸收层为AlOxNy(x>0，y>0)。

根据另一实施例，光吸收层可以是AlOxNy(0≤x≤1.5，0≤y≤1)。

根据另一实施例，光吸收层是AlOxNy(x>0，y>0)，并且相对于100％的原子总数，各原子的数量满足以下公式。

根据一个实施例，光吸收层可以由对400nm(优选380至780nm)的光具有消光系数(k)的材料形成，并且例如，光吸收层/光反射层可以由诸如CuO/Cu、CuON/Cu、CuON/Al、AlON/Al、AlN/AL/AlON/Cu或AlN/Cu等材料形成。

根据一个实施例，光反射层的厚度可以根据最终结构中的目标颜色来确定，并且例如，可以是1nm或更大，优选地是25nm或更大(例如，50nm或更大)，并且优选70nm或更大。

根据一个实施例，光吸收层的厚度可以为5nm至500nm，例如30nm至500nm。

根据一个实施例，光吸收层的区域的厚度差异为2nm至200nm，并且可以根据目标颜色差异来确定。

根据一个实施例，可以进一步包括设置在光反射层的下表面上或光吸收层的上表面上的基板。诸如基板的上表面斜率等表面特性可以与光反射层和光吸收层的上表面相同。通过使用沉积方法形成光反射层和光吸收层，基板、光反射层和光吸收层可以具有相同角度的倾斜表面。例如，通过在基板的上表面上形成倾斜表面或三维结构、并且在其上依次沉积光反射层和光吸收层或者依次沉积光吸收层和光反射层，可以获得上述结构。

根据一个实施例，可以使用在紫外可固化树脂上形成图案并利用紫外线对其进行固化或用激光进行处理的方法在基板表面上形成倾斜表面或三维结构。根据一个实施例，装饰元件可以是移动装置的装饰膜或壳体。根据需要，装饰元件还可包括胶合层。

基板的材料没有特别限制，当使用上述方法形成倾斜表面或三维结构时，可以使用本领域已知的紫外可固化树脂。

在光吸收层上，可以进一步设置保护层。

根据一个实施例，可以在与基板的设置有光吸收层或光反射层的相对表面上进一步设置粘合层。该粘合层可以是光学透明粘合(OCA)层。根据需要，可以在粘合层上进一步设置剥离层(离型层)以进行保护。

在本说明书中描述了诸如溅射方法等沉积方法，作为形成光反射层和光吸收层的示例，然而，可以使用各种制备薄膜的方法，只要可以获得本说明书中所描述的实施例所述的构造和性质即可。例如，可以使用气相沉积方法、化学气相沉积(CVD)方法、湿涂法等。

在下文中，将参考示例更详细地描述本发明。然而，以下实施例仅用于说明目的，而不是限制本发明的范围。

示例1

在PET基板的一个表面上连续层叠厚度为80nm的ITO层和厚度为250nm的WO₃层，从而制备一种膜。在PET基板的相对表面上，沉积光反射层(Al，厚度100nm)和光吸收层(氮氧化铝，厚度40nm)，使得基本颜色在漂白时变成金色。将如上制造的半电池置于包含电解液(LiClO₄(1M)+碳酸丙烯酯(PC))的浴中，制备恒电势器装置，并施加-1V的电压50秒以着色WO₃。

以凝胶聚合物电解质(GPE)为介质，将半电池的包含的ITO层和WO₃层的膜与普鲁士蓝(PB)/ITO层叠体粘合，以制备具有Al/AlON/ITO/WO₃/GPE/PB/ITO层叠结构的膜。

以恒定的周期向所述制备的膜重复施加漂白电压和着色电压，同时测量颜色变化率。每个周期的漂白电压和着色电压各自以(±)1.2V的幅度施加50秒。

示例2

在PET基板的一个表面上连续层叠厚度为80nm的ITO层和厚度为250nm的WO₃层，从而制备一种膜。在PET基板的相对表面上，沉积光反射层(Al，厚度100nm)和光吸收层(氮氧化铝，厚度60nm)，使得基本颜色在漂白时变成金色。将如上制造的半电池置于包含电解液(LiClO₄(1M)+碳酸丙烯酯(PC))的浴中，制备恒电势器装置，并施加-1V的电压50秒以着色WO₃。

