具体实施方式

以下，在参照附图的同时，对本发明的实施方式进行说明。对于相同要素使用相同符号，省略重复的说明。附图的尺寸比率不一定与说明的尺寸比率一致。作为有机电子器件，例如可以举出有机EL器件、有机太阳能电池、有机光探测器等。以下说明的实施方式中，只要没有特别指出，有机电子器件就是有机EL器件，特别对底发射型的有机EL器件的制造方法进行说明。

图1是一个实施方式的有机EL器件的制造方法中使用的长条的挠曲性膜10的俯视图。本说明书中，所谓长条的挠曲性膜10，是指沿一个方向延伸、且该延伸方向(即长度方向)的长度比与长度方向正交的方向(宽度方向)的长度长的挠曲性膜。此处，所谓挠曲性膜，是具有挠曲性的膜。所谓挠曲性，是即使对物体(本说明书的例子中为膜)施加规定的力也能够不发生剪切、断裂地弯曲上述物体的性质。

挠曲性膜10至少对于可见光(波长400nm～800nm的光)具有透光性。挠曲性膜10的厚度例如为30μm以上且500μm以下。

挠曲性膜10例如为塑料膜之类的树脂膜。挠曲性膜10的材料的例子包括聚醚砜(PES)；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯树脂；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、环状聚烯烃等聚烯烃树脂；聚酰胺树脂；聚碳酸酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂；乙烯－乙酸乙烯酯共聚物的皂化物；聚丙烯腈树脂；缩醛树脂；聚酰亚胺树脂；环氧树脂等。

作为挠曲性膜10的材料，在上述树脂中，由于耐热性高、线膨胀率低、并且制造成本低，因此优选聚酯树脂、或聚烯烃树脂，更优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、或聚萘二甲酸乙二醇酯。这些树脂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

在挠曲性膜10的表面10a上，可以配置屏蔽气体、水分等的屏蔽层(特别是屏蔽水分的屏蔽层)。

有机EL器件的制造中，在长条的挠曲性膜10的长度方向上假想地设定多个器件形成区域DA，在器件形成区域DA上形成阳极层(第1电极层)、有机功能层、阴极层(第2电极层)等。在挠曲性膜10的表面10a形成有屏蔽层的方式中，在屏蔽层上形成阳极层、有机功能层、阴极层等。

图2是一个实施方式的有机EL器件的制造方法的示意图，并且是利用了卷对卷方式的有机EL器件的制造方法的示意图。在利用卷对卷方式制造有机EL器件的情况下，将卷筒状的挠曲性膜10安装于导出部12A后导出挠曲性膜10。在利用输送辊14将导出的挠曲性膜10朝向卷绕部12B输送的同时，依次实施阳极层形成工序(第1电极层形成工序)S11、有机功能层形成工序S12及阴极层形成工序(第2电极层形成工序)S13。其后，将挠曲性膜10利用卷绕部12B卷绕成卷筒状。导出部12A、卷绕部12B及输送辊14可以是挠曲性膜10的输送机构的一部分。输送机构可以在此以外还具备张力调整机构等公知的构成要素。也可以在各工序中设置卷绕工序及导出工序。此外，也可以在各工序中将挠曲性膜10暂时卷绕保管后，重新导出挠曲性膜10并进行下面的工序。

[阳极层形成工序]

阳极层形成工序S11中，在沿着挠曲性膜10的长度方向假想地设定的多个器件形成区域DA分别形成阳极层(第1电极层)16。因而，在挠曲性膜10中，沿着其长度方向分离地形成阳极层16。阳极层16可以具有以网络状形成有导体(例如金属)的网络结构。阳极层16的厚度的例子通常为10nm～10μm，优选为20nm～1μm，更优选为50nm～500nm。

阳极层16例如可以利用干式成膜法、镀覆法、涂布法等形成。作为干式成膜法，例如可以举出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、CVD法等。所谓涂布法，是使用在溶剂中溶解有应当形成的层的材料的溶液来形成层的方法。作为涂布法，例如可以举出微型凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、绕线棒涂布法、喷涂法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、喷嘴打印法、喷墨印刷法等。

[有机功能层形成工序]

有机功能层形成工序S12中，在形成于挠曲性膜10上的阳极层16上形成有机功能层18。有机功能层18是根据对有机EL器件施加的电力来参与电荷的移动及电荷的复合等有机EL器件的发光的器件功能部。有机功能层18具有作为有机层的发光层。

发光层是具有发出规定的波长的光的功能的功能层。对于发光层的厚度，其最佳值随着所用的材料而不同，以使驱动电压和发光效率为适度的值的方式适当地设定。发光层的厚度例如为1nm～1μm，优选为2nm～500nm，更优选为10nm～200nm。

