阅读说明：本技术 湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置 (Humid air preparation device, humid air preparation method and photoetching device ) 是由 赵丹平 杨志斌 罗晋 于 2018-07-05 设计创作，主要内容包括：本发明公开了湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置。此湿空气制备装置包括：水供给单元、空气供给单元、电场供给单元和雾化腔室单元；其中,水供给单元、空气供给单元以及电场供给单元分别与雾化腔室单元连接；水供给单元用于向雾化腔室单元供给水；电场供给单元用于向雾化腔室单元供电,使雾化腔室单元中形成电场,使水电离雾化；空气供给单元用于向雾化腔室单元中供给压缩空气,压缩空气与雾化后的水在雾化腔室单元中混合,共同形成湿空气；雾化腔室单元包括出气口,出气口用于将形成的湿空气输出,输出的湿空气用于浸没式光刻装置。本发明的技术方案可制备超洁净湿空气,减缓光刻装置中浸没液蒸发速率,增强位置测量单元的抗干扰性能。(The invention discloses a humid air preparation device, a humid air preparation method and a photoetching device. The humid air preparation device comprises: the device comprises a water supply unit, an air supply unit, an electric field supply unit and an atomization chamber unit; wherein, the water supply unit, the air supply unit and the electric field supply unit are respectively connected with the atomizing chamber unit; the water supply unit is used for supplying water to the atomizing chamber unit; the electric field supply unit is used for supplying power to the atomizing chamber unit to form an electric field in the atomizing chamber unit and enable water to be ionized and atomized; the air supply unit is used for supplying compressed air to the atomizing chamber unit, and the compressed air and the atomized water are mixed in the atomizing chamber unit to jointly form wet air; the atomizing chamber unit comprises an air outlet for outputting the formed humid air, and the outputted humid air is used for the immersion lithography device. The technical scheme of the invention can prepare ultra-clean wet air, slow down the evaporation rate of the immersion liquid in the photoetching device and enhance the anti-interference performance of the position measuring unit.)

湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置

技术领域

本发明实施例涉及光刻技术领域，尤其涉及湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置。

背景技术

光刻工艺直接决定大规模集成电路的特征尺寸，是大规模集成电路制造的关键工艺。现有光刻装置以光学光刻为基础，利用投影系统将图案形成单元上的图形精确地投影曝光到涂覆有光刻胶的基底(例如，硅片)上。传统的光刻装置中，投影系统的镜头与光刻胶之间的介质是空气，浸没式光刻装置是将空气介质换成液体介质，利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。由于液体介质的折射率比空气介质的折射率大，因此，投影系统的透镜组的数值孔径增大，进而可获得较小的特征尺寸。

浸没式光刻装置工作时，承载单元带动基底做高速的扫描或步进动作，位置测量单元通过处理测量光线的信息获取承载单元的位置以及运动状态；同时，浸没液限制机构根据承载单元的运动状态，在投影系统的物镜视场范围，提供一个稳定的浸没液流场，以及保证浸没液流场与外界的密封，即保证浸没液***露。图案形成单元上的图形通过照明单元、投影系统和浸没液以成像曝光的方式，转移到涂覆有光刻胶的基底上，从而完成曝光。此浸没式光刻装置中浸没液蒸发较快且位置测量单元的抗干扰性能较差。