以凝胶聚合物电解质(GPE)为介质，将半电池的包含ITO层和WO₃层的膜与普鲁士蓝(PB)/ITO层叠体粘合，以制备具有Al/AlON/ITO/WO₃/GPE/PB/ITO层叠结构的膜。

以恒定的周期向所述制备的膜重复施加漂白电压和着色电压，同时测量颜色变化率。每个周期的漂白电压和着色电压各自以(±)1.2V的幅度施加50秒。

示例3

在PET基板的一个表面上连续层叠厚度为80nm的ITO层和厚度为250nm的WO₃层，从而制备一种膜。在PET基板的相对表面上，沉积光反射层(Al，厚度100nm)和光吸收层(氮氧化铝，厚度80nm)，使得基本颜色在漂白时变成金色。将如上制造的半电池置于包含电解液(LiClO₄(1M)+碳酸丙烯酯(PC))的浴中，制备恒电势器装置，并施加-1V的电压50秒以着色WO₃。

以凝胶聚合物电解质(GPE)为介质，将半电池的包含ITO层和WO₃层的膜与普鲁士蓝(PB)/ITO层叠体粘合，以制备具有Al/AlON/ITO/WO₃/GPE/PB/ITO层叠结构的膜。

以恒定的周期向所述制备的膜重复施加漂白电压和着色电压，同时测量颜色变化率。每个周期的漂白电压和着色电压各自以(±)1.2V的幅度施加50秒。

比较例1

在不形成示例1的光反射层和光吸收层的情况下，在PET基板上连续层叠厚度为210nm的ITO和厚度为250nm的WO₃层。之后，通过与示例1相同的层叠过程制备透射性电致变色膜(ITO/WO₃/GPE/PB/ITO)。以与示例1中相同的方式测量如上制备的膜的颜色变化率。

示例1和2以及比较例1中制备的膜的电阻、着色时间和漂白时间示于下面的表1中。

[表1]

	电阻(Ω/□)	着色时间(秒)	漂白时间(秒)
				示例1	30	32	31
示例2	30	31	30
				示例3	30	32	30
比较例1	30	30	32

[示例1、2和3中使用的ITO电阻均为30欧姆/方块]

当向示例1中制备的膜施加着色电压时颜色随时间的变化、以及当向示例1中制备的膜施加漂白电压时颜色随时间的变化示于图19中。在图19中，可以看到，通过施加电压或在施加电压后随时间推移获得了各种颜色。图19中的每个数字表示相应颜色的CIE L*ab坐标值。

对比较例1和示例1至3中制备的装饰元件漂白时观察到的颜色的仿真结果示于图20中。这里，假设光吸收层(氮氧化铝层)的厚度在示例1中为20nm、在示例2中为30nm和40nm、在示例3中为50nm和60nm，从而获得仿真结果。通过图20，可以看到，根据厚度可以获得各种颜色。

示例4

以与示例1相同的方式进行制备，不同之处在于，作为PET基板，使用具有棱镜图案的PET膜，如图21中所示，该棱镜图案形成在与邻接电致变色器件的表面相对的表面上，并在PET膜的设置有棱镜图案的表面上形成光反射层和光吸收层。另外，在形成ITO层之后，进一步层叠PET膜作为阳极。在一个表面上所制备的装饰元件的尺寸为70mm×100mm，如图18所示。

电致变色率受到电致变色材料和ITO的电阻的影响，因此，获得了与示例1中相同的结果。在漂白状态下，从PET膜(PET)的棱镜图案上所设置的光反射层侧和光吸收层侧观察到的颜色的仿真结果在图22中示出。图22中的右、下、左和上表示分别从图21中的右、下、左和上观察图21中的层叠结构时所获得的颜色。

在实验中，使用如下方法测量电阻和颜色变化的时间。

*电阻：使用已知表面电阻器根据4点探针法测量示例和制备示例中所制备的每种膜的表面电阻。对示例中形成光吸收层之前的光反射层和比较例中的ITO测量出表1的表面电阻。整个层叠体的表面电阻由具有低表面电阻的反射层的电阻决定，因为这些层是并联连接的。使用Hiresta MCP-HT450，ASPPROBE测量装置测量表面电阻。

*颜色变化的时间：对于着色时间，对达到施加着色电位的时间(50秒)过后所观察到的最终着色状态的透射率的约20％所需的时间进行测量。

另外，对于漂白时间，对达到施加漂白电位的时间(50秒)过后所观察到的最终漂白状态的透射率的约80％所需的时间进行测量。