阅读说明：本技术 一种醚后碳四原料预处理装置 (Four raw materials preprocessing device of carbon behind ether ) 是由 丁书兵 张聪 胡智超 李天朝 黄汝庆 卢分配 于 2020-11-29 设计创作，主要内容包括：本发明提供一种醚后碳四原料预处理装置,包括醚后碳四进料管,第一球阀,吹扫系统,脱水罐,脱氧罐,热氮气进入管,氮气冷却器,中压蒸汽进入管,废气冷凝器,放空罐和真空系统,本发明,真空系统的设置,当原料预处理装置对醚后碳四原料预处理完毕后,打开真空供气阀后,真空泵对U形管进行抽取,在真空发生器的辅助下,在U形管内形成负压,对原料预处理装置中的管道中的残留原料进行抽取,提高原料的排出效果,减少管道中的残留；压缩空气通过压缩空气进入管进入醚后碳四进料管,打开隔离阀和第二球阀,然后将第一球阀关闭,压缩空气进入脱水罐和脱氧罐以及其辅助的管道进行吹扫,对残留原料进行清理,防止残留的原料对管道造成影响。(The invention provides a post-ether carbon four-raw material pretreatment device, which comprises a post-ether carbon four-feeding pipe, a first ball valve, a purging system, a dewatering tank, a deoxidizing tank, a hot nitrogen inlet pipe, a nitrogen cooler, a medium-pressure steam inlet pipe, a waste gas condenser, an emptying tank and a vacuum system, wherein the vacuum system is arranged, after the pre-treatment of the post-ether carbon four-raw material by the raw material pretreatment device is finished, a vacuum gas supply valve is opened, a U-shaped pipe is extracted by a vacuum pump, negative pressure is formed in the U-shaped pipe under the assistance of a vacuum generator, and residual raw materials in a pipeline in the raw material pretreatment device are extracted, so that the discharge effect of the raw materials is improved, and residues in the pipeline are reduced; compressed air gets into four inlet pipes of carbon behind the ether through the compressed air admission pipe, opens isolating valve and second ball valve, then closes first ball valve, and compressed air gets into the drain sump and the deoxidation tank sweeps with and supplementary pipeline, clears up remaining raw materials, prevents that remaining raw materials from causing the influence to the pipeline.)

一种醚后碳四原料预处理装置

技术领域

本发明涉及化工原料处理技术领域，特别是涉及一种醚后碳四原料预处理装置。

背景技术

醚后碳四是MTBE装置副产品，主要包括1-丁烯、正丁烷、异丁烷、顺反2-丁烯等组分。近年来，随着燃气深加工技术的发展，醚后碳四从传统意义上的气体燃料逐渐变身为化工原料，用于生产芳构化汽油、烷基化汽油、醋酸仲丁酯、丁酮等产品。目前，我国醚后碳四产量约1230万吨/年，需求量约3200万吨/年。按炼油厂的原油加工量1000万吨/年测算，可产醚后碳四约30万吨/年。

正丁烯异构装置是MTBE装置的上游处理单元，主要是通过骨架异构工艺，将醚后碳四原料中的正丁烯组分(含1-丁烯和顺反2-丁烯)转化为异丁烯，为后续醚化单元提供原料，生产低硫MTBE产品。目前，国内正丁烯异构装置产能约1152万吨/年，主要集中在山东、宁夏等地区，且几乎都以醚后碳四为原料。正丁烯异构技术采用镁碱类沸石催化剂，该催化剂对原料中二烯烃、氧化物、金属等杂质含量要求较苛刻，原料中杂质含量超标会降低催化剂活性或造成催化剂永久失活，而醚后碳四中丙烯、二烯烃、氧化物、MTBE、甲醇、二甲醚等杂质较高。为满足正丁烯异构装置的进料要求，均须配套原料预处理系统，脱除二甲醚、甲醇、砷化物、氮化物等杂质，满足正丁烯异构单元原料需求。

