一种超净高纯过氧化氢的生产工艺

文档序号:1826000 发布日期:2021-11-12 浏览:35次 >En<

阅读说明:本技术 一种超净高纯过氧化氢的生产工艺 (Production process of ultra-clean high-purity hydrogen peroxide ) 是由 戈士勇 何珂 汤晓春 于 2021-06-16 设计创作,主要内容包括:本发明公开了一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,涉及化工技术领域,包括以下步骤:(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过氧化氢;(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯过氧化氢;通过本发明工艺对工业过氧化氢进行处理,能够大幅度的提高工业过氧化氢的纯度,从而使得其能够更好的应用于半导体晶体片的清洗剂、腐蚀剂和光刻胶的去除剂,电子工业制取高级绝缘层、去除电镀液中无机杂质,效果显著,提高产品的质量。(The invention discloses a production process of ultra-clean high-purity hydrogen peroxide, which relates to the technical field of chemical industry and comprises the following steps: (1) carrying out oxidation treatment on the industrial hydrogen peroxide to obtain oxidation-treated hydrogen peroxide, wherein the oxidation treatment is divided into inert gas discharge and oxidant oxidation in sequence; (2) filtering the obtained oxidation-treated hydrogen peroxide by using exchange resin to obtain resin-filtered hydrogen peroxide; (3) then, performing microfiltration treatment on the resin-filtered hydrogen peroxide by using a filter membrane to obtain filtrate, namely high-purity hydrogen peroxide; the process of the invention can greatly improve the purity of the industrial hydrogen peroxide by treating the industrial hydrogen peroxide, thereby being better applied to a cleaning agent, a corrosive agent and a remover of photoresist of a semiconductor crystal wafer, preparing a high-grade insulating layer in the electronic industry, removing inorganic impurities in electroplating solution, having obvious effect and improving the quality of products.)

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺

技术领域

本发明涉及化工技术领域,更具体地说,它涉及一种超净高纯过氧化氢的生产工艺。

背景技术

过氧化氢(hydrogen peroxide)是一种无机化合物,化学式为H2O2。纯过氧化氢是淡蓝色的黏稠液体,可任意比例与水混溶,是一种强氧化剂,水溶液俗称过氧化氢,为无 色透明液体。其水溶液适用于医用伤口消毒及环境消毒和食品消毒。在一般情况下会缓慢 分解成水和氧气,但分解速度极其慢,加快其反应速度的办法是加入催化剂——二氧化锰 等或用短波射线照射。

高纯过氧化氢是电子技术微细加工制作过程中不可缺少的关键性基础化工材料之一, 主要用做半导体晶体片的清洗剂、腐蚀剂和光刻胶的去除剂,电子工业制取高级绝缘层、 去除电镀液中无机杂质,以及铜、铜合金和半导体材料及其显像管制造工序的处理等,它 的纯度对于集成电路的成品率、电性能及其可靠性都具有非常显著的影响,因此,如何提 高过氧化氢的纯度是当前所需要解决的技术问题。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种超净高纯过氧化氢的生产工艺, 其具有纯度更高的优点。

本发明提供一种超净高纯过氧化氢的生产工艺的生产工艺,其具有纯度更高的优点。

为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;

(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过 氧化氢;

(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯 过氧化氢。

进一步优选为,所述惰性气体的排出为:

将工业过氧化氢添加到反应釜中,然后向反应釜内的工业过氧化氢内部不断通入惰性 气体,持续1-2小时。

进一步优选为,所述惰性气体为氮气。

进一步优选为,所述氮气流速为80-100mL/min。

进一步优选为,所述氧化剂的氧化为:

在结束通入惰性气体后,开始通入臭氧,持续通入时间为30-35min,臭氧通入流速为20-30mL/min。

进一步优选为,所述交换树脂制备方法为:

(1)将AB-8型大孔吸附树脂添加到反应釜中,然后再添加多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸,调节温度至40-50℃,保温搅拌反应2小时,然后进行过滤,采用无水乙醇 进行清洗,干燥,再采用去离子水清洗,干燥至恒重,得到预处理树脂;

