阅读说明：本技术 一种等离子自动清洗装置 (Plasma self-cleaning device ) 是由 丁程 于 2019-09-29 设计创作，主要内容包括：本发明的一种等离子自动清洗装置,包括操作室,操作室内设有操作面,操作室的一端设有自动丝印机,另一端设有人工放料位,自动丝印机与人工放料位之间设有等离子清洗机,操作面上方,操作面上转动设有转动盘,转动盘上设有若干用于放置产品的承托盘,自动丝印机、人工放料位和等离子清洗机均位于转动盘的上方,操作室远离等离子自动清洗机的一侧设有收料架,收料架上设有成品收料盘,收料架旁设有用于夹起产品转移至成品收料盘的四轴机器人。该装置能够根据清洗需求控制清洗,避免一直开启等离子清洗机,节约了清洗气体和电能,并且可以避免人工触碰清洗后的产品,有利于提升产品表面的清洁度。(The invention discloses a plasma automatic cleaning device which comprises an operation chamber, wherein an operation surface is arranged in the operation chamber, an automatic screen printing machine is arranged at one end of the operation chamber, a manual discharging position is arranged at the other end of the operation chamber, a plasma cleaning machine is arranged between the automatic screen printing machine and the manual discharging position, a rotating disc is rotatably arranged above the operation surface, a plurality of bearing trays for placing products are arranged on the rotating disc, the automatic screen printing machine, the manual discharging position and the plasma cleaning machine are all positioned above the rotating disc, a material receiving frame is arranged on one side of the operation chamber, which is far away from the plasma automatic cleaning machine, a finished product receiving disc is arranged on the material receiving frame, and a four-axis robot for clamping the products to be transferred to the finished product receiving disc is arranged beside. The device can control the cleaning according to the cleaning requirement, avoids opening the plasma cleaning machine all the time, saves cleaning gas and electric energy, can avoid manual touch on the cleaned product, and is favorable for improving the cleanliness of the surface of the product.)

一种等离子自动清洗装置

技术领域

本发明涉及一种等离子自动清洗装置，属于电子元器件生产加工技术领域。

背景技术

大气等离子处理技术是一种常见的表面清洁工艺，常规使用氩气、氦气作为载气，氧气、氮气等作为反应性气体，清洗产品表面，具有去除静电、去除表面有机物、去除水分、表面活化、增加微粗糙度等功能。

常规的等离子清洗机使用时，设备一直开启，喷射等离子气体，操作人员将产品放置在等离子清洗区域，手动移动等离子清洗机，清洗完产品后，再拿走产品。此种使用方式，存在如下缺陷：一是等离子清洗机一直开启，对气体及电能的浪费比较严重；二是人工触碰清洗后产品，对产品表面的清洁度有负面影响。

发明内容

为克服现有技术的不足，本发明提出一种等离子自动清洗装置，其能够根据清洗需求控制清洗，避免一直开启等离子清洗机，节约了清洗气体和电能，并且可以避免人工触碰清洗后的产品，有利于提升产品表面的清洁度。

为实现上述目的，本发明的一种等离子自动清洗装置，包括操作室，操作室内设有操作面，操作室的一端设有自动丝印机，操作室远离自动丝印机的一端设有人工放料位，操作室内位于自动丝印机与人工放料位之间设有等离子清洗机，自动丝印机、人工放料位和等离子清洗机均位于操作面上，操作面上设有转动盘，转动盘绕其圆心转动，转动盘上设有若干用于放置产品的承托盘，等离子清洗机和自动丝印机位于转动盘的上方，操作室远离等离子自动清洗机的一侧设有收料架，收料架旁设有成品收料盘，收料架上设有用于夹起产品转移至成品收料盘的四轴机器人。

进一步地，操作室远离等离子清洗机的一端还设有支撑架，支撑架顶部和操作室的顶部均设有风淋过滤机，操作室设有人工放料位和收料架的两面为开放面，其余面为封闭面。

进一步地，收料架旁设有可移动的周转小车，周转小车上设有用于容纳成品收料盘的周转架，周转架在周转小车的高度方向上依次设置，周转小车可以移动至四轴机器人的转移范围内，周转小车在支撑架的投影范围内移动。