中国专利申请号201920811688.X提供一种醚后碳四原料预处理装置，该装置包括：包括脱水处理装置、脱氧处理装置、氮气冷却器、废气冷凝器和放空罐；所述脱水处理装置包括至少一个脱水罐；所述脱氧处理装置包括至少一个脱氧罐；每个脱水罐底部连接有醚后碳四的进料管路和热氮气的出气管路，每个脱水罐顶部连接有热氮气的进气管路和脱水后醚后碳四的出料管路；每个脱氧罐底部连接有脱水后醚后碳四的进料管路、中压蒸汽的出气管路、热氮气的出气管路，每个脱水罐顶部连接有中压蒸汽的进气管路、热氮气的进气管路和脱水脱氧后醚后碳四的出料管路。

但是现有的醚后碳四原料预处理装置在处理后内部的醚后碳四原料排不干净，没有辅助吸料机构，而且残留的原料对管道造成影响，不能对预处理系统进行吹扫清理。

发明内容

针对上述的不足，本发明提供一种醚后碳四原料预处理装置。

本发明解决其技术问题所采取的技术方案是：一种醚后碳四原料预处理装置，包括醚后碳四进料管、吹扫系统、脱水罐、脱氧罐、热氮气进入管、氮气冷却器、中压蒸汽进入管、废气冷凝器、放空罐和真空系统，所述的醚后碳四进料管与脱水罐底部连接，所述醚后碳四进料管上串接有第一球阀；所述的吹扫系统设置在第一球阀的后端，并与醚后碳四进料管通过三通管连接；所述的脱水罐顶部通过管道与脱氧罐的底部连接；

所述的热氮气进入管通过管道分别与脱水罐和脱氧罐连接；所述的氮气冷却器串接在热氮气进入管上；所述的中压蒸汽进入管与热氮气进入管通过三通接头连接；

所述的脱水罐和脱氧罐底部通过管道与废气冷凝器连接；所述的放空罐通过管道与废气冷凝器连接；

所述的真空系统与脱氧罐通过管道连接。

作为优化，所述的吹扫系统包括压缩空气进入管，所述的压缩空气进入管与醚后碳四进料管连接，所述压缩空气进入管自上至下依次串接有隔离阀、第一单向阀和第二球阀。当真空系统对原料处理装置重的醚后碳四原料吸附完毕后，压缩空气通过压缩空气进入管进入醚后碳四进料管，打开隔离阀和第二球阀，然后将第一球阀关闭，压缩空气进入脱水罐和脱氧罐以及其辅助的管道进行吹扫，可将预处理装置中残留原料的清理，有效的防止残留的原料对管道造成影响。

作为优化，所述的真空系统包括真空供气阀、第二单向阀、U形管、真空发生器、第三单向阀和醚后碳四出料管，所述的U形管的一端自上至下依次串接有真空供气阀和第二单向阀，所述U形管的另一端串接有真空发生器和第三单向阀。当原料预处理装置对醚后碳四原料预处理完毕后，打开真空供气阀后，真空泵对U形管进行抽取，在真空发生器的辅助下，在U形管内形成负压，对原料预处理装置中的管道中的残留原料进行抽取，提高原料的排出效果，减少管道中的残留。

作为优化，所述的U形管一端通过管道与脱氧罐连接，另一端与真空泵连接。

作为优化，所述的醚后碳四出料管通过三通接头与U形管连接。

一种醚后碳四原料预处理装置的使用方法，包括以下步骤：

S1：当原料预处理装置对醚后碳四原料预处理完毕后，打开真空供气阀，真空泵对U形管进行抽取，在真空发生器的辅助下，在U形管内形成负压，对原料预处理装置中的管道中的残留原料进行抽取；

S2：当真空系统对原料处理装置重的醚后碳四原料吸附完毕后，压缩空气通过压缩空气进入管进入醚后碳四进料管；

S3：打开隔离阀和第二球阀，然后将第一球阀关闭，压缩空气进入脱水罐和脱氧罐以及其辅助的管道进行吹扫，清理预处理装置中残留原料。

本发明的有益效果是：

1、本发明的真空系统的设置，当原料预处理装置对醚后碳四原料预处理完毕后，打开真空供气阀后，真空泵对U形管进行抽取，在真空发生器的辅助下，在U形管内形成负压，对原料预处理装置中的管道中的残留原料进行抽取，提高原料的排出效果，减少管道中的残留；

2、本发明的吹扫系统的设置，当真空系统对原料处理装置重的醚后碳四原料吸附完毕后，压缩空气通过压缩空气进入管进入醚后碳四进料管，打开隔离阀和第二球阀，然后将第一球阀关闭，压缩空气进入脱水罐和脱氧罐以及其辅助的管道进行吹扫，可将预处理装置中残留原料的清理，有效的防止残留的原料对管道造成影响。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明的吹扫系统结构示意图。