发光层通常包含主要发出荧光及磷光的至少一方的发光材料，或者包含该发光材料和辅助它的发光层用掺杂剂材料。发出荧光及磷光的至少一方的发光材料所具有的有机物可以是低分子化合物，也可以是高分子化合物。作为上述发光材料，例如可以举出下述的色素材料、金属络合物材料、高分子材料等。

(色素材料)

作为色素材料，例如可以举出环喷他明及其衍生物、四苯基丁二烯及其衍生物、三苯基胺及其衍生物、噁二唑及其衍生物、吡唑并喹啉及其衍生物、二苯乙烯基苯及其衍生物、二苯乙烯基芳撑及其衍生物、吡咯及其衍生物、噻吩化合物、吡啶化合物、紫环酮及其衍生物、苝及其衍生物、低聚噻吩及其衍生物、噁二唑二聚物、吡唑啉二聚物、喹吖啶酮及其衍生物、香豆素及其衍生物等。

(金属络合物材料)

作为金属络合物材料，例如可以举出作为中心金属具有Tb、Eu、Dy等稀土金属、或Al、Zn、Be、Pt、Ir等、作为配体具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉结构等的金属络合物等。作为金属络合物，例如可以举出铱络合物、铂络合物等具有来自三重激发态的发光的金属络合物、羟基喹啉铝络合物、苯并羟基喹啉铍络合物、苯并噁唑基锌络合物、苯并噻唑锌络合物、偶氮甲基锌络合物、卟啉锌络合物、菲咯啉铕络合物等。

(高分子材料)

作为高分子材料，例如可以举出聚对亚苯基亚乙烯基及其衍生物、聚噻吩及其衍生物、聚对亚苯基及其衍生物、聚硅烷及其衍生物、聚乙炔及其衍生物、聚芴及其衍生物、聚乙烯基咔唑及其衍生物、将上述色素材料、或金属络合物材料高分子化而得的材料等。

发光层用掺杂剂材料例如是为了提高发光效率、改变发光波长而加入的。作为发光层用掺杂剂材料，例如可以举出苝及其衍生物、香豆素及其衍生物、红荧烯及其衍生物、喹吖啶酮及其衍生物、方酸内鎓盐及其衍生物、卟啉及其衍生物、苯乙烯基色素、并四苯及其衍生物、吡唑啉酮及其衍生物、十环烯及其衍生物、吩噁嗪酮及其衍生物等。

有机功能层18可以具有包含发光层以外的功能层的多层结构。作为能够设于阳极层与发光层之间的功能层，例如可以举出空穴注入层及空穴传输层。作为能够设于阴极层与发光层之间的功能层，例如可以举出电子注入层及电子传输层。以下给出有机功能层可以采取的层结构的例子。下述层结构的例子中，为了说明将阳极层及阴极层也用括号进行了记述。

(a)(阳极层)/发光层/(阴极层)

(b)(阳极层)/空穴注入层/发光层/(阴极层)

(c)(阳极层)/空穴注入层/发光层/电子注入层/(阴极层)

(d)(阳极层)/空穴注入层/发光层/电子传输层/电子注入层/(阴极层)

(e)(阳极层)/空穴注入层/空穴传输层/发光层/(阴极层)

(f)(阳极层)/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子注入层/(阴极层)

(g)(阳极层)/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/(阴极层)

(h)(阳极层)/发光层/电子注入层/(阴极层)

(i)(阳极层)/发光层/电子传输层/电子注入层/(阴极层)

上述记号“/”表示夹隔着记号“/”的各层被相邻地层叠。上述构成例(a)的形态是有机功能层18为由发光层形成的单层结构时的例子。

作为空穴注入层、空穴传输层、电子注入层及电子传输层的材料可以使用公知的材料。通常，空穴传输层及电子传输层为有机层。空穴注入层及电子注入层可以是有机层，也可以是无机层。电子注入层例如可以是阴极层的一部分。空穴注入层、空穴传输层、电子注入层及电子传输层的厚度可以考虑电特性、成膜的容易性等适当地设定。空穴注入层、空穴传输层、电子注入层及电子传输层的厚度为亚微米量级。

构成有机功能层18的功能层可以利用涂布法形成。涂布法的例子可以与阳极层形成工序S11的说明中例示的涂布法相同。在有机功能层18具有多层结构的情况下，从阳极层16侧起依次形成各功能层即可。

[阴极层形成工序]

