具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

如图1至图4所示，该抗静电光电保护膜，包括基膜层1、抗静电层2、粘结层3以及剥离层4；抗静电光电保护膜通过基膜层、抗静电层、粘结层以及剥离层依次复合形成。

基膜层的厚度为40-60um，抗静电层10-18um、粘结层的厚度为8-12um、剥离层的厚度为10-15um，各层厚度控制合理，层结构的合理设置，利于保护膜制作。

基膜层为PE膜层、PP膜层或PET膜层；抗静电层通过抗静电液涂布在基膜层上形成，所述抗静电液包括以下质量份原料：丙烯酸树脂20-30份、聚噻吩45-50份、异丙醇25-30份、乙酸乙酯50-60份和多异氰酸酯类交联剂0.5-1.5份；通过加入异丙醇进一步使聚噻吩分散均匀，提高抗静电效果。在丙烯酸树脂和多异氰酸酯类交联剂体系中加入聚噻吩，进一步提高产品抗静电的稳定性。粘结层的材料包括EVA乳液100份、SEBS材料40-50份，POE材料10-20份和PIB材料8-10份。EVA乳液VA含量75-85％，提高粘结性，使产品整体性稳定性更好，避免保护膜产品分层。通过控制EVA乳液、SEBS材料、POE材料和PIB材料的用量比，协同作用提高产品的粘结性，同时保持产品的柔韧性，避免层分离，保证产品的稳定性；剥离层为离型膜。上述产品的抗静电光电保护膜不仅抗静电效果优异，而且产品稳定，不会发生脱层分离，抗静电性能也稳定；保护光电产品避免受到损伤。

该抗静电光电保护膜的处理工艺，包括以下步骤：

1)通过保护膜放卷辊21进行保护膜9放卷操作；

2)保护膜经过保护膜涂胶结构23，通过保护膜涂胶结构的涂胶辊自出胶进行保护膜涂胶操作，通过回收接胶槽回收涂胶辊上多余胶水；

3)涂胶后保护膜进入保护膜烘干箱24进行烘干操作，烘干后的保护膜通过收卷辊25进行收卷操作。

本发明中通过涂胶辊自出胶进行保护膜涂胶操作，胶水挥发较小，涂胶均匀，回胶和保护膜涂胶前均进行冷却，进一步的减少挥发，提高了光电保护膜质量。

其在步骤1和步骤2之间设有用于对保护膜冷却的涂胶前冷却辊22，通过涂胶前冷却辊对保护膜冷却处理，保护膜放卷辊放出的保护膜温度相对较高，不利于涂胶均匀性；保护膜通过冷却辊进行冷却处理，利于涂胶均匀。

进一步的，涂胶前冷却辊可为并排设置的一组，对涂胶前的保护膜温度控制精确，利于提高产品质量。

涂胶前冷却辊22包括相连通的进出水中空轴、中间水腔以及冷却腔，中间水腔包裹进出水中空轴设置，冷却腔包裹中间水腔设置，冷却腔的外表面形成冷却辊的辊面。通过中间水腔集水过渡设置，避免冷却辊一端进水温度高，另一端温度低，从而避免冷却辊的冷却辊面温度不均匀的问题。

涂胶辊5包括胶辊中空轴6和包裹在胶辊中空轴上的胶筒，胶辊中空轴的一端设有用于进胶的进口，胶辊中空轴内部与胶筒的内腔相连通，胶筒的外缘形成涂胶辊的辊面，胶筒的外缘上设有均匀布置一组的胶孔，保证在涂胶辊上形成均匀胶面，保证了涂胶均匀性。

涂胶辊旋转，从涂胶辊辊面胶孔出胶，在涂胶辊的辊面上形成胶面；由于胶辊中空轴和胶筒的内部密闭，不存在胶水挥发问题，胶水浓度均匀，涂胶均匀，提升了产品质量。

回收接胶槽7位于涂胶辊的正下方，保护膜经过涂胶辊的顶部辊面，回收接胶槽的底部设有回胶管，回胶管连有胶液冷却器8，胶液冷却器通过胶泵与进口相连。通过胶液冷却器对回收的胶液进行冷却处理，使其胶液的温度控制在合理范围内，循环利用，降低了成本。

回收接胶槽7为弧形槽，在弧形槽内位于涂胶辊的正下方设有用于将多余胶水刮下的刮胶片，并在弧形槽外设有通冷却水的胶槽冷却腔10。通过刮胶片将多余胶水刮下，进一步提高辊面胶水均匀性；刮胶片通过升降杆设在弧形槽内，升降杆带动刮胶片升降，调节刮胶片和涂胶辊下缘之间的间隙，从而调整涂胶的厚度。

弧形槽的前后边缘上均设有边辊11，保护膜经过边辊的上辊面，保护膜覆盖在弧形槽上，可以减小回收接胶槽内回收的胶水挥发，位于后方的边辊可以去除保护膜上多余胶水，进一步提高涂胶均匀性。

回收接胶槽是用于回收剩下的胶水，与传统胶槽用于存放直接涂胶用胶液不同，胶槽冷却腔可控制回收接胶槽温度低于20度，进一步减少胶水挥发，利于保证胶水前后的浓度一致性，从而提高产品一致性和降低成本。

烘干箱内从前至后依次分成三个子烘干腔，第一烘干腔的温度范围为40-50度，第二烘干腔的温度范围为53-57度，第三烘干腔的温度范围为60-65度，并且第一烘干腔的长度大于第二烘干腔及第三烘干腔的长度。首先通过低温长时间烘干利于固化均匀性；三个子烘干腔依次设置可以提高胶水在保护膜表面的固化效果，提升产品质量。

上述仅为对本发明较佳的实施例说明，上述技术特征可以任意组合形成多个本发明的实施例方案。

上面结合附图对本发明进行了示例性描述，显然本发明具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的构思和技术方案进行的各种非实质性的改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本发明的保护范围之内。