具体实施方式

以下是通过特定的具体实施例来说明本发明所公开有关“转印式滚轮的修复方法及转印式滚轮”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本发明的优点与效果。本发明可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本发明的构思下进行各种修改与变更。另外，本发明的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘，事先声明。以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本发明的保护范围。

应当可以理解的是，虽然本文中可能会使用到“第一”、“第二”、“第三”等术语来描述各种组件或者信号，但这些组件或者信号不应受这些术语的限制。这些术语主要是用以区分一组件与另一组件，或者一信号与另一信号。另外，本文中所使用的术语“或”，应视实际情况可能包括相关联的列出项目中的任一个或者多个的组合。

[转印式滚轮的修复设备及修复组]

请参阅图1至图3所示，图1为本发明的实施例的转印式滚轮的示意图，图2为本发明的实施例的修复组的示意图，图3为本发明的实施例的转印式滚轮的修复设备的方块示意图。

本实施例提供一种转印式滚轮的修复设备1，其用来修复一转印式滚轮2外缘(也就是，所述转印式滚轮2的一轮本体21的外表面)的一纹路图案层22所产生的呈凹入状的一缺陷区域221。所述转印式滚轮的修复设备1包括一转印式滚轮的修复组11(以下简称修复组11)、对应于所述修复组11设置的一对位机构12、电性耦接于所述修复组11的一加热器13及连接于所述修复组11的一位移机构14。

请参阅图4及图5所示，图4为图1中区域IV的放大示意图，图5为图1中区域V的放大示意图。事先说明的是，在使用所述转印式滚轮2生产成品时，通过所述纹路图案层22的压印，而使得于所述成品表面上具有对应于所述纹路图案层22的图案。由于所述缺陷区域221呈凹入状，因此所述缺陷区域221会对应使得成品表面上仅有部分图案或甚至没有图案。相对地，所述转印式滚轮2的所述纹路图案层22可以定义有一正常区域222，并且于所述正常区域222中没有如所述缺陷区域221的凹陷存在。此外，于此所指的所述转印式滚轮2是尚未被修复的。

在经本实施例提供的所述转印式滚轮的修复设备1或修复组11对所述缺陷区域进行修补后，再以修复后的转印式滚轮2生产成品，上述成品表面上仅有部分图案或甚至没有图案的问题能被改善。在本实施例中，所述缺陷区域221的尺寸(也就是，所述缺陷区域221于其径向方向的长度)为不小于10微米，但本发明不受限于此。

所述修复组11包括一修复模具111及一挡止框架112，并且所述挡止框架112设置于所述修复模具111的周围。需要说明的是，在本实施例中，所述修复模具111及所述挡止框架112共同定义为所述修复组11，但本发明不受限于此。所述转印式滚轮的修复设备1的所述修复组11能用以修复呈凹入状的所述缺陷区域221。此外，本实施例虽是以所述修复组11及搭配于所述对位机构12来说明，但本发明不受限于此。举例来说，在本发明未绘示的其他实施例中，所述修复组也可以是单独地被运用(如：售卖)或搭配其他构件使用。

所述修复组11的所述修复模具111形成有一构形面1111，并且所述构形面1111的外形与所述纹路图案层22的局部互补。在本实施例中，所述构形面1111为一正弦波形表面，并且所述正弦波形表面的任两个相邻的波峰之间相隔有介于0.9微米(μm)至1.1微米的一间隔D1，但本发明不受限于此。

也就是说，当所述构形面1111为所述正弦波形表面时，所述正弦波形表面的一波长介于0.9微米至1.1微米之间，并且优选地，所述正弦波形表面的任两个相邻的波峰之间的所述间隔D1(或所述波长)为1微米，但本发明不受限于此。需要说明的是，所述构形面1111的外形可以根据需求变化，不限制为所述正弦波形表面。

