玻璃基板的风干系统

文档序号:854855 发布日期:2021-04-02 浏览:18次 >En<

阅读说明:本技术 玻璃基板的风干系统 (Air drying system for glass substrate ) 是由 曹河江 于 2020-12-11 设计创作,主要内容包括:一种玻璃基板的风干系统,所述玻璃基板的风干系统沿第一方向设置有:第一烘干区、第二烘干区与吸水区;所述吸水区设置在所述第一烘干区与所述第二烘干区之间;所述第一烘干区与所述第二烘干区内均设置有风刀和进风口,所述第一烘干区与所述第二烘干区内的所述风刀至少包括一组;所述吸水区内设置有至少一组压制轮和驱动电机;有益效果为:增加了吸水区,所述吸水区内的压制轮可以进一步吸干所述玻璃基板上的水分,且由于增加了所述压制轮,当所述压制轮与所述玻璃基板接触后,降低了所述玻璃基板表面产生静电的风险,提高所述显示面板的生产良率。(An air-drying system of a glass substrate, the air-drying system of the glass substrate is provided with: the drying device comprises a first drying area, a second drying area and a water absorption area; the water absorption zone is arranged between the first drying zone and the second drying zone; the first drying area and the second drying area are both provided with air knives and air inlets, and the air knives in the first drying area and the second drying area at least comprise one group; at least one group of pressing wheels and driving motors are arranged in the water absorption area; the beneficial effects are that: the water absorption area is additionally arranged, the pressing wheel in the water absorption area can further absorb water on the glass substrate, and due to the fact that the pressing wheel is additionally arranged, after the pressing wheel is contacted with the glass substrate, the risk that static electricity is generated on the surface of the glass substrate is reduced, and the production yield of the display panel is improved.)

玻璃基板的风干系统

技术领域

本申请涉及显示领域,特别是涉及一种玻璃基板的风干系统。

背景技术

液晶显示面板的各个制程中,对玻璃基板表面洁净度要求极高,因此玻璃基板在进入主制程之前往往都需要先经过湿制程清洗,经过湿制程水洗后再经过风干系统烘干。然而,目前的各种清洗机风干系统由多组风刀来确保吹干,浪费了大量干净的干燥空气(CDA,Clean Dry Air),且用高压气流反复吹玻璃基板,导致玻璃基板表面易产生静电的风险。

因此,现有的显示面板技术中,还存在着玻璃基板的风干系统,由于采用多组风刀直接吹干所述玻璃基板,高压气流反复对着所述玻璃基板进行吹,导致玻璃基板表面易产生静电的风险的问题,急需改进。

发明内容

本申请涉及一种玻璃基板的风干系统,用于解决现有技术中存在着玻璃基板的风干系统,由于采用多组风刀直接吹干所述玻璃基板,高压气流反复对着所述玻璃基板进行吹,导致玻璃基板表面易产生静电的风险的问题。

为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:

本申请提供的一种玻璃基板的风干系统,所述玻璃基板的风干系统沿第一方向设置有:第一烘干区、第二烘干区与吸水区;

所述吸水区设置在所述第一烘干区与所述第二烘干区之间;

所述第一烘干区与所述第二烘干区内均设置有风刀和进风口,所述风刀至少包括一组;

所述吸水区内设置有至少一组压制轮和驱动电机。

在本申请提供的一些实施例中,所述压制轮包括:主轴和滚筒。

在本申请提供的一些实施例中,所述滚筒镶嵌在所述主轴的外圈,所述主轴的一端与所述驱动电机相连,由所述电机带动所述主轴沿第二方向进行旋转。

在本申请提供的一些实施例中,所述滚筒包括:第一吸水层和第二吸水层,所述第一吸水层与所述第二吸水层一起组成圆柱体;所述第一吸水层与所述第二吸水层的形状和材料均相异。

