具体实施方式

现在将详细参考本发明的实施方式，这些优选实施方式的示例在附图中示出。然而，可以对本发明的如下实施方式进行各种修改，以及本发明的范围不受如下实施方式限制。

在图1中示出了根据本发明的第一方面的系统10的第一示例性实施方式。特别地，本文中示出了两个平行的对准结构1、2，其中，对准结构1包括反射器5和天线7(例如馈送天线)，对准结构2包括反射器6和天线8(例如馈送天线)，其中天线7布置在反射器5的聚焦区域处，天线8布置在反射器6的聚焦区域处。反射器5位于对准结构1的顶端，反射器6位于对准结构2的顶端，而DUT 3、DUT 4放置在底端，使得反射器5、反射器6悬挂在相应的DUT 3、DUT 4的上方。DUT 3、DUT 4为无线设备，例如模块化设备、天线阵列等，优选地根据5G通信标准进行操作。对准结构1、对准结构2类似于竖直的CATR系统，其中，CATR和DUT 3、DUT 4被定向成使得平行的DUT 3、DUT 4不直接朝向彼此辐射能量。

所述系统还包括连接到各个天线7、8的测量单元(MEAS)9，并且同时对DUT 3、DUT4执行测量。天线7、8中的每一者都经由开关部件(例如，经由射频(Radio Frequency，RF)开关箱(未示出))单独地或共同地连接到测量单元9。因此，测量单元9能够针对DUT 3、DUT 4测量相同的性能特性(例如，误差矢量幅度)。另外，测量单元9能够针对DUT 3、DUT 4测量多个不同的性能特性(例如，误差矢量幅度和信道功率)。测量单元9可以另外包括测量天线或探针或传感器，以便对DUT 3、DUT 4进行详细的测量。通常，测量单元9包括信号发生部件、数据/信号处理部件、用户界面和存储部件，这些部件在本领域中是公知的，并且为了避免不必要地使本发明变得含糊而不再详细描述这些部件。

所述系统还包括定位器(POS)11，该定位器11连接到测量单元9且还连接到对准结构1、对准结构2，以便使对准结构1、对准结构2各自的取向同时进行。定位器11可以可选地连接到DUT 3、DUT 4，以便使DUT 3、DUT 4的取向相对于对准结构1、对准结构2同时进行。在这种情况下，定位器11可以使对准结构1、对准结构2相对于测试平面竖直地或水平地或以一定倾斜角度取向。另外，定位器11可以使对准结构1、对准结构2相对于彼此以不同角度取向。对准结构1、对准结构2可以由定位器11在外部定向，例如由用户根据生产测试的要求经由测量单元9进行定向。

特别地针对本文中所示的对准结构1、对准结构2，可以将待并行测试的两个DUT3、4放置在一生产线上。因此，将这两个对准结构1、2竖直地定向在生产线上，其中，两个DUT3、4在一个传送带或两个平行的传送带上，该一个传送带或两个平行的传送带位于各自的反射器5、反射器6的下方。在两个DUT3、4的每个实例中，利用两个相应的对准结构1、2并行地执行测量。有利的是，不需要屏蔽壳体(例如吸波暗室)，从而实现了多个设备的生产级测试。然而，对准结构1可以包括如本文所述的某种等级的屏蔽部13和屏蔽部15，对准结构2可以包括如本文所述的某种等级的屏蔽部14和屏蔽部16，例如为了隔离来自天线7和天线8的后瓣以及DUT 3和DUT 4的旁瓣。天线7、天线8从聚焦区照射各自的反射器5、反射器6，以及DUT 3、DUT 4(例如天线阵列)围绕各自的反射器5、反射器6在120×120度的立体角中以主要辐射功率进行操作。要注意，在图1中部分地示出了示例性屏蔽部13、屏蔽部14、屏蔽部15和屏蔽部16。可以根据需要在天线7、天线8与各自的反射器5、反射器6之间引入额外的屏蔽部。

可以将两个对准结构1、2放置成例如以近1米或2米极为靠近，优选地小于2米，以便实现紧凑的测试环境。由于来自DUT 3、DUT 4的主辐射在围绕反射器5、反射器6的120×120立体角(在两个正交方向上与瞄准线成+/-60度)中被定向，因此来自一个DUT的辐射对直接视线内的相邻DUT的影响可忽略不计。例如，来自DUT 3的辐射对直接视线内的DUT 4的影响可忽略不计。另一方面，由DUT 3辐射的电磁波实际上可以以不可忽视的功率到达反射器6。然而，由于DUT 3未放置在反射器6的聚焦区域，因此反射器6将大部分从安静区(DUT 4所在的区域)将来自DUT 3的辐射散射出去。因此，反射器5、反射器6和波束准直机构提供阻断来自相邻测试机构的辐射的自然干扰阻断能力。