发明内容

本发明提供湿空气制备装置、湿空气制备方法以及光刻装置，以减缓浸没液蒸发速率，增强位置测量单元的抗干扰性能。

第一方面，本发明实施例提出一种湿空气制备装置，该装置包括：

水供给单元、空气供给单元、电场供给单元和雾化腔室单元；

其中，所述水供给单元、所述空气供给单元以及所述电场供给单元分别与所述雾化腔室单元连接；

所述水供给单元用于向所述雾化腔室单元供给水；

所述电场供给单元用于向所述雾化腔室单元供电，使所述雾化腔室单元中形成电场，使水电离雾化；

所述空气供给单元用于向所述雾化腔室单元中供给压缩空气，所述压缩空气与雾化后的水在所述雾化腔室单元中混合，共同形成湿空气；

所述雾化腔室单元包括出气口，所述出气口用于将形成的湿空气输出，输出的湿空气用于浸没式光刻装置的用气区域。

进一步地，所述水供给单元包括超纯水供给子单元、二氧化碳供给子单元、混合腔室子单元和至少一个喷嘴；

其中，所述超纯水供给子单元、二氧化碳供给子单元以及至少一个喷嘴分别与混合腔室子单元连接；

所述超纯水供给子单元用于向所述混合腔室子单元供给超纯水；

所述二氧化碳供给子单元用于向所述混合腔室子单元供给二氧化碳；

所述混合腔室子单元用于将所述超纯水与所述二氧化碳混合；

所述喷嘴位于所述雾化腔室单元内部，用于将混合后的所述超纯水喷出。

进一步地，所述雾化腔室单元还包括至少一个多孔板，所述多孔板与所述喷嘴相对设置；所述电场供给单元包括第一电极和第二电极；所述第一电极与所述喷嘴电连接，所述第二电极与所述多孔板电连接；

所述多孔板与所述喷嘴用于在所述电场供给单元供电时，在所述雾化腔室单元内部形成电场。

进一步地，所述多孔板为多个，所述喷嘴为多个；

所述多孔板与所述喷嘴一一相对设置。

进一步地，还包括排废单元；

所述雾化腔室单元还包括排废口，所述排废口与所述排废单元连接，所述排废口用于排出所述雾化腔室单元中的废液至所述排废单元。

进一步地，还包括湿空气处理单元；

所述湿空气处理单元与所述雾化腔室单元连接；

所述湿空气处理单元包括至少一个次级出气口；

所述湿空气处理单元用于监控所述湿空气的温度、洁净度和流量，并将所述湿空气进行分配，所述次级出气口用于将分配后的所述湿空气输出。

进一步地，所述湿空气处理单元包括温控子单元、污染监控子单元和流量分配子单元；

所述温控子单元用于监控所述湿空气的温度；

所述污染监控子单元用于监控所述湿空气的洁净度；

所述流量分配子单元用于将所述湿空气进行分配。

进一步地，还包括控制单元和传感器单元；

所述传感器单元与所述雾化腔室单元连接，所述传感器单元与所述控制单元电连接，所述控制单元与所述水供给单元的调节端以及所述空气供给单元的调节端电连接；

所述传感器单元用于监测所述湿空气的流量和/或湿度，并反馈给所述控制单元；

所述控制单元用于根据所述湿空气的湿度增加或减少所述水供给单元的水供给量；和/或，所述控制单元用于根据所述湿空气的流量增加或减少所述空气供给单元的空气供给量。

第二方面，本发明实施例提出一种湿空气制备方法，利用第一方面提供的湿空气制备装置执行，该湿空气制备方法包括：

利用所述电场供给单元向所述雾化腔室单元供电，使所述雾化腔室单元中形成电场；

利用所述水供给单元向所述雾化腔室单元供给水，水在所述电场中电离雾化；

利用所述空气供给单元向所述雾化腔室单元供给压缩空气，使所述压缩空气与雾化后的水混合，形成湿空气；

所述湿空气由所述出气口输出；

所述湿空气传输至用气区域。

进一步地，在利用所述水供给单元向所述雾化腔室单元供给水之前，还包括：

将二氧化碳与超纯水混合。

进一步地，在所述湿空气由所述出气口输出之后，还包括：

获取所述湿空气的流量和/或湿度，并传输至控制单元；

所述控制单元根据所述湿空气的湿度增加或减少所述水供给单元的水供给量；和/或，所述控制单元根据所述湿空气的流量增加或减少所述空气供给单元的空气供给量。

进一步地，在所述湿空气由所述出气口输出之后，还包括：

监控所述湿空气的温度、洁净度和流量；

将所述湿空气进行分配；

分配后的湿空气由次级出气口输出。

进一步地，所述水供给单元包括至少一个喷嘴，所述雾化腔室单元包括至少一个多孔板，所述多孔板与所述喷嘴相对设置；所述多孔板和所述喷嘴分别与所述电场供给单元电连接；

利用所述电场供给单元向所述雾化腔室单元供电，使所述雾化腔室单元中形成电场，包括：

利用所述电场供给单元给所述多孔板和所述喷嘴供电，在所述喷嘴和所述多孔板之间形成电场。

第三方面，本发明实施例提出一种光刻装置，该光刻装置包括第一方面提供的湿空气制备装置，还包括沿光线传播方向依次排列的光源单元、图案形成单元、投影系统、浸没液、基底以及承载单元，还包括位置测量单元和浸没液限制机构；

