具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一个实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明的是，除非另外定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。若全文中涉及“第一”、“第二”等描述，则该“第一”、“第二”等描述仅用于区别类似的对象，而不能理解为指示或暗示其相对重要性、先后次序或者隐含指明所指示的技术特征的数量，应该理解为“第一”、“第二”等描述的数据在适当情况下可以互换。若全文中出现“和/或”，其含义为包括三个并列方案，以“A和/或B”为例，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。此外，为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“上方”、“下方”、“顶部”、“底部”等，仅用来描述如图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系，应当理解为也包含除了图中所示的方位之外的在使用或操作中的不同方位。

图1是根据本发明的一些实施例的边耦合腔测量装置应用于耦合腔加速结构时的示意图。如图1所示，耦合腔加速结构100包括多个加速腔110a、110b和多个边耦合腔130。多个加速腔110a、110b沿着第一方向D1依次连接。多个边耦合腔130在与第一方向D1大致垂直的第二方向D2上设置在多个加速腔110的两侧。每个边耦合腔130与相邻的加速腔110a、110b耦接，用于电磁耦合相邻的加速腔110a、110b。耦合腔加速结构100还包括沿着第一方向D1贯穿多个加速腔110a、110b的束流孔150。每个加速腔110a、110b通过加速间隙112与束流孔150连通。

本发明实施例提供一种可用于对上述耦合腔加速结构100中边耦合腔130进行测试的边耦合腔测量装置和边耦合腔测量方法，以准确地获取边耦合腔130的测试结果。

如图1所示，边耦合腔测量装置包括网络分析仪210、测量部230和电缆250。其中，测量部230可穿设在束流孔150中，并通过电缆250与网络分析仪210连接。

具体地，网络分析仪210可以采用具备反射参数测量功能的仪器。例如，网络分析仪210可以采用微波矢量网络分析仪。微波矢量网络分析仪为一种微波网络参数测量装置，可以测量反射参数和传输参数等。

如图2和图3所示，测量部230包括主体232、介质234和同轴线236。

其中，主体232可以采用铜等制成，并大致呈中空管状。具体地，主体232可以为铜管，其外径小于束流孔150的内径。

在图2和图3所示的实施例中，主体232包括第一延伸部2320、第二延伸部2322和第三延伸部2324。第一延伸部2320为中空管状结构。第二延伸部2322为中空管状结构。第三延伸部2324位于第一延伸部2320和第二延伸部2322之间并将第一延伸部2320和第二延伸部2322连接。

具体地，第一延伸部2320包括与第二延伸部2322相邻的第一轴向端面23201。第二延伸部2322包括与第一延伸部2320相邻的第二轴向端面23220。

第三延伸部2324包括弧面23240、与弧面23240连接的顶平面23242和自顶平面23242向第三延伸部2324的内部凹陷的沟槽23246。弧面23240与第一延伸部2320的外表面和第二延伸部2322的外表面位于相同的圆周面上。顶平面23242位于第一轴向端面23201和第二轴向端面23220之间，并大致垂直于第一轴向端面23201和第二轴向端面23220。顶平面23242分别与第一轴向端面23201和第二轴向端面23220的底部连接，从而形成位于第一延伸部2320和第二延伸部2322之间且位于第三延伸部2324上方的凹槽238。

凹槽238在主体232的轴向也即第一方向D1上的宽度小于加速间隙112在第一方向D1上的宽度。

在一实施例中，主体232在其轴向也即第一方向D1上的长度至少要大于三个加速腔110的长度。在图1所示的实施例中，主体232在其轴向也即第一方向D1上的长度大于束流孔150在第一方向D1上的长度，换言之，主体232可以贯穿束流孔150。

介质234填充在主体232中。具体地，介质234填充在第一延伸部2320和第二延伸部2322内。在一实施例中，介质234可以采用聚四氟乙烯。

在一实施例中，介质234内部形成有通孔239。位于第一延伸部2320内的介质234中的通孔239可以用于容纳同轴线236，如此，位于第一延伸部2320内的介质234可以对同轴线236起到支撑和固定作用。位于第二延伸部2322内的介质234中的通孔239可以减轻重量。

同轴线236穿设在位于第一延伸部2320内的介质234中的通孔239中。同轴线236的一端设有磁耦合环237。磁耦合环237位于凹槽238中并位于沟槽23246的上方或内部。磁耦合环237用于发射和接收射频信号。同轴线236的另一端设有同轴射频接头，用于通过电缆250与网络分析仪210连接。

上述为本发明一实施例中的边耦合腔测量装置的具体结构，下面简述采用边耦合腔测量装置对上述耦合腔加速结构100中的边耦合腔130进行测试的边耦合腔测量方法。

图4是根据本发明的一些实施例的用于耦合腔加速结构的边耦合腔测量方法的流程图。如图4所示，边耦合腔测量方法包括：

步骤401：将同轴线236的同轴射频接头和网络分析仪210连接；

步骤402：将测量部230插入耦合腔加速结构100的束流孔150中，并令测量部230中的凹槽238置于待测边耦合腔130相邻的一个加速腔110a中间，且凹槽238的开口朝向待测边耦合腔130一侧；

步骤403：调节网络分析仪210的参数以测量反射系数S₁₁，并根据测量的反射系数波形得到边耦合腔130的谐振频率。

在步骤401中，可将测量部230整体沿着第一方向D1插入耦合腔加速结构100的束流孔150中。

在步骤402中，由于测量部230的主体232穿过待测边耦合腔130两侧的加速腔110a、110b，且主体232可以采用铜等制成，因此可以使得待测边耦合腔130两侧的加速腔110a、110b均短路。如此，位于主体232的凹槽238中的磁耦合环237只能对待测边耦合腔130进行激励。这样，在步骤403，可以利用网络分析仪210的反射参数测量功能，根据测量的反射系数波形得到边耦合腔130的谐振频率。

此外，在得到一个边耦合腔130的谐振频率之后，边耦合腔测量方法可以进一步包括

沿着第一方向D1移动测量部230，直至测量部230中的凹槽238置于下一个待测边耦合腔130相邻的一个加速腔110a中间，且凹槽238的开口朝向下一个待测边耦合腔130一侧；

调节网络分析仪210的参数以测量反射系数S₁₁，并根据测量的反射系数波形得到下一个待测边耦合腔130的谐振频率。

上述为本发明实施例提供的一种可用于对上述耦合腔加速结构100中的边耦合腔130进行测试的边耦合腔测量装置和边耦合腔测量方法，主体232在其轴向也即第一方向D1上的长度至少要大于三个加速腔110的长度，通过主体232上的凹槽238以及位于凹槽38中的磁耦合环237，既可以实现将待测边耦合腔两侧的加速腔完全短路，又可以为微波信号的激励和接收装置留出了空间，从而可以准确地获取边耦合腔130的测试结果。

对于本发明的实施例，还需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。