重要的是注意，本文中仅通过示例而非限制的方式示出了对准结构的数量以及DUT的数量及其各自的取向。

在图2中示出了根据本发明的第一方面的系统20的第二示例性实施方式。系统20与图1的系统10的区别在于，系统20在对准结构1和对准结构2之间包括附加的多个屏蔽墙21或单个屏蔽墙，以使干扰最小化。屏蔽墙21可以为如下形式：具有金属皮肤的表面、具有RF吸收材料(例如，铁氧体或角锥状泡沫)的片段、或其任一组合。这类屏蔽墙21有利地抑制相邻干扰，特别是在DUT(例如DUT 3)以大于120度的立体角辐射波束的情况下，这些波束会干扰相邻DUT(例如DUT 4)以及干扰紧挨着该相邻DUT 4的DUT。因此，即使一个或多个设备可以以大于120度的主波束立体角进行波辐射，也可以在生产线上测试多个设备。

在图3中示出了根据本发明的第一方面的对对准结构1的反射器5的示例性干扰情况。干扰源30可以为例如相邻DUT。尽管干扰源30对直接视线内的DUT 3的影响可以忽略不计，但是对反射器5的干扰级别却具有相当大的强度。然而，由于干扰源30不是源自于反射器5的聚焦区域，因此反射器5将来自安静区的干扰几乎都散射出去。因此，即使不具有屏蔽的壳体，也可以充分地使对反射器5的干扰最小化。

在图4中示出了根据本发明的第一方面的对对准结构1的DUT 3、天线7的示例性干扰情况。干扰源41、干扰源42可以为来自相邻反射器的散射波，并且干扰源43、干扰源44可以为相邻天线中的一个或多个天线。可替选地，干扰源41、干扰源42、干扰源43、干扰源44可以为来自一个或多个相邻反射器、天线和DUT的任何一种散射。然而，由于在反射器上的波束准直和在120度的立体角内集中的波束辐射，使得干扰源41、干扰源42、干扰源43、干扰源44中的大部分会引起可忽略的功率水平的干扰，因此不会显著影响天线7以及DUT 3。

在图5中示出了根据本发明的第二方面的方法的示例性实施方式。在第一步骤100中，将成形的反射器5布置在对准结构1的顶端，将成形的反射器6布置在对准结构2的顶端。在第二步骤101中，将天线7布置在成形的反射器5的聚焦区域处，将天线8布置在成形的反射器6的聚焦区域处。在第三步骤102中，将被测设备3、被测设备4分别地布置在该多个对准结构1、2的底端，与对应的成形的反射器5、成形的反射器6相对。在这种情况下，所述多个对准结构1、2彼此平行放置而无需屏蔽的壳体。

此外，该方法还包括针对每个对准结构1、2测量相似的性能特性的步骤。附加地或可替选地，该方法还包括针对每个对准结构1、2测量不同的性能特性的步骤。

如果该方法还包括将被测设备3、被测设备4放置生产线上，优选地放置在所述多个对准结构1、2的底端的传送带上，则是特别有利的。

另外，该方法还包括如下步骤：将每个被测设备3、4作为定向天线操作，该定向天线具有在120度的立体角内的主波束。

此外，该方法还包括对利用在120度的立体角内的主波束操作的被测设备3、被测设备4同时执行测量的步骤。

本发明的实施方式可以通过硬件、软件、或其任何组合来实现。本发明的各个实施方式可以通过一个或多个专用集成电路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)、数字信号处理器(Digital Signal Processor，DSP)、数字信号处理设备(DigitalSignal Processing Device，DSPD)、可编程逻辑器件(Programmable Logic Device，PLD)、现场可编程门阵列(Field Programmable Gate Array，FPGA)、处理器、控制器、微控制器、微处理器等来实现。

尽管上文已经描述了本发明的各种实施方式，但是应当理解，仅通过示例而非限制的方式呈现了这些实施方式。在不脱离本发明的精神和范围的前提下，可以根据本文中的公开内容对所公开的实施方式的进行多种修改。因此，本发明的广度和范围不应受上述实施方式中的任一实施方式限制。而是，本发明的范围应根据所附权利要求及其等同来限定。

尽管已经关于一个或多个实现方式示出和描述了本发明，但是对于本领域的技术人员来说，在阅读并理解本说明书和附图之后，将想到等同的改变和修改。另外，尽管可以仅针对多个实现方式中的一个实现方式公开本发明的特定特征，但是这类特征可以与其它实现方式的一个或多个其它特征组合，这对于任一给定或特定应用可以为期望的且有利的。