发明内容

针对现有技术的不足之处本发明提供一种传感器自动化套涂设备，同时提供使用该设备的套涂方法，本发明的传感器自动化套涂设备采用套涂平衡流转平台实现在套涂工艺封闭仓内部的第一平衡仓位、套涂仓位和第二平衡仓位之间的流转，采用上料平台和下料平台实现上下料，采用载具夹取升降机构能够实现在套涂工艺封闭仓内各平台之间进行切换，采用载具套涂移动机构能够保证套涂工艺的实现，采用膜圈浸涂升降机构能够实现膜圈膜液的补充，通过各个机构之间的共同协作，能够保证传感器探针套涂工艺有序进行；此外，各机构之间按一定的方法步骤顺序工作，能够保证套涂和平衡工艺稳步进行，确保套涂涂膜的质量并提高工作效率。

本发明的具体技术方案如下，一种传感器自动化套涂设备，包括：

套涂工艺封闭仓，所述套涂工艺封闭仓包括位于中间的套涂仓位以及分别位于所述套涂仓位两侧的第一平衡仓位和第二平衡仓位，所述套涂仓位内设有套涂膜圈和膜液槽；

输送平台，所述输送平台包括水平设置平板状的套涂平衡流转平台、上料平台和下料平台；

驱动滑台，所述驱动滑台包括套涂平衡驱动滑台、上料滑台和下料滑台，所述套涂平衡驱动滑台、所述上料滑台和所述下料滑台分别和所述套涂平衡流转平台、所述上料平台和所述下料平台底部连接驱动其平移输送；

载具夹取升降机构，所述载具夹取升降机构设有三组，分别安装于所述套涂仓位、所述第一平衡仓位和所述第二平衡仓位上方，用于对传感器载具夹取并升降移动；

载具套涂移动机构，所述载具套涂移动机构安装于所述套涂仓位侧面，用于对传感器载具进行横向移动；

膜圈浸涂升降机构，所述膜圈浸涂升降机构安装于所述套涂仓位与所述膜液槽正对的上方，用于对所述套涂膜圈进行升降移动，使所述套涂膜圈下降浸入所述膜液槽蘸取膜液后再上升用于涂膜。

由此，套涂工艺过程中，传感器需要在所述套涂工艺封闭仓前后侧上下料，并且需要在所述第一平衡仓位、所述套涂仓位和所述第二平衡仓位之间流转，采用所述套涂平衡流转平台能够实现在所述套涂工艺封闭仓内部的流转，采用所述上料平台和所述下料平台能够实现上下料，采用所述载具夹取升降机构能够实现在所述套涂工艺封闭仓内各平台之间进行切换，采用所述载具套涂移动机构能够保证套涂工艺的实现，采用所述膜圈浸涂升降机构能够实现膜圈膜液的补充；通过各个机构之间的共同协作，能够保证传感器探针套涂工艺有序进行。

作为本发明的优选，所述套涂工艺封闭仓还包括位于所述套涂仓位、所述第一平衡仓位和所述第二平衡仓位之间并将三个仓位分隔的隔板；所述套涂工艺封闭仓还包括位于所述第一平衡仓位和所述第二平衡仓位侧面的侧板，所述侧板上设有腔体开关门。

由此，所述隔板能够保证所述套涂仓位、所述第一平衡仓位和所述第二平衡仓位内的工艺相互独立，保证工艺的稳定性；通过所述腔体开关门能够保证所述上料平台和所述下料平台能够穿过实现上下料，并且在完成上下料之后保证所述套涂工艺封闭仓处于封闭状态，减小外界环境对工艺产生影响。

作为本发明的优选，所述腔体开关门上方连接驱动气缸，所述驱动气缸活塞杆能够沿竖直方向驱动，使所述腔体开关门具备位于上方的开启状态和位于下方的关闭状态，且仅在所述上料平台和所述下料平台上下料平移过程中处于开启状态。

由此，所述腔体开关门通过所述驱动气缸控制，结构简单，并且利于自动化控制。

作为本发明的优选，所述套涂平衡流转平台和所述上料平台在竖直方向上错开，所述套涂平衡流转平台和所述下料平台在竖直方向上错开；所述隔板具备使所述套涂平衡流转平台穿过的开孔，所述套涂平衡流转平台具备跨两个仓位的长度。

由此，所述套涂平衡流转平台能够分别和所述上料平台以及所述下料平台在竖直方向上存在部分重合，并且互不干涉，从而方便传感器的输送；所述套涂平衡流转平台位于所述套涂仓位部分能够移动至所述第二平衡仓位，位于所述第一平衡仓位部分能够移动至所述套涂仓位，实现传感器在所述第一平衡仓位、所述套涂仓位和所述第二平衡仓位之间的传输。

作为本发明的优选，所述套涂平衡流转平台位于所述第一平衡仓位一侧且所述上料平台移动至所述第一平衡仓位时，所述上料平台位于所述套涂平衡流转平台正上方；所述套涂平衡流转平台位于所述第二平衡仓位一侧且所述下料平台移动至所述第二平衡仓位时，所述下料平台位于所述套涂平衡流转平台正上方。

由此，所述上料平台位于所述套涂平衡流转平台正上方时，传感器能够通过夹爪等装置从所述上料平台输送到所述套涂平衡流转平台上；所述下料平台位于所述套涂平衡流转平台正上方时，传感器能够通过夹爪等装置从所述套涂平衡流转平台输送到所述下料平台上。

作为本发明的优选，所述套涂平衡驱动滑台通过驱动杆伸入所述套涂工艺封闭仓内和所述套涂平衡流转平台连接进行驱动；所述隔板和所述侧板开设有供所述驱动杆穿过的穿孔，所述驱动杆和所述穿孔之间间隙配合且通过密封件密封。