所述位置测量单元用于通过处理光信息确定所述承载单元的位置；

所述浸没液限制机构用于限制所述浸没液，维持所述浸没液在所述投影系统的物镜视场范围内稳定；

所述湿空气制备装置用于制得湿空气，并将所述湿空气分配至所述位置测量单元以及所述浸没液限制机构。

本发明实施例提供了一种湿空气制备装置，通过设置该湿空气制备装置包括水供给单元、空气供给单元、电场供给单元和雾化腔室单元；其中，水供给单元、空气供给单元以及电场供给单元分别与雾化腔室单元连接；水供给单元用于向雾化腔室单元供给水；电场供给单元用于向雾化腔室单元供电，使雾化腔室单元中形成电场，使水电离雾化；空气供给单元用于向雾化腔室单元中供给压缩空气，压缩空气与雾化后的水在雾化腔室单元中混合，共同形成湿空气；雾化腔室单元包括出气口，出气口用于将形成的湿空气输出，输出的湿空气用于浸没式光刻装置，从而可将制备得到的超洁净湿空气输出至光刻装置，减缓光刻装置中浸没液的蒸发速率，同时增强光刻装置中位置测量单元的抗干扰性能，解决了浸没式光刻装置中由于浸没液挥发较快以及位置测量单元的抗干扰性能较差的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种湿空气制备装置的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的另一种湿空气制备装置的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图；

图5是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图；

图6是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的一种湿空气制备方法的流程示意图；

图8是本发明实施例提供的另一种湿空气制备方法的流程示意图；

图9是本发明实施例提供的又一种湿空气制备方法的流程示意图；

图10是本发明实施例提供的又一种湿空气制备方法的流程示意图；

图11是本发明实施例提供的一种光刻装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

实施例

图1是本发明实施例提供的一种湿空气制备装置的结构示意图。参照图1，该湿空气制备装置包括水供给单元11、空气供给单元12、电场供给单元13和雾化腔室单元14；其中，水供给单元11、空气供给单元12以及电场供给单元13分别与雾化腔室单元14连接；水供给单元11用于向雾化腔室单元14供给水；电场供给单元13用于向雾化腔室单元14供电，使雾化腔室单元14中形成电场，使水电离雾化；空气供给单元12用于向雾化腔室单元14中供给压缩空气，压缩空气与雾化后的水在雾化腔室单元14中混合，共同形成湿空气；雾化腔室单元14包括出气口141，出气口141用于将形成的湿空气输出，输出的湿空气用于浸没式光刻装置的用气区域。

其中，水供给单元11供给进入雾化腔室单元14中的水受到电场力作用，水中的阴阳离子在电场力的作用下使水雾化，雾化后的水与空气供给单元12供给的空气混合，形成湿空气。

示例性的，雾化腔室单元14可为三维立体结构，包括相对设置的顶面和底面以及连接顶面和底面的侧面。示例性的，与竖直方向垂直的两个面中，靠近地面的一侧为底面，远离地面的一侧为顶面。水供给单元11与雾化腔室单元14的顶面连接，水在重力和/或压力的作用下流出，从而无需设置额外的使水由水供给单元11流向雾化腔室单元14的动力装置，因此可简化水供给单元11的设置，使湿空气制备装置的整体结构较简单，整体装置的成本较低。空气供给单元12与雾化腔室单元14的侧面连接(即进气口设置在雾化腔室单元14的侧面)，出气口141也设置在雾化腔室单元14的侧面，避免将进气口与出气口设置在雾化腔室单元14的底面时，未被雾化的水或者雾化后再凝结的水流入进气口和/或出气口，从而避免水对空气的流入或者湿空气的输出造成影响。

