具体实施方式

下面将结合具体实施例及附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施方式仅是本发明一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范围。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

在本发明的实施方式的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明的实施方式和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或组件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的实施方式的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的实施方式的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

请参阅图1A，本发明实施方式提供一种晶圆处理系统100。本实施方式中，所述晶圆处理系统100包括腔室120、设置在所述腔室120的入口的遮盘130、用于承载晶圆171的垂直晶舟170、由支持杆111连接至所述垂直晶舟170的底部的升降构件110，以及第一传感器140与第二传感器150。所述第一传感器140与所述第二传感器150为一对传感器。所述第一传感器140设置在所述升降构件110的预定位置。所述第二传感器150设置在所述遮盘130上。举例来说，所述第一传感器140安装在所述升降构件110的边缘并且将讯号发射或接收方向朝上设置。所述第二传感器150安装在所述遮盘130的边缘并且将讯号发射或接收方向朝下设置。在一些实施方式中，所述晶圆处理系统100可具有多对传感器，例如在垂直晶舟的两侧皆设置一对传感器。

所述腔室120可为用于沉积工艺的炉室或炉管，例如低压化学气相沉积炉。所述遮盘130是可移动的，所述晶圆处理系统100的控制模块131可藉由水平转动遮盘130来关闭或开启所述腔室120。所述垂直晶舟170可藉由所述升降构件110而提升或下降。

在一些实施方式中，所述第一传感器140与所述第二传感器150相互对齐，以在所述腔室120被所述遮盘130关闭时，监测沿着所述垂直晶舟170侧边的路径160，如图1A所示。在启动监测后，所述第一传感器140与所述第二传感器150的其中之一沿着所述路径160传送讯号至所述第一传感器140与所述第二传感器150的另一个。举例来说，所述第一传感器140与所述第二传感器150是光学传感器，例如雷射传感器，沿着所述路径160发送可见雷射光。所述第一传感器140与所述第二传感器150之间的距离至多可相距10公尺。所述第一传感器140与所述第二传感器150能承受超过摄氏600度的热度。

请参阅图1B至1C，其为当所述晶圆处理系统100侦测到所述路径160被阻挡时的示意图。所述晶圆处理系统100可进一步包括监控单元(未显示)，用于从所述第一传感器140及/或所述第二传感器150接收数据。所述监控单元被配置以监测所述路径160，以防止当所述垂直晶舟170被升降构件110抬升进入所述腔室120时(如箭号172所示)，所述垂直晶舟170与所述腔室120碰撞。在一些实施方式中，所述控制模块131在所述垂直晶舟170与所述入口相距预定距离时开启所述腔室120。当所述遮盘130移动至预定位置以让开空间给所述垂直晶舟170时，传感侦测会暂时停用。

举例来说，在所述垂直晶舟170于垂直移动过程中歪倾的情况，当所述路径160上的讯号被所述垂直晶舟170的部分遮住时，所述监控单元产生警示，如图1B所示。额外地或选择地，所述晶圆处理系统100可在警示产生时暂停制程运作。

又，在所述晶圆171于垂直移动过程中脱离所述垂直晶舟170的插槽的情况，当所述路径160上的讯号被从所述垂直晶舟170滑出的晶圆所阻挡时，所述监控单元产生警示，如图1C所示。额外地或选择地，所述晶圆处理系统100可在警示产生时暂停制程运作。

如同将所述垂直晶舟170装载入所述腔室120，所述监控单元可在所述垂直晶舟170从所述腔室120卸除时监控所述路160。当所述垂直晶舟170的上表面在下降过程中离开所述腔室120，所述遮盘130会随之关闭。相应地，传感侦测会被启用。所述垂直晶舟170在下降回至原始位置的过程中，所述路径160有任何阻挡被侦测到，所述监控单元会产生警示。

透过上述实施方法，垂直晶舟或晶圆与腔室的碰撞可被避免。

可以理解的是，以上实施例仅用来说明本发明，并非用作对本发明的限定。对于本领域的普通技术人员来说，根据本发明的技术构思做出的其它各种相应的改变与变形，都落在本发明权利要求的保护范围之内。