进一步地，承托盘上设有真空吸附条，真空吸附条在承托盘的长度方向上设有若干个。

进一步地，操作面上设有滑轨支架，滑轨支架的顶部设有一对滑动导轨，等离子清洗机沿转动盘圆周的切线方向延伸，等离子清洗机滑动连接在滑动导轨上，等离子清洗机的滑动方向垂直于其长度方向。

进一步地，收料架设置为两个，两个收料架分别设置在四轴机器人的两侧。

本发明的一种等离子自动清洗装置能够根据清洗需求控制清洗，避免一直开启等离子清洗机，节约了清洗气体和电能，并且可以避免人工触碰清洗后的产品，有利于提升产品表面的清洁度。

附图说明

下面结合附图对本发明作进一步描写和阐述。

图1是本发明首选实施方式的一种等离子自动清洗装置的俯视图；

图2是本发明首选实施方式的一种等离子自动清洗装置的斜视图；

图3是本发明首选实施方式的一种等离子自动清洗装置去除顶部结构后的斜视图。

附图标记：1、操作室；11、操作面；12、转动盘；121、承托盘；122、真空吸附条；13、自动丝印机；14、等离子清洗机；141、滑轨支架；142、滑动导轨；15、人工放料位；2、收料架；21、成品收料盘；3、四轴机器人；4、支撑架；5、风淋过滤器；6、周转小车；61、周转架。

具体实施方式

下面将结合附图、通过对本发明的优选实施方式的描述，更加清楚、完整地阐述本发明的技术方案。

如图1所示，本发明首选实施方式的一种等离子自动清洗装置，包括操作室1，操作室1内设有操作面11，操作面11上设有转动盘12，转动盘12绕其圆心转动，转动盘12上设有6个用于放置产品的承托盘121，承托盘121上设有两个用于吸附产品的真空吸附条122，真空吸附条122沿承托盘121的长度方向延伸。

操作室1的一端设有自动丝印机13，操作室1远离自动丝印机13的一端设有人工放料位15，操作室1内位于自动丝印机13与人工放料位15之间设有等离子清洗机14，等离子清洗机14和自动丝印机13位于转动盘12的上方。操作面11上设有滑轨支架141，滑轨支架141的顶部设有一对滑动导轨142，等离子清洗机14沿转动盘12圆周的切线方向延伸，等离子清洗机14滑动连接在滑动导轨142上，等离子清洗机14的滑动方向垂直于其长度方向。

操作室1远离等离子自动清洗机的一侧设有两个收料架2，收料架2上设有成品收料盘21，两个收料架2之间设有用于夹起产品转移至成品收料盘21的四轴机器人3。四轴机器人3采用YAMAHA四轴机器人3。

操作室1远离等离子清洗机14的一端还设有支撑架4，支撑架4顶部和操作室1的顶部均设有风淋过滤机，操作室1设有人工放料位15和收料架2的两面为开放面，其余面为封闭面。

收料架2旁设有可移动的周转小车6，周转小车6上设有用于容纳成品收料盘21的周转架61，周转架61在周转小车6的高度方向上依次设置，周转小车6可以移动至四轴机器人3的转移范围内，周转小车6在支撑架4的投影范围内移动。

本实施例中的自动丝印机13、等离子清洗机14和风淋过滤机均采用现有技术中的通用型号。本发明的一种等离子自动清洗装置能够根据清洗需求控制清洗，避免一直开启等离子清洗机，节约了清洗气体和电能，并且可以避免人工触碰清洗后的产品，有利于提升产品表面的清洁度。

上述具体实施方式仅仅对本发明的优选实施方式进行描述，而并非对本发明的保护范围进行限定。在不脱离本发明设计构思和精神范畴的前提下，本领域的普通技术人员根据本发明所提供的文字描述、附图对本发明的技术方案所作出的各种变形、替代和改进，均应属于本发明的保护范畴。本发明的保护范围由权利要求确定。