需要说明的是，图1中仅示例性的示出了湿空气制备装置中各组成部分的连接关系，本发明实施例对上述各组成部分的具体空间形状以及各组成部分位于空间的相对位置不作限定。此外，图1中仅示例性的示出了雾化腔室单元14的进气口与出气口在其侧面相对设置，但并非对本发明实施例的限定。在其他实施方式中，进气口与出气口的相对位置可根据湿空气制备装置的需求设置，本发明对此不作限定。

示例性的，空气供给单元12可向雾化腔室单元14供给超洁净压缩空气(ExtremeClean Compressed Dry Air，XCDA)，其与雾化腔室单元14内的微小液滴充分混合后形成超洁净湿空气(Extreme Clean Humidified Air，XDHA)，从而可使输出的湿空气的洁净度较高。

其中，浸没式光刻装置中的用气区域也可称为待环境控制区域，即需要利用湿空气对该区域的环境参数进行控制，可包括浸没液所在位置以及利用光学原理进行测量的区域。即，输出的湿空气可用于浸没式光刻装置中的浸没液所在位置，从而减缓基底表面附近浸没液的蒸发速率，同时减少基底表面的沾污对浸没液的污染。此外，输出的湿空气还可用于浸没式光刻装置中利用光学原理进行测量的区域，例如位置测量单元对承载单元定位时，其测量光路所在的区域，通过湿空气增大光路上气体比热容，从而增加位置测量单元的抗干扰性能。

需要说明的是，湿空气制备装置可以集成于浸没式光刻装置中，也可以独立于浸没式光刻装置存在，本发明实施例对此不作限定。此外，该湿空气制备装置制备的湿空气除可用于浸没式光刻装置，还可用于其他需要使用湿空气的装置，本发明实施例对此不作限定。

图2是本发明实施例提供的另一种湿空气制备装置的结构示意图，图2中包括对图1中水供给单元的进一步细化。参照图2，水供给单元11可包括超纯水供给子单元111、二氧化碳供给子单元112、混合腔室子单元113和至少一个喷嘴114；其中，超纯水供给子单元111、二氧化碳供给子单元112以及至少一个喷嘴114分别与混合腔室子单元113连接；超纯水供给子单元111用于向混合腔室子单元113供给超纯水；二氧化碳供给子单元112用于向混合腔室子单元113供给二氧化碳；混合腔室子单元113用于将超纯水与二氧化碳混合；喷嘴114位于雾化腔室单元14内部，用于将混合后的超纯水喷出。

其中，超纯水中的阴阳离子的含量较少，通过将超纯水与二氧化碳混合，可提高超纯水中的离子浓度，提高超纯水的导电性，从而混合后的超纯水在较弱的电场作用下即可实现电离，进而可降低电场供给单元的供电难度。同时，超纯水中的污染物含量较低，可使形成的湿空气的洁净度较高。

示例性的，混合腔室子单元113可为三维立体结构，包括相对设置的顶面和底面以及连接顶面和底面的侧面。示例性的，与竖直方向垂直的两个面中，靠近地面的一侧为底面，远离地面的一侧为顶面。超纯水供给子单元111与混合腔室子单元113的顶面连接，雾化腔室单元14与混合腔室子单元113的底面连接，从而可使超纯水在重力的作用下进入混合腔室子单元113，混合后的超纯水在重力的作用下由混合腔室子单元113输出，因此，无需设置额外的进水和出水相关的动力装置，同样的，可简化水供给单元11的设置，使湿空气制备装置的整体结构较简单，整体装置的成本较低。

可选的，继续参照图2，图2中还包括对图1中雾化腔室单元和电场供给单元的进一步细化。雾化腔室单元14还可以包括至少一个多孔板142，多孔板142与喷嘴114相对设置；电场供给单元13可包括第一电极E1和第二电极E2；第一电极E1与喷嘴114电连接，第二电极E2与多孔板142电连接；多孔板142与喷嘴114用于在电场供给单元13供电时，在雾化腔室单元14内部形成电场。

