一种哑光玻璃瓷及其制备方法
阅读说明：本技术 一种哑光玻璃瓷及其制备方法 (Matte glass ceramic and preparation method thereof ) 是由 李伟达 于 2021-09-09 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种哑光玻璃瓷及其制备方法,在所述玻璃瓷的坯体表面喷涂无光透明釉料,所述无光透明釉料包括以下按重量百分比的原料：石英砂50～60％、方解石5～10％、纯碱15～25％、氧化铝1～3％和白云石粉15～20％。本发明的哑光玻璃瓷是在坯体表面喷涂无光透明釉料,该釉料在熔融状态呈现无光泽的同时保持透明,本发明无需采用酸洗工艺即可实现玻璃瓷制品表面无光的目的,而且不影响制品本身的颜色和质感。该哑光玻璃瓷的制备方法步骤简单,釉料熔融温度范围与玻璃瓷制品的烧成温度相适应,不损害加工坯体表面的结构,而且还能使玻璃瓷表面防污。(The invention discloses a matte glass porcelain and a preparation method thereof, wherein a matte transparent glaze is sprayed on the surface of a blank body of the glass porcelain, and the matte transparent glaze comprises the following raw materials in percentage by weight: 50-60% of quartz sand, 5-10% of calcite, 15-25% of soda ash, 1-3% of alumina and 15-20% of dolomite powder. The matte glass porcelain is prepared by spraying a matte transparent glaze material on the surface of a blank, wherein the glaze material is matte in a molten state and keeps transparent. The preparation method of the matte glass porcelain has simple steps, the melting temperature range of the glaze is adapted to the firing temperature of the glass porcelain product, the structure of the surface of a processed blank body is not damaged, and the surface of the glass porcelain can be prevented from fouling.)
技术领域
本发明涉及釉料技术领域，具体涉及一种哑光玻璃瓷及其制备方法。
背景技术
近年来市场上大量流行的＂玻璃瓷”马赛克产品，由于材料成分的玻璃质特性，导致玻璃瓷制品表面光泽始终达不到＂纯哑光＂(无光)的效果；
大多数厂家为了迎合客户对产品表面纯哑光的要求，一般都是采用＂酸洗法＂处理玻璃瓷表面，即：将制品中的高亮度产品，浸泡于酸溶液中进行酸洗，把表面的结构腐蚀掉。酸洗工艺具有环保、防污不过关、成本高的缺点。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种玻璃瓷，玻璃瓷坯体的表面喷涂有无光透明釉料形成无光透明层，实现了完全无光的观感同时保持了制品本身的颜色和质感不受影响。本发明的目的之二在于提供一种玻璃瓷的制备方法，在坯体表面喷涂有无光透明釉料，该釉料的熔融温度范围与要加工处理的玻璃瓷制品烧成温度相适应。
本发明的目的之一采用如下技术方案实现：
一种哑光玻璃瓷，在所述玻璃瓷的坯体表面喷涂无光透明釉料，所述无光透明釉料，包括以下按重量百分比的原料：石英砂50～60％、方解石5～10％、纯碱15～25％、氧化铝1～3％和白云石粉15～20％。
进一步，所述无光透明釉料包括以下按重量百分比的原料：石英砂50～55％、方解石5～8％、纯碱20～25％、氧化铝2～3％和白云石粉15～20％。
再进一步，所述无光透明釉料包括以下按重量百分比的原料：石英砂52％、方解石8％、纯碱21％、氧化铝3％和白云石粉16％。
进一步，所述无光透明釉料包括以下按重量百分比的原料：石英砂55％、方解石5％、纯碱23％、氧化铝2％和白云石粉15％。
再进一步，所述无光透明釉料包括以下按重量百分比的原料：石英砂58％、方解石10％、纯碱15％、氧化铝2％和白云石粉15％。
进一步，所述无光透明釉料包括以下按重量百分比的原料：石英砂50％、方解石10％、纯碱19％、氧化铝1％和白云石粉20％。