在本申请提供的一些实施例中,所述第一吸水层紧连所述主轴,所述第二吸水层紧连所述第一吸水层,所述第二吸水层背离所述主轴的一侧的形状为螺旋型。

在本申请提供的一些实施例中,所述第二吸水层的螺旋型分为:第一螺旋型和第二螺旋型,所述第一螺旋型的螺纹与所述第二螺旋型的螺纹的方向不同。

在本申请提供的一些实施例中,所述第一螺旋型的螺纹与所述第二螺旋型的螺纹同向收敛。

在本申请提供的一些实施例中,所述第一螺旋型的螺纹与所述第二螺旋型的螺纹反向收敛。

在本申请提供的一些实施例中,所述第一吸水层沿所述第二方向的剖面形状为两端向中间凹陷的弧形,所述第二吸水层沿所述第二方向的剖面形状为两端向中间突出的弧形,即所述第一吸水层沿所述第二方向靠近外侧的直径最大,所述第一吸水层沿所述第二方向向中间段的直径逐渐减小;所述第二吸水层沿所述第二方向靠近中间段的直径最大,所述第二吸水层沿所述第二方向靠近外侧处的直径逐渐减小。

在本申请提供的一些实施例中,所述第一吸水层的材料为吸水性强的合成材料,所述第二吸水层的材料为聚乙烯。

与现有技术相比,本申请提供的一种玻璃基板的风干系统的有益效果为:

本申请提供的玻璃基板的风干系统,所述玻璃基板的风干系统沿第一方向设置有:第一烘干区、第二烘干区与吸水区;所述吸水区设置在所述第一烘干区与所述第二烘干区之间;所述第一烘干区与所述第二烘干区内均设置有风刀和进风口,所述风刀至少包括一组;所述吸水区内设置有至少一组压制轮和驱动电机;增加了吸水区,所述吸水区内的压制轮可以进一步吸干所述玻璃基板上的水分,且由于增加了所述压制轮,当所述压制轮与所述玻璃基板接触后,降低了所述玻璃基板表面产生静电的风险,提高所述显示面板的生产良率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的玻璃基板的风干系统的结构示意图。

图2为本申请实施例提供的压制轮的第一结构示意图。

图3为本申请实施例提供的压制轮的第二结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

本申请提供一种玻璃基板的风干系统,具体参阅图1-图3。

液晶显示面板的各个制程中,对玻璃基板表面洁净度要求极高,因此玻璃基板在进入主制程之前往往都需要先经过湿制程清洗,经过湿制程水洗后再经过风干系统烘干。然而,目前的各种清洗机风干系统由多组风刀来确保吹干,浪费了大量干净的干燥空气(CDA,Clean Dry Air),且用高压气流反复吹玻璃基板,导致玻璃基板表面易产生静电的风险。因此,本申请提供一种玻璃基板的风干系统以解决上述问题。

参阅图1,为本申请提供的一种玻璃基板的风干系统的结构示意图。本申请提供的一种玻璃基板的风干系统,所述玻璃基板的风干系统沿第一方向(即水平方向X)设置有:第一烘干区1、第二烘干区3与吸水区2;所述吸水区2设置在所述第一烘干区1与所述第二烘干区3之间;所述第一烘干区1与所述第二烘干区3内均设置有风刀和进风口,所述第一烘干区1与所述第二烘干区3内的所述风刀至少包括一组;所述吸水区2内设置有至少一组压制轮22和驱动电机21。

进一步地,所述压制轮22包括:主轴221和滚筒。所述滚筒镶嵌在所述主轴221的外圈,所述主轴221的一端与所述驱动电机21相连,由所述驱动电机21带动所述主轴221沿第二方向(即竖直方向Y)进行旋转。

在本申请的一种实施例中,所述滚筒包括:第一吸水层222和第二吸水层223,所述第一吸水层222与所述第二吸水层223一起组成圆柱体;所述第一吸水层222与所述第二吸水层223的形状和材料均相异。

在本申请的一种实施例中,所述第一吸水层222紧连所述主轴221,所述第二吸水层223紧连所述第一吸水层222,所述第二吸水层223背离所述主轴221的一侧的形状为螺旋型。

在本申请的一种实施例中,图2为本申请实施例提供的压制轮的第一结构示意图。即所述压制轮的右半边为沿A-A处的剖视图,所述压制轮的左半边为所述第二吸水层223螺旋方向的结构示意图。所述第二吸水层223的螺旋型分为:第一螺旋型和第二螺旋型,所述第一螺旋型的螺纹与所述第二螺旋型的螺纹的方向不同,即所述第一螺旋型的螺纹的开口方向与所述第二螺旋型的螺纹的开口方向不同。