其中，喷嘴114和多孔板142包括导电材料。多孔板142中的空隙利于空气在雾化腔室单元14中扩散，同时增大空气与水的接触面积，从而增加对空气的加湿效率，提高湿空气的湿度及产率。

示例性的，喷嘴114和多孔板142可由导电材料制成，或者其表面镀有导电材料。

需要说明的是，图2中仅示例性的示出了多孔板142的形状为半球形，但并非对本发明实施例的限定。在其他实施方式中，多孔板142的形状可根据湿空气制备装置的需求设置，例如任意曲率半径的弧形、方形或其它形状，本发明实施例对此不作限定。

图3是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图。参照图3，多孔板142可以为多个，喷嘴114可以为多个；多孔板142与喷嘴114一一相对设置。

如此设置，可提高多孔板142的整体孔隙率，从而使雾化后的水与空气的混合效率更高，进而提高湿空气的湿度及产率。

需要说明的是，图3中仅示例性的示出了两组一一相对设置的多孔板142与喷嘴114，但并非对本发明实施例的限定。在其他实施方式中，多孔板142与喷嘴114的数量和数量配置可根据湿空气制备装置的实际需求设置。

可选的，继续参照图2或图3，湿空气制备装置还可包括排废单元19；雾化腔室单元14还可包括排废口143，排废口143与排废单元19连接，排废口143用于排出雾化腔室单元14中的废液至排废单元19。

其中，雾化腔室单元14中可能存在未被雾化的水，或者被雾化的水飘散到电场较弱的区域后又重新凝结形成的大水滴。这两部分水在雾化腔室单元14中积聚，会占用一定的空间体积，导致湿空气的产率降低。通过设置排废口143和排废单元19，可将上述未被利用的水由雾化腔室单元14中排出，保证了雾化腔室单元14内部的空间面积，从而保证了湿空气的产率。

示例性的，排废单元19的工作模式可以为被动收集式或者主动抽取式，本发明实施例对此不作限定。

图4是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图。参照图4，湿空气制备装置还可包括湿空气处理单元15；湿空气处理单元15与雾化腔室单元14连接；湿空气处理单元15包括至少一个次级出气口151；湿空气处理单元15用于监控湿空气的温度、洁净度和流量，并将湿空气进行分配，次级出气口151用于将分配后的湿空气输出。

其中，浸没式光刻装置中的湿空气使用点可能为多个。如此设置，利用湿空气处理单元15可将湿空气按照各个使用点的需求进行分配。

示例性的，多个湿空气使用点可包括浸没液所在位置、承载单元测量光路以及其他光学测量单元。

需要说明的是，图4中仅示例性的示出了2个次级出气口151，但并非对本发明实施例的限定。在其他实施方式中，次级出气口151的数量可根据浸没式光刻装置中湿空气使用点的数量设置，次级出气口151的数量等于或者大于浸没式光刻装置中湿空气使用点的数量。

图5是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图，是对图4中湿空气处理单元的进一步细化。参照图5，湿空气处理单元15包括温控子单元153、污染监控子单元154和流量分配子单元155；温控子单元153用于监控湿空气的温度；污染监控子单元154用于监控湿空气的洁净度；流量分配子单元155用于将湿空气进行分配。

其中，温控子单元153可对湿空气的温度进行设置，并进行反馈调节，是输出的湿空气的温度符合使用需求，且温度稳定性较高，相对于现有的利用整套温控系统实现温度控制而言，结构简单，能耗低，温度控制精度高。

其中，污染监控子单元154可对湿空气中的污染物进行检测，若污染物检测结果超出设定指标，则对湿空气进行进一步处理，以降低污染物含量。由污染监控子单元154检测到的污染物可包括来自空气供给单元12、水供给单元11、空气传输管路、水传输管路或者雾化腔室单元14内部。当是空气重污染物含量超标，且通过污染监控子单元154无法有效降低污染物含量时，需对上述污染物可能的来源进行排查。相对于现有的利用整套污染监控系统实现污染物的监控而言，结构简单，能耗低，污染控制工序少。