(2)将预处理树脂添加到二甲基亚砜浸泡溶胀9-11h,混合质量比为1:10,浸泡温度为55-60℃,然后再添加亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液中,调节温度至75℃,保温 搅拌反应8-10小时,然后先用去离子水清洗两次,再依次采用无水乙醇和丙酮进行清洗3 次,再进行真空干燥至恒重,即得。

进一步优选为,所述AB-8型大孔吸附树脂、多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸混合重量份比为50-60:6-10:1-2:4-6:5-8;

浓硫酸溶液质量分数为81.5%;

预处理树脂与亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液混合质量比为1:5;

所述亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液质量分数为6.8%。

进一步优选为,过滤膜制备方法为:

将聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺依次添加到反应釜中,然后搅拌30min,得到混合液:

将混合液铺盖到玻璃板表面,然后再采用刮膜机进行刮膜,在空气中静置20s后,再 浸入去离子水中进行固化成膜,即得。

进一步优选为,所述聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二 醇、N-N二甲基乙酰胺混合重量份比为:60-68:1.2-1.6:5-8:18-20:80-100。

进一步优选为,所述刮膜厚度为150微米。

综上所述,与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:

通过本发明工艺对工业过氧化氢进行处理,能够大幅度的提高工业过氧化氢的纯度, 从而使得其能够更好的应用于半导体晶体片的清洗剂、腐蚀剂和光刻胶的去除剂,电子工 业制取高级绝缘层、去除电镀液中无机杂质,效果显著,提高产品的质量。

本发明通过制备的交换树脂能够较高效率的与工业过氧化氢溶液中的金属离子进行 交换吸附,通过以范德华力和吸附质发生作用,大幅度的降低工业过氧化氢溶液内的金属 离子,避免其在进行半导体晶片等处理时对半导体晶片的杂质污染,提高产品质量。

由于过氧化氢具有强氧化性和弱酸性,因此,本发明制备的交换树脂不仅具有较强的 抗氧化性能和稳定的化学性能,同时,能够避免造成过氧化氢的大量分解。

本发明通过制备的过滤膜能够进一步的去除工业过氧化氢溶液中的杂质,提高过氧化 氢溶液的纯度。

具体实施方式

下面结合实施例,对本发明进行详细描述。

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;

(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过 氧化氢;

(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯 过氧化氢。

惰性气体的排出为:

将工业过氧化氢添加到反应釜中,然后向反应釜内的工业过氧化氢内部不断通入惰性 气体,持续1-2小时。

惰性气体为氮气。

氮气流速为80-100mL/min。

进一步优选为,所述氧化剂的氧化为:

在结束通入惰性气体后,开始通入臭氧,持续通入时间为30-35min,臭氧通入流速为20-30mL/min。

交换树脂制备方法为:

(1)将AB-8型大孔吸附树脂添加到反应釜中,然后再添加多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸,调节温度至40-50℃,保温搅拌反应2小时,然后进行过滤,采用无水乙醇 进行清洗,干燥,再采用去离子水清洗,干燥至恒重,得到预处理树脂;

(2)将预处理树脂添加到二甲基亚砜浸泡溶胀9-11h,混合质量比为1:10,浸泡温度为55-60℃,然后再添加亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液中,调节温度至75℃,保温 搅拌反应8-10小时,然后先用去离子水清洗两次,再依次采用无水乙醇和丙酮进行清洗3 次,再进行真空干燥至恒重,即得。

AB-8型大孔吸附树脂、多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸混合重量份比为 50-60:6-10:1-2:4-6:5-8;

浓硫酸溶液质量分数为81.5%;

预处理树脂与亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液混合质量比为1:5;

亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液质量分数为6.8%。

过滤膜制备方法为:

将聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺依次添加到反应釜中,然后搅拌30min,得到混合液:

将混合液铺盖到玻璃板表面,然后再采用刮膜机进行刮膜,在空气中静置20s后,再 浸入去离子水中进行固化成膜,即得。

聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺混合重量份比为:60-68:1.2-1.6:5-8:18-20:80-100。

