本发明涉及聚酯母粒技术领域,尤其是一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法,包括以下步骤：1)将100份对苯二甲酸、130份乙二醇和0.001-0.002份醋酸钠配制成浆料,然后转移至酯化反应釜中进行酯化反应,然后加入0.02-0.05份乙醇锑和对甲苯磺酸的复合催化剂、10-20份第三单体依次进行预缩聚反应和终缩聚反应,在终缩聚反应阶段加入0.001-0.002份磷酸三甲酯,2)终缩聚结束降温过程中加入光固化单体和光引发剂,最后将终聚物卸到冷却池,切片得到聚酯母料；本发明中的聚酯母料在后续制备光学基膜的时候,可以通过辐照步骤提高光学基膜的硬度,从而可以降低抗粘连剂的添加,从而降低光学基膜的折射率,得到高透光低雾度的光学基膜。

本发明属于光刻领域,涉及一种底部抗反射膜树脂和组合物及图案形成方法。所述底部抗反射膜树脂包括含氟双酯基结构单元以及任选的不含氟双酯基结构单元；所述底部抗反射膜树脂的重均分子量Mw为1000～100000；所述含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为30wt％以上,所述不含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为0～20wt％。本发明提供的底部抗反射膜树脂和组合物能够在基本不影响折光率的基础上降低吸光度,极具工业应用前景。