其中，流量分配子单元155可包括多个质量流量控制计或者其他流量监控元件。

需要说明的是，图5中仅示例性的示出了温控子单元153相对于污染监控子单元154在前，即靠近雾化腔室单元14，但并非对本发明实施例的限定。在其他实施方式中，还可以设置污染监控子单元154相对于温控子单元153在前，而流量分配子单元155一直在后，即输出的湿空气在达到温度和污染物指标后，再由流量分配子单元155进行分配。

图6是本发明实施例提供的又一种湿空气制备装置的结构示意图。参照图6，湿空气制备装置还包括控制单元17和传感器单元16；传感器单元16与雾化腔室单元14连接，传感器单元16与控制单元17电连接，控制单元17与水供给单元11的调节端以及空气供给单元12的调节端电连接；传感器单元16用于监测湿空气的流量和/或湿度，并反馈给控制单元17；控制单元17用于根据湿空气的湿度增加或减少水供给单元11的水供给量；和/或，控制单元17用于根据湿空气的流量增加或减少空气供给单元12的空气供给量。

其中，传感器单元16、控制单元17与水供给单元11形成湿空气湿度自反馈闭环控制，实现湿空气的湿度的自反馈调节；传感器单元16、控制单元17与空气供给单元12形成湿空气流量自反馈闭环控制，实现湿空气的温度的自反馈调节。

示例性的，传感器单元16监测到的湿空气的湿度小于设定的湿度阈值时，控制单元17控制水供给单元11增加水供给量；传感器单元16监测到的湿空气的湿度大于设定的湿度阈值时，控制单元17控制水供给单元11减少水供给量；和/或，传感器单元16监测到的湿空气的流量小于设定的流量阈值时，控制单元17控制空气供给单元12增加空气供给量；传感器单元16监测到的湿空气的流量大于设定的流量阈值时，控制单元17控制空气供给单元12减少空气供给量。

示例性的，传感器单元16可包括湿度传感器和流量传感器。

示例性的，湿空气使用点可包括浸没液所在位置181、承载单元测量光路182以及其他光学测量单元183。

可选的，在上述湿空气使用点可设置传感器单元，包括温度传感器单元、湿度传感器单元、流量传感器单元以及污染物监测单元，结合湿空气处理单元15、传感器单元16以及控制单元17、实现对各使用点湿空气的定位监测及精确控制。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种湿空气制备方法，该湿空气制备方法具有上述实施方式中湿空气制备装置所具有的技术效果，未详尽说明之处可参照上述对湿空气制备装置的说明进行理解，在此不再赘述。

图7是本发明实施例提供的一种湿空气制备方法的流程示意图。该湿空气制备方法可以由本发明实施例中的湿空气制备装置执行，本发明实施例的技术方案可以应用在浸没式光刻装置的工作过程中。参照图7，该湿空气制备方法包括：

S21、利用电场供给单元向雾化腔室单元供电，使雾化腔室单元中形成电场。

其中，电场强度的设置可根据水电离的难易程度进行设置。示例性的，水难被电离时，电场强度较大；水易被电离时，电场强度可较小。

S22、利用水供给单元向雾化腔室单元供给水，水在电场中电离雾化。

示例性的，水为超纯水，以提高湿空气的洁净度。

S23、利用空气供给单元向雾化腔室单元供给压缩空气，使压缩空气与雾化后的水混合，形成湿空气。

示例性的，压缩空气为超洁净压缩空气，以提高湿空气的洁净度。

S24、湿空气由出气口输出。

S25、湿空气传输至用气区域。

其中，浸没式光刻装置中的用气区域可包括浸没液所在位置以及利用光学原理进行测量的区域。即，输出的湿空气可用于浸没式光刻装置中的浸没液所在位置，从而减缓基底表面附近浸没液的蒸发速率，同时减少基底表面的沾污对浸没液的污染。此外，输出的湿空气还可用于浸没式光刻装置中利用光学原理进行测量的区域，例如位置测量单元对承载单元定位时，其测量光路所在的区域，通过湿空气增大光路上气体比热容，从而增加位置测量单元的抗干扰性能。