图3是本发明的真空系统结构示意图。

图中：

1、醚后碳四进料管，2、第一球阀，3、吹扫系统，31、压缩空气进入管，32、隔离阀，33、第一单向阀，34、第二球阀，4、脱水罐，5、脱氧罐，6、热氮气进入管，7、氮气冷却器，8、中压蒸汽进入管，9、废气冷凝器，10、放空罐，11、真空系统，111、真空供气阀，112、第二单向阀，113、U形管，114、真空发生器，115、第三单向阀，116、醚后碳四出料管。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

如附图1至附图3所示的一种醚后碳四原料预处理装置，包括醚后碳四进料管1，第一球阀2，吹扫系统3，脱水罐4，脱氧罐5，热氮气进入管6，氮气冷却器7，中压蒸汽进入管8，废气冷凝器9，放空罐10和真空系统11，所述的醚后碳四进料管1与脱水罐4底部连接，该醚后碳四进料管1上串接有第一球阀2；所述的吹扫系统3设置在第一球阀2的后端，并与醚后碳四进料管1通过三通管连接；所述的脱水罐4顶部通过管道与脱氧罐5的底部连接；

所述的热氮气进入管6通过管道分别与脱水罐4和脱氧罐5连接；所述的氮气冷却器7串接在热氮气进入管6上；所述的中压蒸汽进入管8与热氮气进入管6通过三通接头连接；

所述的脱水罐4和脱氧罐5底部通过管道与废气冷凝器9连接；所述的放空罐10通过管道与废气冷凝器9连接；

所述的真空系统11与脱氧罐5通过管道连接。

在本实施例中，所述的吹扫系统3包括压缩空气进入管31，隔离阀32，第一单向阀33和第二球阀34，所述的压缩空气进入管31与醚后碳四进料管1连接，该压缩空气进入管31自上至下依次串接有隔离阀32，第一单向阀33和第二球阀34，当真空系统11对原料处理装置重的醚后碳四原料吸附完毕后，压缩空气通过压缩空气进入管31进入醚后碳四进料管1，打开隔离阀32和第二球阀34，然后将第一球阀2关闭，压缩空气进入脱水罐4和脱氧罐5以及其辅助的管道进行吹扫，可将预处理装置中残留原料的清理，有效的防止残留的原料对管道造成影响。

在本实施例中，所述的真空系统11包括真空供气阀111，第二单向阀112，U形管113，真空发生器114，第三单向阀115和醚后碳四出料管116，所述的U形管113的一端自上至下依次串接有真空供气阀111和第二单向阀112，该U形管113的另一端串接有真空发生器114和第三单向阀115，当原料预处理装置对醚后碳四原料预处理完毕后，打开真空供气阀111后，真空泵对U形管113进行抽取，在真空发生器114的辅助下，在U形管113内形成负压，对原料预处理装置中的管道中的残留原料进行抽取，提高原料的排出效果，减少管道中的残留。

在本实施例中，所述的U形管113一端通过管道与脱氧罐5连接，另一端与真空泵连接。

在本实施例中，所述的醚后碳四出料管116通过三通接头与U形管113连接。

一种醚后碳四原料预处理装置的使用方法，包括以下步骤：

S1：当原料预处理装置对醚后碳四原料预处理完毕后，打开真空供气阀111后，真空泵对U形管113进行抽取，在真空发生器114的辅助下，在U形管113内形成负压，对原料预处理装置中的管道中的残留原料进行抽取，提高原料的排出效果，减少管道中的残留；

S2：当真空系统11对原料处理装置重的醚后碳四原料吸附完毕后，压缩空气通过压缩空气进入管31进入醚后碳四进料管1；

S3：打开隔离阀32和第二球阀34，然后将第一球阀2关闭，压缩空气进入脱水罐4和脱氧罐5以及其辅助的管道进行吹扫，可将预处理装置中残留原料的清理，有效的防止残留的原料对管道造成影响。

上述具体实施方式仅是本发明的具体个案，本发明的专利保护范围包括但不限于上述具体实施方式的产品形态和式样，任何符合本发明权利要求书且任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应落入本发明的专利保护范围。