化学气相沉积设备

本公开提供了一种化学气相沉积设备,属于半导体技术领域。该化学气相沉积设备包括反应腔体、供气组件、气体分配盘、气体控制组件。其中,反应腔体具有多个用于承载晶圆的承载台。供气组件,用于提供反应气体。气体分配盘,数量为多个且与多个承载台一一对应设置。气体控制组件,数量为多个且与多个气体分配盘一一对应设置。气体分配盘与供气组件之间,通过对应的气体控制组件连接。这样能够通过气体控制组件调节反应气体的流量或者通气时间,以控制对应的气体分配盘的气体流量或者通气时间,减小在不同晶圆表面沉积薄膜膜厚的差异,从而可以提高在晶圆上所沉积薄膜的质量,进而降低成本。

2021-11-02

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一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟镀膜工艺

本发明提供一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟镀膜工艺,采用可镀多种膜的管式PECVD石墨舟结构,工艺流程如下：S1：机械手抓取硅片插入所述镂空区域的勾点上,使所述硅片位于所述镂空区域中,所述硅片的正面和背面分别位于两个所述镀膜通道中；S2：将所述镉板插入所述隔板安装槽内,对所述镀膜通道进行密封；S3：根据镀膜设计要求,在所述硅片两侧的镀膜通道中分别通入镀膜气体或惰性气体,并将所述电极与电源连通,完成镀膜。本发明单个设备上可以镀多种膜,节省了倒片时间,同时减少倒片过程的划伤,提升了良率。同时避免镀膜过程暴露在空气中,减少污染。

2021-11-02

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固体源前体容器

本公开总体上涉及一种固体源前体输送系统。更具体地,本公开涉及一种固体源前体容器,其可用于汽化储存在容器内的固体前体的供应。公开的源容器利用容器的内部内的多个单独的腔或凹穴。每个单独的凹穴可装载有前体。在一布置中,凹穴可装载有压缩的前体材料的预成型块,其密度通常高于在将固体前体填充在源容器内时先前实现的密度。固体前体材料的增加的密度增加了源容器的容量,导致更换和/或重新填充源容器之间的间隔更长。

2021-10-29

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基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备

本发明公开了一种基于流化床和化学气相沉积技术的粉体颗粒包覆设备,包括：加热炉；流化管,流化管安装于所述加热炉的炉腔内,流化管由下至上间隔设置有下盖板、一级流化床、二级流化床和上盖板,下盖板与一级流化床之间具有流化气腔,一级流化床与所述二级流化床之间具有一级流化腔,所述二级流化床与所述上盖板之间具有二级流化腔；流化气体源通过所述流化气体管道与所述流化气腔相连通,所述第一前驱体管道将第一前驱体通入所述一级流化腔；第二前驱体管道将第二前驱体通入所述二级流化腔；尾气管道的一端与所述二级流化腔相连通,其另一端与尾气处理系统相连。其解决了粉体颗粒包覆过程中前驱体易于孔口沉积、粉体流态化不均匀的技术问题。

2021-10-29

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一种工业大批量生产直立式石墨烯复合碳毡的方法

本发明公开一种工业大批量生产直立式石墨烯复合碳毡的方法,该方法采用直流或交流电源直接连接于碳毡两侧,当电流通过碳毡时,碳毡由于焦耳效应产生高温,通过化学气相沉积的方法制备直立式石墨烯复合碳毡。该方法解决了制备直立式石墨烯复合碳毡的现有技术中外部加热源升温速度慢与直立式石墨烯生长依赖的等离子体发生设备昂贵等问题,并且采用卷对卷的方式可以实现对立式石墨烯复合碳毡商业化大批量生产。

2021-10-26

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一种沉积炉的连续化进出料的装置及其方法

本发明公开一种沉积炉的连续化进出料的装置及其方法,沉积炉置于一自由伸缩隔热桶内,还包括一自动料盘和丝杠升降机构,自动料盘在丝杠升降机构的作用下完成提升和下降,提升时,提升至沉积炉的炉底位置,且自由伸缩隔热桶在所述丝杠升降机构的作用下完成收缩和伸展。本发明主要解决了沉积炉的连续化作业问题,可以有效提升沉积炉的工作效率,降低人力及资源浪费。

2021-10-26

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一种提高微波CVD窗口耐热性的复合窗口结构

本发明公开了一种提高微波CVD窗口耐热性的复合窗口结构,包括：真空组件及固接于所述真空组件上的复合窗口组件；所述真空组件包括多个金属反射挡板及用于封盖金属反射挡板,多个所述金属反射挡板构成一密封腔室,所述密封腔室的上端通过端盖进行密封,所述金属反射挡板上一体式连接于平面板,所述平面板上开设有微波孔；所述复合窗口组件包括固定于所述平面板上的第一窗口件及固接于所述平面板远离第一窗口件一端面上的第二窗口件,所述第一窗口件与所述第二窗口件平行且间隔设置。根据本发明,自身良好的散热特点,形成一个较低温度的热屏蔽层,避免传统的微波窗口过热,可以大幅度提高微波馈入真空腔的功率值。

2021-10-19

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多喷淋头化学气相沉积的反应器、方法及产品

一种形成千米级长度的高温超导体带的方法,其通过下述进行：将带纹理的带从卷到卷馈送通过反应器腔室；使高温超导体前体从定位在腔室中的长前体喷淋头流动,前体喷淋头沿带的方向伸长；使气体从前体喷淋头的任一侧上的第一和第二长气帘喷淋头流动；以及用来自反应器相对侧上的照明源照亮带的上表面,照明源定位成允许照明通过相应的一个气帘喷淋头下方和前体喷淋头下方,而到达带的上表面。

2021-10-15

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一种光学玻璃的表面防护真空镀膜系统

本发明涉及一种光学玻璃的表面防护真空镀膜系统,包括,箱体、加持装置、喷头、移轨装置、检测装置、抽真空装置、气压检测装置、中控模块。包括。本发明在进行镀膜的时候,设置初镀和终镀,并根据初镀的镀膜厚度对终镀时的喷头喷射流量、喷头移动速度和喷头距玻璃的距离,通过检测镀膜过程中的膜层厚度,并对下一阶段各部件工作状态进行调节,保障了最终镀膜完成时的镀膜厚度,提高了产品的成品率,同时,在终镀完成后,进一步通过透光的强度检测膜层厚度,减少了后期检测所用时间,加大了生产的效率。

2021-10-15

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基板处理装置和清洁方法

本发明涉及基板处理装置和清洁方法。提供一种能够选择性地清洁喷射器的内部的技术。本公开的一个方式的基板处理装置具有：处理容器,其容纳基板；喷射器,其包括第1连接口和第2连接口,内部与所述处理容器内连通；排气管,其供所述处理容器内排气；原料气体导入管,其与所述第1连接口连接,向所述喷射器内导入原料气体；清洁气体导入管,其经由所述第1连接口和所述第2连接口中的一者向所述喷射器内导入清洁气体；以及通气管,其连接所述第1连接口和所述第2连接口中的另一者与所述排气管,供所述喷射器内排气。

2021-10-12

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