一种在线检测硅槽刻蚀深度的方法
阅读说明：本技术 一种在线检测硅槽刻蚀深度的方法 (Method for detecting silicon groove etching depth on line ) 是由 李冰 李营营 于 2021-08-04 设计创作，主要内容包括：本发明涉及半导体制造技术领域,提出一种在线检测硅槽刻蚀深度的方法,包括在样品晶圆和待测晶圆的掺杂区域上构造监控结构,其中所述监控结构具有参考结构和多个对照结构,所述参考结构上不具有硅槽,所述多个对照结构上分别具有多个大小一致但数量不等的硅槽；利用所述样品晶圆上的监控结构确定硅槽刻蚀深度与硅槽电阻之间的相关关系；通过在线测试利用所述待测晶圆上的监控结构测量所述待测晶圆上的硅槽电阻；以及根据所述待测晶圆上的硅槽电阻以及所述相关关系确定所述待测晶圆上的硅槽刻蚀深度。(The invention relates to the technical field of semiconductor manufacturing, and provides a method for detecting the etching depth of a silicon groove on line, which comprises the steps of constructing a monitoring structure on a sample wafer and a doped region of a wafer to be detected, wherein the monitoring structure is provided with a reference structure and a plurality of comparison structures, the reference structure is not provided with the silicon groove, and the comparison structures are respectively provided with a plurality of silicon grooves with the same size but different numbers; determining the correlation between the etching depth of the silicon groove and the resistance of the silicon groove by using the monitoring structure on the sample wafer; measuring the silicon groove resistance on the wafer to be tested by using a monitoring structure on the wafer to be tested through online testing; and determining the etching depth of the silicon groove on the wafer to be tested according to the silicon groove resistance on the wafer to be tested and the correlation.)
技术领域
本发明总的来说涉及半导体制造技术领域。具体而言，本发明涉及一种在线检测硅槽刻蚀深度的方法。
背景技术
刻蚀是半导体制造过程中的重要工艺步骤，其通过化学腐蚀或者等离子体轰击等方式，可以将图形从光刻胶转移到衬底晶圆上。对于硅槽刻蚀而言，硅槽刻蚀深度以及晶圆上不同区域的刻蚀均匀性是衡量刻蚀效果的重要参数。
现有技术中缺乏有效的在线量测手段，通常只能通过将晶圆切片，再借助扫描电子显微镜(SEM)来采集数据的方法测量硅槽刻蚀深度。然而该测量方法属于破坏性测量，在测量过程中用于切片的晶圆已被损坏，无法再作为正常的产品片进行加工，只能报废从而导致流片成本增加。并且该测量方法只能通过样品片的测量来预测同批次其它产品片，其监控作用有限，尤其在刻蚀设备状态波动的情况下存在较大的误差。另外该测量方法在制样、测量以及数据分析过程都需要通过人工操作，不仅效率低下，而且需要占用大量的人力和物力，会造成资源浪费和成本增加。
发明内容
为至少部分解决现有技术中的上述问题，本发明提出一种在线检测硅槽刻蚀深度的方法，其中通过样品晶圆和待测晶圆进行检测，所述样品晶圆和待测晶圆具有多颗芯片，所述多颗芯片上具有掺杂区域，该方法包括下列步骤：
在所述样品晶圆和待测晶圆的掺杂区域上构造监控结构，其中所述监控结构具有参考结构和多个对照结构，所述参考结构上不具有硅槽，所述多个对照结构上分别具有多个大小一致但数量不等的硅槽；