刮膜厚度为150微米。

为了进一步说明本发明,以下为具体实施例。

实施例1:

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;

(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过 氧化氢;

(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯 过氧化氢。

惰性气体的排出为:

将工业过氧化氢添加到反应釜中,然后向反应釜内的工业过氧化氢内部不断通入惰性 气体,持续1小时。

惰性气体为氮气。

氮气流速为80mL/min。

氧化剂的氧化为:

在结束通入惰性气体后,开始通入臭氧,持续通入时间为30min,臭氧通入流速为20mL/min。

交换树脂制备方法为:

(1)将AB-8型大孔吸附树脂添加到反应釜中,然后再添加多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸,调节温度至40℃,保温搅拌反应2小时,然后进行过滤,采用无水乙醇进 行清洗,干燥,再采用去离子水清洗,干燥至恒重,得到预处理树脂;

(2)将预处理树脂添加到二甲基亚砜浸泡溶胀9h,混合质量比为1:10,浸泡温度为55℃,然后再添加亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液中,调节温度至75℃,保温搅拌 反应8小时,然后先用去离子水清洗两次,再依次采用无水乙醇和丙酮进行清洗3次,再 进行真空干燥至恒重,即得。

AB-8型大孔吸附树脂、多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸混合重量份比为 50:6:1:4:5;

浓硫酸溶液质量分数为81.5%;

预处理树脂与亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液混合质量比为1:5;

亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液质量分数为6.8%。

过滤膜制备方法为:

将聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺依次添加到反应釜中,然后搅拌30min,得到混合液:

将混合液铺盖到玻璃板表面,然后再采用刮膜机进行刮膜,在空气中静置20s后,再 浸入去离子水中进行固化成膜,即得。

聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺混合重量份比为:60:1.2:5:18:80。

刮膜厚度为150微米。

实施例2

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;

(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过 氧化氢;

(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯 过氧化氢。

惰性气体的排出为:

将工业过氧化氢添加到反应釜中,然后向反应釜内的工业过氧化氢内部不断通入惰性 气体,持续2小时。

惰性气体为氮气。

氮气流速为100mL/min。

进一步优选为,所述氧化剂的氧化为:

在结束通入惰性气体后,开始通入臭氧,持续通入时间为35min,臭氧通入流速为30mL/min。

交换树脂制备方法为:

(1)将AB-8型大孔吸附树脂添加到反应釜中,然后再添加多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸,调节温度至50℃,保温搅拌反应2小时,然后进行过滤,采用无水乙醇进 行清洗,干燥,再采用去离子水清洗,干燥至恒重,得到预处理树脂;

(2)将预处理树脂添加到二甲基亚砜浸泡溶胀11h,混合质量比为1:10,浸泡温度为60℃,然后再添加亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液中,调节温度至75℃,保温搅拌 反应10小时,然后先用去离子水清洗两次,再依次采用无水乙醇和丙酮进行清洗3次, 再进行真空干燥至恒重,即得。

AB-8型大孔吸附树脂、多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸混合重量份比为 60:10:2:6:8;

浓硫酸溶液质量分数为81.5%;

预处理树脂与亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液混合质量比为1:5;

亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液质量分数为6.8%。

过滤膜制备方法为:

将聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺依次添加到反应釜中,然后搅拌30min,得到混合液:

将混合液铺盖到玻璃板表面,然后再采用刮膜机进行刮膜,在空气中静置20s后,再 浸入去离子水中进行固化成膜,即得。

聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺混合重量份比为:68:1.6:8:20:100。

刮膜厚度为150微米。

实施例3

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;

(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过 氧化氢;

(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯 过氧化氢。

惰性气体的排出为:

将工业过氧化氢添加到反应釜中,然后向反应釜内的工业过氧化氢内部不断通入惰性 气体,持续1.5小时。

惰性气体为氮气。

氮气流速为90mL/min。

氧化剂的氧化为:

在结束通入惰性气体后,开始通入臭氧,持续通入时间为32min,臭氧通入流速为26mL/min。

交换树脂制备方法为:

(1)将AB-8型大孔吸附树脂添加到反应釜中,然后再添加多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸,调节温度至45℃,保温搅拌反应2小时,然后进行过滤,采用无水乙醇进 行清洗,干燥,再采用去离子水清洗,干燥至恒重,得到预处理树脂;

(2)将预处理树脂添加到二甲基亚砜浸泡溶胀10h,混合质量比为1:10,浸泡温度为58℃,然后再添加亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液中,调节温度至75℃,保温搅拌 反应9小时,然后先用去离子水清洗两次,再依次采用无水乙醇和丙酮进行清洗3次,再 进行真空干燥至恒重,即得。

AB-8型大孔吸附树脂、多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸混合重量份比为 55:8:1.2:4.5:7;

浓硫酸溶液质量分数为81.5%;

预处理树脂与亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液混合质量比为1:5;

亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液质量分数为6.8%。

过滤膜制备方法为:

将聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺依次添加到反应釜中,然后搅拌30min,得到混合液:

将混合液铺盖到玻璃板表面,然后再采用刮膜机进行刮膜,在空气中静置20s后,再 浸入去离子水中进行固化成膜,即得。

聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺混合重量份比为:62:1.5:6:19:90。

刮膜厚度为150微米。

实施例4:

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;

(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过 氧化氢;

(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯 过氧化氢。

惰性气体的排出为:

将工业过氧化氢添加到反应釜中,然后向反应釜内的工业过氧化氢内部不断通入惰性 气体,持续1小时。

惰性气体为氮气。

氮气流速为100mL/min。

进一步优选为,所述氧化剂的氧化为:

在结束通入惰性气体后,开始通入臭氧,持续通入时间为30min,臭氧通入流速为20mL/min。

交换树脂制备方法为:

(1)将AB-8型大孔吸附树脂添加到反应釜中,然后再添加多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸,调节温度至45℃,保温搅拌反应2小时,然后进行过滤,采用无水乙醇进 行清洗,干燥,再采用去离子水清洗,干燥至恒重,得到预处理树脂;

(2)将预处理树脂添加到二甲基亚砜浸泡溶胀10h,混合质量比为1:10,浸泡温度为60℃,然后再添加亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液中,调节温度至75℃,保温搅拌 反应8小时,然后先用去离子水清洗两次,再依次采用无水乙醇和丙酮进行清洗3次,再 进行真空干燥至恒重,即得。

AB-8型大孔吸附树脂、多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸混合重量份比为 60:6:1:5:6;

浓硫酸溶液质量分数为81.5%;

预处理树脂与亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液混合质量比为1:5;

亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液质量分数为6.8%。

过滤膜制备方法为:

将聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺依次添加到反应釜中,然后搅拌30min,得到混合液:

将混合液铺盖到玻璃板表面,然后再采用刮膜机进行刮膜,在空气中静置20s后,再 浸入去离子水中进行固化成膜,即得。

聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺混合重量份比为:60:1.6:8:18:90。

刮膜厚度为150微米。

实施例5

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺,包括以下步骤:

(1)将工业过氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化剂的氧化;

(2)将上述得到的氧化处理过氧化氢采用交换树脂进行过滤处理,得到树脂过滤过 氧化氢;

(3)再将树脂过滤过氧化氢采用过滤膜进行微过滤处理,过滤得到的滤液即为高纯 过氧化氢。

惰性气体的排出为:

将工业过氧化氢添加到反应釜中,然后向反应釜内的工业过氧化氢内部不断通入惰性 气体,持续2小时。

惰性气体为氮气。

氮气流速为90mL/min。

进一步优选为,所述氧化剂的氧化为:

在结束通入惰性气体后,开始通入臭氧,持续通入时间为35min,臭氧通入流速为28mL/min。

交换树脂制备方法为:

(1)将AB-8型大孔吸附树脂添加到反应釜中,然后再添加多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸,调节温度至45℃,保温搅拌反应2小时,然后进行过滤,采用无水乙醇进 行清洗,干燥,再采用去离子水清洗,干燥至恒重,得到预处理树脂;