在本实施例中，所述修复模具111的所述构形面1111为所述正弦波形表面，并且所述纹路图案层22对应为同样的所述正弦波形表面。因此，所述修复模具111能以所述正弦波形表面对为同样的所述正弦波形表面的所述纹路图案层22进行修复。此外，在本实施例中，所述修复模具111可以是由聚四氟乙烯所构成，并且所述修复模具111的耐热温度可达300℃以上，但本发明不受限于此。

所述挡止框架112设置于所述修复模具111的周围，并且所述挡止框架112的前缘1121突伸出所述构形面1111。在本实施例中，所述挡止框架112的所述前缘1121突伸出所述构形面1111的一距离，其不大于所述正弦波形表面的两倍振幅。

所述对位机构12能用以使所述修复模具111的所述构形面1111能对准于所述转印式滚轮2的所述缺陷区域221。具体而言，由于在所述对位机构12被用以对所述纹路图案层22进行检测时，所述正常区域222呈现的色阶与所述缺陷区域221呈现的色阶不同，因此，所述对位机构12能检测出所述纹路图案层22所产生的所述缺陷区域221，进而使所述修复模具111的所述构形面1111能对准于所述缺陷区域221。

举例来说，所述对位机构12可以为一电荷耦合组件(Charge Coupled Device,CCD)，所述色阶可以为灰色色阶或彩色色阶，但本发明不受限于此。简言之，所述对位机构12能通过自动光学检测(Automated Optical Inspection,AOI)技术以快速检测出所述缺陷区域221，以使所述修复模具111的所述构形面1111能对准于所述缺陷区域221。需要说明的是，在本实施例中，所述对位机构12主要用以使所述修复模具111的所述构形面1111能对准于所述转印式滚轮2的所述缺陷区域221，而检测所述缺陷区域221于所述转印式滚轮2上的位置则不限制为通过所述对位机构12。

所述加热器13电性耦接于所述修复组11的所述修复模具111，并且所述加热器13能用来加热所述修复模具111至300℃以下。若所述加热器13将所述修复模具111加热至超过300℃，则不利于所述修复组11修复所述缺陷区域221。

所述位移机构14连接于所述修复组11的所述修复模具111与所述挡止框架112中的至少一者，并且所述位移机构14能用来移动所述修复模具111与所述挡止框架112。详细来说，所述位移机构14可以为一机械手臂，所述机械手臂的一端可以夹持所述修复模具111与所述挡止框架112中的至少一者，并且所述机械手臂的另一端可以连接于所述对位机构12，但本发明不受限于此。因此，在所述对位机构12检测出所述缺陷区域221后，所述位移机构14(或所述机械手臂)能将所述修复组11移动至对应于所述缺陷区域221的位置，以使所述修复组11能对所述缺陷区域221进行修复。

[转印式滚轮的修复方法]

请参阅图6至图10所示，图6为本发明的实施例的转印式滚轮的修复方法的前置步骤的示意图，图7为本发明的实施例的转印式滚轮的修复方法的置料步骤的示意图，图8为本发明的实施例的转印式滚轮的修复方法的成形步骤的示意图，图9为本发明的实施例的转印式滚轮的修复方法的成形步骤的示意图，图10为本发明的实施例的转印式滚轮的修复方法的分离步骤的示意图。

本实施例还公开有一种转印式滚轮的修复方法。所述转印式滚轮的修复方法包括一前置步骤、一置料步骤及一成形步骤。然而，本实施例的转印式滚轮的修复设备1及修复组11可以是由上述修复方法所实施，但本发明不受限于此。再者，本发明于实现上述转印式滚轮的修复方法时，不以上述各个步骤的内容以及顺序为限。

在所述前置步骤中，提供一转印式滚轮2与一修复模具111；其中，所述转印式滚轮2的外缘形成有一纹路图案层22，并且所述纹路图案层22具有凹入状的一缺陷区域221；所述修复模具111形成有一构形面1111，其外形能与所述纹路图案层22的局部互补。