利用所述样品晶圆上的监控结构确定硅槽刻蚀深度与硅槽电阻之间的相关关系；
通过在线测试利用所述待测晶圆上的监控结构测量所述待测晶圆上的硅槽电阻；以及
根据所述待测晶圆上的硅槽电阻以及所述相关关系确定所述待测晶圆上的硅槽刻蚀深度。
在本发明一个实施例中规定，利用所述样品晶圆上的监控结构确定硅槽刻蚀深度与硅槽电阻之间的相关关系包括下列步骤：
测量所述样品晶圆上的监控结构的电阻值并且通过线性拟合确定所述样品晶圆上的硅槽电阻；
通过对所述样品晶圆切片以测量所述样品晶圆上的硅槽刻蚀深度；以及
根据所述样品晶圆上的硅槽电阻以及所述样品晶圆上的硅槽刻蚀深度确定硅槽刻蚀深度与硅槽电阻之间的相关关系。
在本发明一个实施例中规定，测量所述样品晶圆上的监控结构的电阻值并且通过线性拟合确定所述样品晶圆上的硅槽电阻包括下列步骤：
测量所述样品晶圆上的第一监控结构的第一参考结构的电阻值；
测量所述第一监控结构的多个第一对照结构的电阻值；
确定第一线性拟合参数，所述第一线性拟合参数包括：
所述第一参考结构的电阻值以及所述第一参考结构上的硅槽数量；以及
所述多个第一对照结构的电阻值以及多个第一对照结构上的硅槽数量；以及
根据所述第一线性拟合参数进行线性拟合以确定所述样品晶圆上的硅槽电阻。
在本发明一个实施例中规定：将所述样品晶圆切片，并且通过扫描电子显微镜采集数据测量所述样品晶圆上的硅槽刻蚀深度。
在本发明一个实施例中规定，所述硅槽刻蚀深度与硅槽电阻之间的相关关系包括正比关系。
在本发明一个实施例中规定：通过在线测试测量所述待测晶圆上的监控结构的电阻值并且通过线性拟合确定所述待测晶圆上的硅槽电阻，其中包括下列步骤：
通过在线测试测量所述待测晶圆上的第二监控结构的第二参考结构的电阻值；
测量所述第二监控结构的多个第二对照结构的电阻值；
确定第二线性拟合参数，所述第二线性拟合参数包括：
所述第二参考结构的电阻值以及所述第二参考结构上的硅槽数量；以及
所述多个第二对照结构的电阻值以及多个第二对照结构上的硅槽数量；以及
根据所述第二线性拟合参数进行线性拟合以确定所述待测晶圆上的硅槽电阻。
在本发明一个实施例中规定，所述在线测试包括在线晶圆验收测试。
在本发明一个实施例中规定，所述在线测试包括在线芯片探测测试。
在本发明一个实施例中规定，通过在线测试测量所述待测晶圆上多个监控结构的电阻，以计算整张所述待测晶圆上不同位置的硅槽电阻。
在本发明一个实施例中规定：将整张所述待测晶圆上不同位置的硅槽电阻代入所述相关关系中以确定整张所述待测晶圆不同位置的硅槽刻蚀深度，并且生成所述待测晶圆的硅槽刻蚀深度分布图。
本发明至少具有如下有益效果：可以通过在线测试的方式测量待测晶圆的硅槽刻蚀深度，不会对待测晶圆造成损坏。因此可以获得任意一片待测晶圆的硅槽刻蚀深度，不需要通过样品片的测量来预测同批次其它产品片的硅槽刻蚀深度。
附图说明
为进一步阐明本发明的各实施例中具有的及其它的优点和特征，将参考附图来呈现本发明的各实施例的更具体的描述。可以理解，这些附图只描绘本发明的典型实施例，因此将不被认为是对其范围的限制。在附图中，为了清楚明了，相同或相应的部件将用相同或类似的标记表示。
图1示出了本发明一个实施例中监控结构的示意图。
图2示出了本发明一个实施例中对监控结构的线性拟合参数进行线性拟合的结果示意图。
图3示出了本发明一个实施例中硅槽电阻与硅槽刻蚀深度的相关关系示意图。
图4示出了本发明一个实施例中的晶圆硅槽刻蚀深度分布图。
图5示出了本发明一个实施例中在线检测硅槽刻蚀深度的流程图。
具体实施方式
应当指出，各附图中的各组件可能为了图解说明而被夸大地示出，而不一定是比例正确的。在各附图中，给相同或功能相同的组件配备了相同的附图标记。
在本发明中，除非特别指出，“布置在…上”、“布置在…上方”以及“布置在…之上”并未排除二者之间存在中间物的情况。此外，“布置在…上或上方”仅仅表示两个部件之间的相对位置关系，而在一定情况下、如在颠倒产品方向后，也可以转换为“布置在…下或下方”，反之亦然。
在本发明中，各实施例仅仅旨在说明本发明的方案，而不应被理解为限制性的。
在本发明中，除非特别指出，量词“一个”、“一”并未排除多个元素的场景。
在本发明中，术语“硅槽电阻”是指单个硅槽导致的电阻值变化量。
在此还应当指出，在本发明的实施例中，为清楚、简单起见，可能示出了仅仅一部分部件或组件，但是本领域的普通技术人员能够理解，在本发明的教导下，可根据具体场景需要添加所需的部件或组件。另外，除非另行说明，本发明的不同实施例中的特征可以相互组合。例如，可以用第二实施例中的某特征替换第一实施例中相对应或功能相同或相似的特征，所得到的实施例同样落入本申请的公开范围或记载范围。