阴极层形成工序S13中，在有机功能层18上形成阴极层(第2电极层)20。也可以将阴极层20的一部分形成于挠曲性膜10上。为了使来自有机功能层18的光在阴极层20反射并到达阳极层16侧，阴极层20的材料优选为对于来自有机功能层18的光而言反射率高的材料。作为阴极层20的材料，例如使用碱金属、碱土金属、过渡金属及周期表第13族元素等。作为阴极层20例如也可以使用包含导电性金属氧化物、导电性有机物等的透明导电性电极。作为导电性金属氧化物，具体而言，可以举出氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO、IZO等，作为导电性有机物，可以举出聚苯胺及其衍生物、聚噻吩及其衍生物等。

考虑电导率、耐久性等来设定阴极层20的厚度。阴极层20的厚度通常为10nm～10μm，优选为20nm～1μm，更优选为50nm～500nm。阴极层20可以与阳极层16同样地形成。

作为阴极层20的形成方法，例如可以举出干式成膜法、镀覆法、涂布法等。干式成膜法及涂布法的例子可以分别与阳极层形成工序S11的说明中例示的方法相同。从易于在成膜后立即体现出导电性的观点出发，优选干式成膜法。从能够抑制对发光层的损伤的观点出发，优选真空蒸镀法。

通过经由阴极层形成工序S13，在每个器件形成区域DA，形成具备挠曲性膜10、形成于挠曲性膜10上的阳极层16、形成于阳极层16上的有机功能层18、和形成于有机功能层18上的阴极层20的有机EL器件2(参照图3)。由此，通过对每个器件形成区域DA实施将挠曲性膜10单片化的单片化工序，可以获得产品尺寸的有机EL器件2。

有机EL器件2可以具备至少将有机功能层18密封的密封构件。密封构件贴合于挠曲性膜10及挠曲性膜10上的结构(阳极层、有机功能层及阴极层)。密封构件具有防止水分向有机功能层18的浸入的水分屏蔽功能。密封构件也可以具有气体屏蔽功能。

在有机EL器件2具备密封构件的方式中，只要在阴极层形成工序S13与单片化工序之间实施向经过了阴极层形成工序S13的挠曲性膜10(即带有阴极层的挠曲性膜)贴合密封构件的贴合工序即可。该贴合工序中，例如将长条的密封构件贴合于带有阴极层的挠曲性膜。密封构件的大小及贴合位置等只要设定为能够向有机EL器件2供给电力即可。

下面对有机功能层形成工序S12进行详述。图4是示意性地表示有机功能层形成工序S12所具有的涂布层形成工序及加热工序的图。将有机功能层18所具有的至少一个功能层称作功能层181并对功能层181的形成方法进行说明。此处，为了简化说明，只要没有特别指出，则如图4所示，以形成与阳极层16接触的功能层181的情况为例进行说明。

首先，利用涂布法，在阳极层16上形成涂布层181a(涂布层形成工序)。图4中，表示出利用作为涂布法的一例的喷墨印刷法形成涂布层181a的方式。具体而言，将在溶剂中溶解有应当形成的功能层181的材料的涂布液(例如墨液)24从喷墨装置22向阳极层16上滴加而形成涂布层181a。本说明书中，涂布层为进行干燥固化前的涂布液的膜。然后，在设于挠曲性膜10的输送路上的加热炉26内对涂布层181a进行加热、干燥，得到功能层181(加热工序)。因而，有机功能层形成工序S12具有上述涂布层形成工序和上述加热工序。

在阳极层16与应当形成的功能层181之间已经形成有其他功能层的情况下，只要在涂布层形成工序中，以上述其他功能层作为基底层，在该基底层上形成涂布层181a即可。

图5是用于说明加热工序的图。加热工序中，将经过了涂布层形成工序的挠曲性膜10从加热炉26的送入口26a送入到加热炉26内。图5中，图示出阳极层16与涂布层181a的一组。然而，如前所述，在挠曲性膜10的长度方向上分离地设有多个阳极层16，在各阳极层16上形成有涂布层181a。

在加热炉26内，将所送入的挠曲性膜10用设于加热炉26内的输送辊28输送。一边将挠曲性膜10沿其长度方向输送，一边从配置于加热炉26内的红外线照射部30照射红外线32而对涂布层181a进行加热、干燥。其后，将挠曲性膜10从送出口26b连续地送出。

红外线照射部30为了加热涂布层181a，输出包含波长3μm～10μm的范围的红外线的红外线32。红外线照射部30的例子为红外线加热器。在加热炉26内，沿着输送方向配置有多个红外线照射部30。如图5所示，红外线照射部30可以在挠曲性膜10的厚度方向上配置于两侧，也可以例如仅配置于与涂布层181a相面对的一侧。