在所述置料步骤中，在所述缺陷区域221设置有一修复材料3，其能用来与所述纹路图案层22产生共晶反应。

在本实施例的所述修复材料3与所述纹路图案层22所产生的所述共晶反应中，生成一界面金属共化物(intermetallic compound，IMC)。此外，所述纹路图案层22的材质可以包含镍金属，而所述修复材料3的材质可以包含锡金属，并且所述接口金属共化物可以为一锡镍介金属(Ni₃Sn₄)，但本发明不受限于此。

在所述成形步骤中，加热所述转印式滚轮2以软化所述修复材料3，并将所述修复模具111的所述构形面1111压迫于所述修复材料3以使所述修复材料3在所述缺陷区域221形成补齐所述纹路图案层22的一修补构造23。

在本实施例的所述成形步骤中，加热所述转印式滚轮2的温度不大于260℃，并且所述修复材料3与所述纹路图案层22通过所述转印式滚轮2的加热而产生所述共晶反应。所述修补构造23的外缘与所述纹路图案层22的外缘彼此切齐且共同形成一规则性图案24。所述规则性图案24为一正弦波形表面，并且所述正弦波形表面的任两个相邻的波峰之间相隔有介于0.9微米(μm)至1.1微米的一间隔D1。

此外，本实施例的转印式滚轮的修复方法，在所述成形步骤后还可以包含一分离步骤。在所述分离步骤中，将所述转印式滚轮2a与所述修复模具111的所述构形面1111分离。需要说明的是，于此的所述转印式滚轮2a是已经过修复的。由于本实施例中的所述修复模具111由聚四氟乙烯所构成，因此所述转印式滚轮2与所述修复模具111能顺利地分离。

[转印式滚轮]

请参阅图11及图12所示，图11为本发明的实施例的转印式滚轮的示意图，图12为图11中区域XII的放大示意图。本实施例还公开有一种转印式滚轮2a，所述转印式滚轮2a可以是通过以转印式滚轮的修复设备1或修复组11实施所述转印式滚轮的修复方法而得，但本发明不受限于此。

所述转印式滚轮2a包含有呈圆柱状的一轮本体21、形成于所述轮本体21的外表面的所述纹路图案层22及填充于所述纹路图案层22的所述修补构造23。所述纹路图案层22具有凹入状的所述缺陷区域221(如图5所示)。所述修补构造23填充于所述缺陷区域221且无间隙地连接所述纹路图案层22，并且所述修补构造23的外缘与所述纹路图案层22的外缘彼此切齐且共同形成所述规则性图案24。

在本实施例中，所述纹路图案层22的材质包含镍金属，而所述修补构造23的材质包含所述锡镍介金属(Ni₃Sn₄)，也就是说，所述修补构造23的材质不同于所述纹路图案层22的材质。此外，在本实施例中，所述规则性图案24为一正弦波形表面，并且所述正弦波形表面的任两个相邻的波峰之间相隔有介于0.9微米(μm)至1.1微米的所述间隔D1。

[本发明实施例的有益效果]

本发明的其中一有益效果在于，本发明所提供的转印式滚轮的修复方法及转印式滚轮，其能通过“在所述缺陷区域设置有一修复材料，该修复材料能用来与所述纹路图案层产生共晶反应”以及“加热所述转印式滚轮以软化所述修复材料，并将所述修复模具的所述构形面压迫于所述修复材料以使所述修复材料在所述缺陷区域形成补齐所述纹路图案层的一修补构造”的技术方案，以使得所述转印式滚轮的修复方法能在不需更换整个现有的转印式滚轮的情况下，对现有的转印式滚轮的表面进行修复。

以上所公开的内容仅为本发明的优选可行实施例，并非因此局限本发明的专利范围，所以凡是运用本发明说明书及图式内容所做的等效技术变化，均包含于本发明的专利范围内。