再进一步，所述无光透明釉料的制备方法，包括以下步骤：将配方量的石英砂、方解石、纯碱、氧化铝和白云石粉进行球磨，再熔制，得到无光透明釉料。其中，球磨的工艺参数为原料：球：水的质量比为1：2：0.4～0.5，熔制温度为980～1000℃。
进一步，所述无光透明釉料的制备方法熔制温度为980～1000℃。
本发明的目的之二采用如下技术方案实现：
上述的哑光玻璃瓷的制备方法，包括以下步骤：将所述无光透明釉料喷涂在坯体表面，经过烧成后，在坯体表面形成无光透明层；其中，烧成温度为980～1000℃。
相比现有技术，本发明的有益效果在于：
(1)本发明的哑光玻璃瓷是在坯体表面喷涂无光透明釉料，该釉料在熔融状态呈现无光泽的同时保持透明，本发明无需采用酸洗工艺即可实现玻璃瓷制品表面无光的目的，而且不影响制品本身的颜色和质感。
(2)本发明的哑光玻璃瓷所用的无光透明釉料，是由先将配方量的石英砂、方解石、纯碱、氧化铝和白云石粉混合后，再进行球磨，然后进行熔制得到的。制备方法步骤简单，而且釉料的熔融温度范围与玻璃瓷制品的烧成温度相适应，不损害加工坯体表面的结构。
(3)本发明的哑光玻璃瓷的制备方法是：在得到坯体后，在坯体表面喷涂无光透明釉料，再和坯体一起进行高温烧制，得到玻璃瓷，烧制的温度与釉料熔融温度保持一致，以达到玻璃瓷表面被透明而又无光的玻璃质覆盖，从而实现玻璃瓷制品表面无光的目的，而且还能使玻璃瓷表面防污。
附图说明
图1为实施例1的玻璃瓷产品示意图；
图2为对比例1的玻璃瓷产品示意图。
具体实施方式
下面，结合附图以及具体实施方式，对本发明做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
实施例1
一种哑光玻璃瓷的制备方法，包括以下步骤：制成坯体后，将无光透明釉料在坯体上喷涂一层，在980℃下烧制1h，得到如图1所示的玻璃瓷产品。
无光透明釉料，包括以下按重量百分比的原料：石英砂52％、方解石8％、纯碱21％、氧化铝3％和白云石粉16％。
上述釉料的制备方法，包括以下步骤：上述的无光透明釉料的制备方法，包括以下步骤：将配方量的石英砂、方解石、纯碱、氧化铝和白云石粉进行球磨，再熔制，得到无光透明釉浆。其中，球磨的工艺参数为原料：球：水的质量比为1：2：0.4，熔制温度为980℃。
实施例2
一种哑光玻璃瓷的制备方法，包括以下步骤：制成坯体后，将无光透明釉料在坯体上喷涂一层，在1000℃下烧制1.5h，得到哑光玻璃瓷产品。
所述无光透明釉料，包括以下按重量百分比的原料：石英砂55％、方解石5％、纯碱23％、氧化铝2％和白云石粉15％。
上述釉料的制备方法，包括以下步骤：上述的无光透明釉料的制备方法，包括以下步骤：将配方量的石英砂、方解石、纯碱、氧化铝和白云石粉进行球磨，再熔制，得到无光透明釉浆。其中，球磨的工艺参数为原料：球：水的质量比为1：2：0.5，熔制温度为1000℃。
实施例3
一种哑光玻璃瓷的制备方法，包括以下步骤：制成坯体后，将无光透明釉料在坯体上喷涂一层，在990℃下烧制1h，得到哑光玻璃瓷产品。
所述无光透明釉料，包括以下按重量百分比的原料：石英砂58％、方解石10％、纯碱15％、氧化铝2％和白云石粉15％。
上述釉料的制备方法，包括以下步骤：上述的无光透明釉料的制备方法，包括以下步骤：将配方量的石英砂、方解石、纯碱、氧化铝和白云石粉进行球磨，再熔制，得到无光透明釉浆。其中，球磨的工艺参数为原料：球：水的质量比为1：2：0.4，熔制温度为990℃。
实施例4
一种玻璃瓷的制备方法，包括以下步骤：制成坯体后，将无光透明釉料在坯体上喷涂一层，在1000℃下烧制1h，得到哑光玻璃瓷产品。
所述无光透明釉料，包括以下按重量百分比的原料：石英砂50％、方解石10％、纯碱19％、氧化铝1％和白云石粉20％。
上述釉料的制备方法，包括以下步骤：上述的无光透明釉料的制备方法，包括以下步骤：将配方量的石英砂、方解石、纯碱、氧化铝和白云石粉进行球磨，再熔制，得到无光透明釉浆。其中，球磨的工艺参数为原料：球：水的质量比为1：2：0.4，熔制温度为1000℃。
对比例1
对比例1与实施例1的不同之处在于：对比例1的坯体没有经过喷釉。其中，坯体的成分和烧制温度均与实施例1相同。
由图1～2可知，实施例1的玻璃瓷由于喷涂了无光透明釉料，所以表面呈现无光的状态，而且由于该釉料是透明的，所以不会影响坯体的颜色。而对比例1的玻璃瓷没有经过施釉操作，其玻璃瓷表面呈现的是亮光状态，所以本发明创新性地在玻璃瓷坯体表面喷釉即可达到哑光的效果，能替代现有的酸洗工艺，使得玻璃瓷表面能呈现哑光状态，还能达到防污的效果。
上述实施方式仅为本发明的优选实施方式，不能以此来限定本发明保护的范围，本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。
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