由此，所述涂平衡驱动滑台始终在所述套涂工艺封闭仓内移动，能够减小外界环境对工艺产生影响；所述套涂平衡流转平台的移动不影响所述套涂工艺封闭仓的密封性。

作为本发明的优选，所述载具夹取升降机构包括载具夹紧机构和载具升降机构；所述载具夹紧机构包括对载具夹紧的夹爪以及驱动所述夹爪夹紧的夹紧驱动气缸。

由此，所述夹爪专门针对传感器载具进行设计，保证所述夹爪对传感器载具夹取和摆放稳定，通过所述夹紧驱动气缸驱动，结构简单可靠；所述载具升降机构一般采用电动推杆，以保证传感器载具的位移精度。

作为本发明的优选，所述载具套涂移动机构包括套涂定位平台和套涂移动机构，所述套涂定位平台在所述套涂移动机构的作用下能够在水平方向横向移动。

由此，所述套涂定位平台上设有对传感器载具进行定位的凸起，保证传感器载具放置到所述套涂定位平台上时定位准确；所述套涂移动机构一般采用电动推杆，以保证传感器载具的位移精度。

作为本发明的优选，所述膜圈浸涂升降机构包括膜圈定位座和膜圈定位座升降机构，所述套涂膜圈定位安装于所述膜圈定位座上，所述膜圈定位座在所述膜圈定位座升降机构的作用下能够在竖直方向上下移动，从而带动所述套涂膜圈浸入所述膜液槽补充膜液。

由此，所述膜圈定位座专门针对所述套涂膜圈进行设计，保证所述套涂膜圈定位准确并且拆卸方便；所述膜圈定位座升降机构一般采用电动推杆，以保证所述套涂膜圈的位移精度。

使用传感器自动化套涂设备的套涂方法，包括以下步骤：

步骤A、所述上料平台位于所述套涂工艺封闭仓前侧外部，传感器载具放置于所述上料平台上；

步骤B、前侧的所述腔体开关门开启，所述上料平台在所述上料滑台驱动下进入所述第一平衡仓位；

步骤C、所述套涂平衡流转平台位于所述第一平衡仓位一侧，所述第一平衡仓位处的所述载具升降机构下移，所述载具夹紧机构夹取所述上料平台上的传感器载具后所述载具升降机构上移，所述上料平台在所述上料滑台驱动下退回所述第一平衡仓位前侧外部，前侧的所述腔体开关门关闭，所述载具升降机构下移，所述载具夹紧机构释放传感器载具将其放置于所述套涂平衡流转平台上，开始平衡工艺持续10～40s；

步骤D、所述套涂平衡流转平台在所述套涂平衡驱动滑台驱动下移动至所述第二平衡仓位一侧，传感器载具位于所述套涂仓位内；

步骤E、所述套涂仓位处的所述载具升降机构下移，所述载具夹紧机构夹取所述套涂平衡流转平台上的传感器载具后所述载具升降机构上移，所述套涂定位平台在所述套涂移动机构驱动作用下向前移动至传感器载具下方，所述载具升降机构下移，所述载具夹紧机构释放传感器载具将其放置于所述套涂定位平台上；

步骤F、所述套涂定位平台在所述套涂移动机构驱动下向前移动，使传感器探针穿过所述套涂膜圈实现套涂涂膜，所述套涂定位平台在所述套涂移动机构驱动下向后移动退回至所述套涂平衡流转平台上方；

步骤G、所述套涂平衡流转平台在所述套涂平衡驱动滑台驱动下移动至所述第一平衡仓位一侧；

步骤H、所述载具升降机构下移，所述载具夹紧机构释放传感器载具将其放置于所述套涂平衡流转平台上；

步骤I、所述套涂平衡流转平台在所述套涂平衡驱动滑台驱动下移动至所述第二平衡仓位一侧，传感器载具位于所述第二平衡仓位内，开始平衡工艺持续10～40s；

步骤J、所述第二平衡仓位处的所述载具升降机构下移，所述载具夹紧机构夹取所述套涂平衡驱动滑台上的传感器载具后所述载具升降机构上移；

步骤K、后侧的所述腔体开关门开启，所述下料平台在所述下料滑台驱动下进入所述第二平衡仓位，所述第二平衡仓位处的所述载具升降机构下移，所述载具夹紧机构释放传感器载具将其放置于所述下料平台上；

步骤L、所述下料平台在所述下料滑台驱动下退回所述第二平衡仓位后侧外部，后侧的所述腔体开关门关闭。

由此，其中步骤A和步骤B为上料工步，步骤C为套涂前的第一次平衡工步，步骤D为第一次平衡和套涂之间的流转工步，步骤E和步骤F为套涂工步，步骤G和步骤H为套涂和第二次平衡之间的流转工步，步骤I为套涂后的第二次平衡工步，步骤J、步骤K和步骤L为下料工步；其中步骤C和步骤E、步骤F能够同步进行，以提高效率。

综上所述，本发明具有以下有益效果：

本发明的传感器自动化套涂设备采用套涂平衡流转平台实现在套涂工艺封闭仓内部的第一平衡仓位、套涂仓位和第二平衡仓位之间的流转，采用上料平台和下料平台实现上下料，采用载具夹取升降机构能够实现在套涂工艺封闭仓内各平台之间进行切换，采用载具套涂移动机构能够保证套涂工艺的实现，采用膜圈浸涂升降机构能够实现膜圈膜液的补充，通过各个机构之间的共同协作，能够保证传感器探针套涂工艺有序进行；此外，各机构之间按一定的方法步骤顺序工作，能够保证套涂和平衡工艺稳步进行，确保套涂涂膜的质量并提高工作效率。