需要说明的是，本发明实施例提供的湿空气制备方法中，步骤S23也可以先于步骤S21或者步骤S22执行。即供电在供给水之前，以使水可以充分电离，提高水的利用率；但是对供给压缩空气的时机不作限定。图7中示出的步骤时序中，供给压缩空气在供给水之后，即在水雾化之后再供给压缩空气，可提高压缩空气的利用率。

图8是本发明实施例提供的另一种湿空气制备方法的流程示意图。参照图8，该湿空气制备方法可包括：

S31、利用电场供给单元向雾化腔室单元供电，使雾化腔室单元中形成电场。

S32、将二氧化碳与超纯水混合。

此步骤通过将二氧化碳与超纯水混合，可提高超纯水中的离子浓度，从而提高超纯水的导电性，降低超纯水的电离难度，使超纯水更容易被电离雾化。

S33、利用水供给单元向雾化腔室单元供给水，水在电场中电离雾化。

S34、利用空气供给单元向雾化腔室单元供给压缩空气，使压缩空气与雾化后的水混合，形成湿空气。

S35、湿空气由出气口输出。

S36、湿空气传输至用气区域。

图9是本发明实施例提供的又一种湿空气制备方法的流程示意图。参照图9，该湿空气制备方法可包括：

S41、利用电场供给单元向雾化腔室单元供电，使雾化腔室单元中形成电场。

S42、利用水供给单元向雾化腔室单元供给水，水在电场中电离雾化。

S43、利用空气供给单元向雾化腔室单元供给压缩空气，使压缩空气与雾化后的水混合，形成湿空气。

S44、湿空气由出气口输出。

S45、获取湿空气的流量和/或湿度，并传输至控制单元。

S46、控制单元根据湿空气的湿度增加或减少水供给单元的水供给量；和/或，控制单元根据湿空气的流量增加或减少空气供给单元的空气供给量。

步骤S45和S46可实现湿空气的温度和流量的自反馈闭环控制，无需人工操作，简化湿空气制备的控制操作流程，节省了人力。

S47、湿空气传输至用气区域。

图10是本发明实施例提供的又一种湿空气制备方法的流程示意图。参照图10，该湿空气制备方法可包括：

S51、利用电场供给单元向雾化腔室单元供电，使雾化腔室单元中形成电场。

S52、利用水供给单元向雾化腔室单元供给水，水在电场中电离雾化。

S53、利用空气供给单元向雾化腔室单元供给压缩空气，使压缩空气与雾化后的水混合，形成湿空气。

S54、湿空气由出气口输出。

S55、监控湿空气的温度、洁净度和流量。

S56、将湿空气进行分配。

S57、分配后的湿空气由次级出气口输出。

其中，步骤55和56可实现湿空气的温度、洁净度和分配流量的自反馈闭环控制，无需人工操作，简化湿空气制备的控制操作流程，节省了人力。

本发明实施例还提供了一种光刻装置，该光刻装置包括上述实施方式提供的湿空气制备装置，因而该光刻装置具有上述湿空气制备装置所具有的技术效果，在此不再赘述。

示例性的，图11是本发明实施例提供的一种光刻装置的结构示意图。参照图11，该光刻装置还包括沿光线传播方向依次排列的光源单元2、图案形成单元3、投影系统4、浸没液5、基底7以及承载单元8，还包括位置测量单元10和浸没液限制机构6；位置测量单元10用于通过处理光信息9确定承载单元8的位置；浸没液限制机构6用于限制浸没液5，维持浸没液5在投影系统4的物镜视场范围内稳定；湿空气制备装置用于制得湿空气，并将湿空气分配至位置测量单元10以及浸没液限制机构6。

其中，湿空气制备装置输出的湿空气可用于浸没式光刻装置中的浸没液限制机构6，从而减缓基底表面附近浸没液的蒸发速率，同时减少基底表面的沾污对浸没液的污染。湿空气制备装置输出的湿空气用于浸没式光刻装置中的位置测量单元10的光信息9所在的区域，通过湿空气增大光路上气体比热容，从而增加位置测量单元的抗干扰性能。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。