输送辊28如图5所示，具有金属制的辊主体281和设于辊主体281的表面的涂敷层282。辊主体281的材料的例子为不锈钢(SUS)。涂敷层282的材料为红外线吸收材料。因而，输送辊28的表面28a的材料为红外线吸收材料。

红外线吸收材料吸收从红外线照射部30输出的红外线32。红外线吸收材料的波长3μm～10μm的范围的红外线的平均吸收率为0.8以上。红外线吸收材料的例子为无机氧化物，上述无机氧化物的例子为氧化铝。

在将上述平均吸收率设为α时，规定的波长范围的平均吸收率α是利用下式算出的值。

[数学式1]

上述式中，λ为上述规定的波长范围内的波长，k(λ)为波长λ处的吸收率，λ₁为上述规定的波长范围的下限值，λ₂为上述规定的波长范围的上限值。由此，在规定的波长范围为波长3μm～10μm的范围的情况下，λ₁为3μm，λ₂为10μm。作为测定波长λ的吸收率的方法，有利用依照《JIS K 0117：2000红外分光分析方法通则》的装置的测定，特别优选使用应用了傅里叶变换方式的傅里叶变换形红外分光光度计的方法。

在加热炉26内，为了将加热炉26内换气、有效地排出溶剂，可以如虚线所示配置输出空气的空气喷嘴34。

加热工序中，只要以在加热炉26内将涂布层181a加热、干燥的方式，调整来自红外线照射部30的红外线32的强度、输送速度等即可。加热工序中，可以将挠曲性膜10也加热到100℃以上。在加热工序中，距离挠曲性膜10的表面(形成有第1电极层的面)10a(参照图1)10mm以内的环境的风速优选为0.1m/s以下。

作为涂布层形成工序中使用的涂布法的例子举出喷墨印刷法进行说明。然而，也可以利用阳极层形成工序S11中举出的喷墨印刷法以外的其他涂布法形成涂布层181a。

在有机功能层18具有多个功能层的方式中，只要利用上述涂布层形成工序和加热工序形成至少一个功能层即可。换言之，在有机功能层18具有多个功能层的方式中，可以具有利用公知的形成方法形成的功能层。例如，可以利用真空蒸镀法形成电子注入层。

上述有机EL器件2的制造方法中，在形成有机功能层18所具有的至少一个功能层181时具有加热工序，作为加热工序中对涂布层181a进行加热的方法，使用红外线32。由此，与利用热风的情况相比不易在涂布层181a中产生风纹(膜厚不均)。此外，输送辊28的表面28a的材料是波长3μm～10μm的范围的红外线的平均吸收率为0.8以上的红外线吸收材料。由此，在加热工序中，由于从红外线照射部30照射的红外线32由红外线吸收材料吸收，因此输送辊28的表面28a与不吸收红外线32的情况相比变热。当输送辊28的表面28a变热时，即使挠曲性膜10接触到输送辊28，由于该接触部分的温度降低得到抑制，因此也能够防止伴随着温度降低的挠曲性膜10的扭曲及褶皱的产生等。由此，不易在挠曲性膜10上的涂布层181a中产生膜厚不均，能够精度优良地以所期望的厚度形成功能层181，因此能够防止有机EL器件2的特性的降低。例如，能够防止发光不均。

加热工序中，由于在加热炉26内利用输送辊28输送挠曲性膜10，因此还能够防止挠曲性膜10的松弛。由此，能够将加热炉26大型化。例如，能够加长沿着输送方向的加热炉26的长度。即使加长加热炉26，通过配置红外线照射部30，也能够加热涂布层181a，此外，还能够利用红外线32的强度等将涂布层181a的加热温度也提高。其结果是，能够提高有机EL器件2的生产率。

加热工序中，不是用例如气体使挠曲性膜10飘浮地输送，而是使用输送辊28来输送挠曲性膜10。由此，也能够防止用于使挠曲性膜10飘浮的气体所致的风纹的产生。

由于输送辊28的表面28a因涂布层181a的加热中使用的红外线32而变热，因此与例如使用热辊的情况相比还可以压低操作成本。

通常而言，在像卷对卷方式那样用输送辊14及输送辊28输送挠曲性膜10的情况下，有以高标准来要求辊的加工精度(作为圆筒度、平直度、正圆度等为人所知的精度)的趋势。在输送辊28具有辊主体281和涂敷层282的方式中，通过以与以往相同的加工精度形成辊主体281，能够容易地维持输送辊28的加工精度。此外，通常而言，可以通过向卷对卷方式中使用的金属制的输送辊涂敷红外线吸收材料来制作输送辊28，因此可以容易地准备输送辊28。