在此还应当指出，在本发明的范围内，“相同”、“相等”、“等于”等措辞并不意味着二者数值绝对相等，而是允许一定的合理误差，也就是说，所述措辞也涵盖了“基本上相同”、“基本上相等”、“基本上等于”。以此类推，在本发明中，表方向的术语“垂直于”、“平行于”等等同样涵盖了“基本上垂直于”、“基本上平行于”的含义。
另外，本发明的各方法的步骤的编号并未限定所述方法步骤的执行顺序。除非特别指出，各方法步骤可以以不同顺序执行。
下面结合具体实施方式参考附图进一步阐述本发明。
本发明所提出的在线检测硅槽刻蚀深度的方法的一个实施例的流程图可以如图5所示。
首先可以在晶圆(wafer)上构造监控结构。样品晶圆和待测晶圆上具有多颗芯片其中在样品晶圆和待测晶圆的每颗芯片的掺杂区域上构造监控结构。所述监控结构具有参考结构和多个对照结构，所述参考结构上不具有硅槽，所述多个对照结构上分别具有多个大小一致但数量不等的硅槽。
本发明一个实施例中的监控结构的示意图如图1a-d所示。其中在晶圆的掺杂区挖出大小一致但数量不等的硅槽，可以获得不同的掺杂区电阻。图1a-d示出了一组监控结构的示意图。图1a中示出的结构为参考结构，其中无刻蚀区。图1b中包括三条硅槽形成的刻蚀区，图1c中包括五条硅槽，图1d中包括七条硅槽。图1b-d中示出的结构为对照结构。
利用所述样品晶圆上的监控结构可以确定硅槽刻蚀深度与硅槽电阻之间的相关关系，其中可以包括下列步骤：
步骤一、测量所述样品晶圆上的监控结构的电阻值并且通过线性拟合确定所述样品晶圆上的硅槽电阻，包括下列步骤：
通过在线测试测量所述样品晶圆上的第一监控结构的第一参考结构的电阻值；
测量所述第一监控结构的多个第一对照结构的电阻值；
确定第一线性拟合参数，所述第一线性拟合参数包括：
所述第一参考结构的电阻值以及所述第一参考结构上的硅槽数量；以及
所述多个第一对照结构的电阻值以及多个第一对照结构上的硅槽数量；以及
根据所述第一线性拟合参数进行线性拟合以确定所述样品晶圆上的硅槽电阻。
以图1a-d中的监控结构为例，由于不同对照结构在掺杂区中的硅槽数量不同，其杂质总量会产生差异，杂质总量的差异将会通过测量得到的电阻值反应出来。以图1a-b中不同结构对应的电阻值与硅槽数量作为参数进行线性拟合，得到的结果如图2所示。图2中横坐标0-7分别对应图1中a-b示的硅槽数量。通过上述通过线性拟合，可以确定每个硅槽导致的电阻值变化量，也就是说可以确定硅槽电阻。
步骤二、通过对所述样品晶圆切片以测量所述样品晶圆上的硅槽刻蚀深度，其中可以将所述晶圆切片，并且借助扫描电子显微镜(SEM)来采集数据的方法来测量硅槽刻蚀深度。
以及步骤三、根据所述样品晶圆上的硅槽电阻以及所述样品晶圆上的硅槽刻蚀深度确定硅槽刻蚀深度与硅槽电阻之间的相关关系。所建立的相关关系例如可以是对应关系表或者对应关系式。在本发明一个实施例中通过上述方法测量所述样品晶圆上的多颗芯片，根据多颗芯片的测试结果可以获得的晶圆的硅槽电阻与硅槽刻蚀深度之间的相关关系的关系曲线如图3所示，其中硅槽电阻与硅槽刻蚀深度之间呈正比关系。
之后可以通过在线测试利用所述待测晶圆上的监控结构测量所述待测晶圆上的硅槽电阻。
所采用的在线测试例如可以是在线WAT测试(Wafer Acceptance Test晶圆验收测试)或者在线CP(Chip Probing芯片探测)测试。
利用所述待测晶圆上的监控结构测量所述待测晶圆上的硅槽电阻。与测量样品晶圆上的硅槽电阻的方式类似，例如可以包括下列步骤：
通过在线测试测量所述待测晶圆上的第二监控结构的第二参考结构的电阻值；
测量所述第二监控结构的多个第二对照结构的电阻值；
确定第二线性拟合参数，所述第二线性拟合参数包括：
所述第二参考结构的电阻值以及所述第二参考结构上的硅槽数量；以及
所述多个第二对照结构的电阻值以及多个第二对照结构上的硅槽数量；以及
根据所述第二线性拟合参数进行线性拟合以确定所述待测晶圆上的硅槽电阻。
上述在线测试的过程中，可以通过在线测试测量所述待测晶圆上多个监控结构的电阻，以测量整张所述待测晶圆上的硅槽电阻。
这样将整张所述待测晶圆上的硅槽电阻代入所述相关关系中就可以确定整张所述待测晶圆的硅槽刻蚀深度，并且可以生成所述待测晶圆的硅槽刻蚀深度分布图，如图4所示。
本发明所提出的在线检测硅槽刻蚀深度的方法的流程图可以如图5所示。
尽管上文描述了本发明的各实施例，但是，应该理解，它们只是作为示例来呈现的，而不作为限制。对于相关领域的技术人员显而易见的是，可以对其做出各种组合、变型和改变而不背离本发明的精神和范围。因此，此处所公开的本发明的宽度和范围不应被上述所公开的示例性实施例所限制，而应当仅根据所附权利要求书及其等同替换来定义。
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