一种曲率自适应集群磁流变抛光自由曲面的方法及装置

本发明涉及超精密加工技术领域,更具体地,涉及一种曲率自适应集群磁流变抛光自由曲面的方法及装置。其中,抛光方法以下步骤：将待加工工件置于旋转平台组件内,使各个抛光头位于待加工工件上方；将磁流变抛光液倒入旋转平台组件中；使各个抛光头实现同步转动；通过旋转平台组件使待加工工件进行旋转,开始抛光；在抛光过程中,使抛光头上下移动进行恒压抛光；y方向直线导轨组件带动旋转平台组件进行y方向的水平低速往复移动,使待加工工件得到均匀抛光。本发明可完好地实现抛光自由曲面的要求,在提高加工效率的基础上保证恒力加工,减轻加工的不均匀性,非常适合对自由曲面的光学元件、半导体、陶瓷等材料进行高效率超精密抛光。

2021-11-02

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一种用于鹅卵石的表面打磨装置

本发明属于打磨装置技术领域,尤其为一种用于鹅卵石的表面打磨装置,包括支撑基座,所述支撑基座的上表面设有三个支撑基板,支撑基座的正上方设有打磨基盘,三个支撑基板的上下两端均分别与打磨基盘外圆周面和支撑基座上表面固定连接,三个支撑基板以打磨基盘的轴心线等间距设置,且相互邻近的两个支撑基板之间打磨基盘的外圆周面分别固定安装有打磨基箱一、打磨基箱二和打磨基箱三。通过使用体积大小不同的研磨料对鹅卵石进行逐步的打磨,能够有效的提高鹅卵石表面的打磨效率,利用体积较大的磨料对鹅卵石进行前期初步的打磨,在利用体积适中和较小体积的磨料对鹅卵石进行更加全面的打磨,提高打磨效率确保鹅卵石表面的打磨程度较为均一。

2021-11-02

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一种挂式胶囊抛光机

本发明公开一种挂式胶囊抛光机,其特征在于：包括机架,机架上设置有抛光机构和进料斗,进料斗下部设有送料泵,送料泵上连接有送料管,送料管另一端位于抛光机构的上方,抛光机构下方设置有出料斗,抛光机构包括抛光桶,抛光桶上下端均设置开口,抛光桶上下端的开口外均设置有密封机构,密封机构能够使抛光桶上下端的开口密封或露出。

2021-11-02

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一种钢铸件抛光装置

本发明公开了一种钢铸件抛光装置,包括电机底座(13)(1)、电机(2)、减速箱(3)、传动轮(4)、两个加强梁(5)、传动杆(6)、第一万向节(7)、传动轴(8)、瓮体(9)、底板(10)、两个安装板(11)、第二万向节(12)和四个底座(13)；本发明具有高效打磨和抛光钢铸件等优点,因此本发明可广泛应用于机械工程领域。

2021-11-02

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一种立式胶囊抛光机

本发明公开一种立式胶囊抛光机,其特征在于：包括机架,机架中间位置设有抛光机构,抛光机构上下方分别设置有进料斗和出料斗,机架一侧设有上料机构,抛光机构包括抛光桶,抛光桶上下端均设置开口,抛光桶上下端的开口外均设置有密封机构,密封机构能够使抛光桶上下端的开口密封或露出,抛光桶两侧分别连接有驱动轴和转动轴,转动轴内部开设有进粉孔,进粉孔与抛光桶内部连通。本发明通过设置粉末供给机构来定量向抛光桶内供应抛光粉,从而更好地对胶囊进行抛光处理。

2021-11-02

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粉末注射成形生坯用的去毛刺装置

本发明公开了一种粉末注射成形生坯用的去毛刺装置,其用于对粉末注射成形生坯进行去毛刺,其包括：磁力发生机构；支架,其一端与所述磁力发生机构固定连接；悬吊单元,其能转动地连接在所述支架的另一端上；多个装料容器,多个所述装料容器沿周向均匀分布地设置在所述悬吊单元上,任一所述装料容器内设有多个具有导磁性的研磨介质。本方案具有在确保生坯去毛刺效率的前提下避免生坯受损的优点。

2021-11-02

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一种LTCC片式陶瓷滤波器的倒角方法

本发明公开了一种LTCC片式陶瓷滤波器的倒角方法,涉及片式叠层陶瓷元件技术领域。本发明所述LTCC片式陶瓷滤波器的倒角方法包括如下步骤：(1)将LTCC片式陶瓷滤波器、磨料、缓冲物质放入球磨罐中球磨；(2)球磨结束后进行筛分；(3)将分离出的LTCC片式陶瓷滤波器进行排胶烧结；所述磨料为氧化铝磨球或氧化锆磨球；所述缓冲物质包含玉米淀粉、糯米淀粉、木薯粉、粘米粉中的至少一种。本发明所述LTCC片式陶瓷滤波器的倒角方法既可以倒出圆角,还可以保证LTCC片式陶瓷滤波器表面的Mark标识不被磨浅或磨掉。

2021-11-02

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一种半导体干燥机用打磨膏输送机构

本发明涉及打磨技术领域,尤其涉及一种半导体干燥机用打磨膏输送机构,包括,储液部,所述储液部适于提供打磨膏；打磨部,所述打磨部包括位于所述储液部底部的打磨筒、位于所述打磨筒底部的锥形筒、设置在所述锥形筒底部的作业位和设置在所述锥形筒侧壁上的出口,所述作业位由挡板围合而成,所述挡板与所述锥形筒侧壁形成溢料槽,所述溢料槽与所述出口连通；输送部,所述输送部位于所述作业位底部。本发明为一种半导体干燥机用打磨膏输送机构,通过设置锥形筒和挡板,使得将打磨膏和零件分开,零件掉入输送部,打磨膏则从出口流出进行回收处理。

2021-10-29

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一种半导体晶圆干燥系统用打磨膏输送机构

本发明涉及打磨设备领域,尤其涉及一种半导体晶圆干燥系统用打磨膏输送机构,包括,储液部,所述储液部适于提供打磨膏；输送部,所述输送部适于输送打磨膏,所述输送部包括与所述输送部连通的管道、设置在所述管道上的阀门和设置在所述管道上的气泵；稳定部,所述稳定部适于展开以提高输送机构在输送过程中的稳定性。本发明为一种半导体晶圆干燥系统用打磨膏输送机构,通过展开保护翼板,将保护翼板铺平,从而撑住输送机构,提高整个输送机构的稳定性；当不需要使用保护翼板时,将保护翼板收起,保护翼板将输送机构包住,从而实现对输送机构的保护。

2021-10-29

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一种孔内表面复合抛光方法及装置

本发明公开了一种孔内表面复合抛光方法及装置,方法包括如下步骤：将推进机构安装在需要抛光孔内表面的工件两端,并用夹具夹紧推进机构和工件；推进机构包括注液腔,将磁性机构套在工件外,将动力机构与磁性机构连接,将超声波振动装置与夹具连接；配制抛光液,抛光液包括磁性物质及磨料,然后将抛光液加入到注液腔中；启动推进机构和动力机构,动力机构驱动磁性机构旋转,推进机构推动抛光液通过工件孔,进行多个正向和反向抛光循环,直至达到所需要的抛光要求；关闭推进机构和动力机构。本发明实现了各类型的孔内表面去毛刺和确定性抛光,简化了孔内表面抛光的操作技术,减少了劳动强度,明显提高了抛光效率和抛光精度。

2021-10-29

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