此外，在红外线吸收材料为无机氧化物的方式中，与使用塑料的情况相比可以实现耐久性的提高，并且还易于获得加工精度。

加热工序中，若挠曲性膜10的温度达到100℃以上，则伴随着温度降低，易于产生前述的扭曲、褶皱等。因此，具有能够防止温度降低的上述加热工序的有机EL器件的制造方法对于加热工序中挠曲性膜10的温度达到100℃以上的情况而言有效。通常，在对涂布层181a进行加热、干燥时，挠曲性膜10的温度有达到100℃以上的趋势。

喷墨印刷法中，墨液的粘度通常可以设定为低粘度。因此，例如涂布层的厚度易于受到挠曲性膜的扭曲、褶皱等的影响。有机EL器件的制造方法的上述加热工序中，由于能够抑制上述扭曲、褶皱等，因此对于利用喷墨印刷法形成涂布层的方式有效。

下面，参照实验结果，对在加热工序中使用输送辊28时的作用效果进行进一步说明。

(实验例1)

实验例1中输送辊28使用向金属辊(辊主体)的表面热喷涂氧化铝(波长3μm～10μm的范围的红外线的平均吸收率：0.82)而进行涂敷得到的辊。红外线照射部30使用红外线加热器，将红外线加热器的温度设定为160℃。实验例1中，使用100μm厚的PEN膜作为挠曲性膜10，在挠曲性膜10上，作为功能层181形成发光层。具体而言，在利用喷墨印刷法形成涂布层181a后，一边在加热炉26内以1m/min的输送速度输送挠曲性膜10，一边对涂布层181a用红外线进行加热、干燥，得到功能层181。此时，在上述挠曲性膜10的表面安装温度计，计测出输送中的挠曲性膜10的温度。

其结果是，在加热炉26内，将挠曲性膜10基本上维持在150℃，在与输送辊28的接触部分也没有观察到急剧的温度变化。更具体而言，没有观察到1℃以上的温度变化。此外，在从加热炉26送出的挠曲性膜10中没有确认到褶皱，在所得的功能层181中也没有观察到膜厚不均。

(实验例2)

实验例2是实验例1的比较实验。实验例2除了取代实验例1中使用的输送辊28而使用了表面也由金属构成的金属辊这一点以外，与实验例1同样地进行了实验。其结果是，在挠曲性膜10的与金属辊的接触部分，产生了10℃以上的温度降低。在从加热炉送出的挠曲性膜10中观察到显著的褶皱，并且在所得的功能层中观察到膜厚不均。

从上述实验例1与实验例2的比较可以理解，在利用红外线的照射对涂布层181a进行加热、干燥时，通过使用表面28a由红外线吸收材料构成的输送辊28，能够防止辊接触部分的温度降低。其结果是，能够防止挠曲性膜10的褶皱及应当形成的功能层的膜厚不均，易于实现所期望的厚度的功能层。

以上，对本发明的各种实施方式及变形例进行了说明。然而，本发明并不限定于例示的各种实施方式及变形例，而是意图包含由专利请求保护的范围给出的范围，并且意图包含与专利请求保护的范围等同的含义及范围内的所有变更。

图2例示的有机EL器件的制造方法中，实施了阳极层形成工序。然而，也可以使用预先形成有阳极层的挠曲性膜。即，可以不实施阳极层形成工序。

图2例示的有机EL器件的制造方法中，利用卷对卷方式实施了直至阳极层形成工序、有机功能层形成工序及阴极层形成工序为止的全部工序。然而，只要至少利用卷对卷方式实施图5所示的加热工序即可。通常，涂布层形成工序和加热工序可以利用卷对卷方式连续地实施。

作为第1电极层例示出了阳极层，作为第2电极层例示出了阴极层。然而，也可以第1电极层为阴极层、第2电极层为阳极层。即，阴极层可以配置于挠曲性膜侧。应当制造的有机EL器件也可以是顶发射型的器件。

上述实施方式中，对作为有机电子器件的一例的有机EL器件的制造方法进行了说明。然而，本发明在应用于有机EL器件的制造以外，还能够应用于有机光探测器、有机薄膜太阳能电池、有机晶体管等有机电子器件的制造。

附图标记说明

2有机EL器件(有机电子器件)，10挠曲性膜，10a表面(挠曲性膜的形成有第1电极层的面)，16阳极层(第1电极层)，18有机功能层，20阴极层(第2电极层)，26加热炉，28输送辊(辊)，28a表面(辊的表面)，30红外线照射部，32红外线，181功能层，181a涂布层，281辊主体，282涂敷层。