(2)将预处理树脂添加到二甲基亚砜浸泡溶胀10h,混合质量比为1:10,浸泡温度为58℃,然后再添加亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液中,调节温度至75℃,保温搅拌 反应9小时,然后先用去离子水清洗两次,再依次采用无水乙醇和丙酮进行清洗3次,再 进行真空干燥至恒重,即得。

AB-8型大孔吸附树脂、多聚甲醛、氯化钛、浓硫酸、冰醋酸混合重量份比为 55:7:1.5:4.5:6;

浓硫酸溶液质量分数为81.5%;

预处理树脂与亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液混合质量比为1:5;

亚胺基二乙酸和苯磺酸混合水溶液质量分数为6.8%。

过滤膜制备方法为:

将聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺依次添加到反应釜中,然后搅拌30min,得到混合液:

将混合液铺盖到玻璃板表面,然后再采用刮膜机进行刮膜,在空气中静置20s后,再 浸入去离子水中进行固化成膜,即得。

聚间苯二甲酰间苯二胺纤维、氯化锂、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇、N-N二甲基乙酰胺混合重量份比为:62:1.5:6:17:95。

刮膜厚度为150微米。

对比例1:

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺的生产工艺,与实施例1的不同之处在于,不进行 氧化处理。

对比例2:

一种超净高纯过氧化氢的生产工艺的生产工艺,与实施例1的不同之处在于,不采用 交换树脂进行过滤处理。

对比例3:一种超净高纯过氧化氢的生产工艺的生产工艺,与实施例1的不同之处在 于,不进行微过滤处理。

试验

工业过氧化氢总有机碳质量分数ρ(TOC)为50.21mg/L,质量分数为90%,进行试验;

表1

ρ(TOC)mg/L
实施例1 4.05
实施例2 3.98
实施例3 4.01
实施例4 3.82
实施例5 3.87
对比例1 10.79
对比例2 4.53
对比例3 7.85

由表1可以看出,本发明方法生产得到的高纯过氧化氢经过本发明工艺处理后,纯度 大幅度提高,尤其是工业过氧化氢中的有机碳质量分数大幅度降低,本发明通过将工业过 氧化氢进行氧化处理,得到氧化处理过氧化氢,氧化处理依次分为惰性气体的排出和氧化 剂的氧化,先通过氮气的排出处理,能够排出空气,再采用臭氧进行氧化处理,对工业过氧化氢中的有机物进行氧化,从而使得氧化后的有机物能够更容易的被过滤膜过滤掉,大幅度的提高了过氧化氢的纯度。

对实施例与对比例工艺处理后的过氧化氢中的金属离子进行检测:

表2

ρ(Sn)mg/L ρ(Ni)mg/L ρ(PO4<sup>3–</sup>)mg/L
处理前 25 17 14
实施例1 ≤0.02 ≤1.8 ≤2
实施例2 ≤0.02 ≤1.8 ≤2
实施例3 ≤0.02 ≤1.8 ≤2
实施例4 ≤0.02 ≤1.8 ≤2
实施例5 ≤0.02 ≤1.8 ≤2
对比例1 ≤0.03 ≤1.9 ≤2.2
对比例2 ≤0.38 ≤3.5 ≤4.3
对比例3 ≤0.14 ≤2.4 ≤2.8

由表2可以看出,本发明工艺处理得到的高纯过氧化氢中金属离子去除率大幅度增加, 能够更高的去除掉工业过氧化氢中的金属离子,本发明通过采用制备的交换树脂进行过滤 处理,制备的交换树脂离子交换性能相较于常规树脂大幅度增加,能够更高效率的与工业 过氧化氢进行离子交换,从而能够更高效率的剔除工业过氧化氢中含有的金属离子,大幅 度的提高了过氧化氢的纯度。

本具体实施方式的实施例均为本发明的较佳实施例,并非依此限制本发明的保护范围, 故:凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本发明的保护范围之内。

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