在本申请的一种实施例中,图3为本申请实施例提供的压制轮的第二结构示意图。即所述压制轮的右半边为沿A-A处的剖视图,所述压制轮的左半边为所述第二吸水层223螺旋方向的结构示意图。所述第一螺旋型的螺纹与所述第二螺旋型的螺纹同向收敛,即所述第一螺旋型的螺纹的开口方向与所述第二螺旋型的螺纹的开口方向相对。

在本申请的一种实施例中,所述第一螺旋型的螺纹与所述第二螺旋型的螺纹反向收敛,即所述第一螺旋型的螺纹的开口方向与所述第二螺旋型的螺纹的开口方向相反。

在本申请的一种实施例中,所述第一吸水层222沿所述第二方向Y的剖面形状为两端向中间凹陷的弧形,所述第二吸水层223沿所述第二方向Y的剖面形状为两端向中间突出的弧形,即所述第一吸水层222沿所述第二方向Y靠近外侧的直径最大,所述第一吸水层222沿所述第二方向Y向中间段的直径逐渐减小;所述第二吸水层222沿所述第二方向Y靠近中间段的直径最大,所述第二吸水层222沿所述第二方向Y靠近外侧处的直径逐渐减小。

在本申请的一种实施例中,所述第一吸水层222的材料为吸水性强的合成材料,且所述第一吸水层222的外形设计为弧形易于导水;所述第二吸水层223的材料为聚乙烯(polyethylene,PE),且所述第二吸水层223的外形设计为由压制轮22中部分别向两端螺旋走行,通过驱动电机21连轴带动转动,压制轮22达到去除绝大部分水渍。

在本申请的一种实施例中,所述第一烘干区1内设置有:第一进风口11、第一风刀12和第二风刀13;所述第二烘干区3内设置有第二进风口31和第三风刀32。

在本申请的一种实施例中,所述第一方向X垂直于所述第二方向Y。

在本申请的一种实施例中,所述第一风刀12、所述第二风刀13和所述第三风刀32均包括一个进口和多个出口,在风刀的作用下将所述玻璃基板上的液体带走,最大化的吹干所述玻璃基板上的水。

所述玻璃基板清洗之后,进入所述玻璃基板的风干系统,首先,所述第一烘干区1从所述第一进风口11输出CDA(所述CDA可以采用氮气)给所述第一风刀12和所述第二风刀13,所述CDA通过所述第一风刀12与所述第二风刀13的多个出风口排出,对所述玻璃基板进行干燥,此时的干燥时间可以适当缩短,以达到节能的目的;进一步地,所述玻璃基板被传送至所述吸水区2,所述吸水区2内的所述压制轮22由所述驱动电机21驱动对所述玻璃基板两侧的水渍进行充分吸收,由于所述压制轮22采用两层不同的高吸水材料,且在高压的作用下,可以达到进一步干燥所述玻璃基板的目的,这一步可以去除残留在所述玻璃基板上的大部分水渍;最后,再将所述玻璃基板传送至所述第二烘干区3,所述第二进风口31同样输出CDA给所述第三风刀32,再经过所述第三风刀32的多个出口排出对所述玻璃基板进行干燥,彻底清洁所述玻璃基板。

因此,本申请提供的一种玻璃基板的风干系统的有益效果为:本申请提供的玻璃基板的风干系统,所述玻璃基板的风干系统沿第一方向设置有:第一烘干区、第二烘干区与吸水区;所述吸水区设置在所述第一烘干区与所述第二烘干区之间;所述第一烘干区与所述第二烘干区内均设置有风刀和进风口,所述风刀至少包括一组;所述吸水区内设置有至少一组压制轮和驱动电机;增加了吸水区,所述吸水区内的压制轮可以进一步吸干所述玻璃基板上的水分,且由于增加了所述压制轮,当所述压制轮与所述玻璃基板接触后,降低了所述玻璃基板表面产生静电的风险,提高所述显示面板的生产良率。

以上对本申请实施例所提供的一种玻璃基板的风干系统进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

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