阅读说明：本技术 数据处理方法及系统 (Data processing method and system ) 是由 解为梅 于 2020-06-18 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种数据处理方法,其用于将Design Gauge导出CD-SEM量测数据与制程工艺和或量测图片建立对应关系,包括：从Design Gauge导出的.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标；提取量测点的制程工艺信息重新构建量测值与晶圆对应的分布格式；从.csv文件获取原始量测图片文件名信息,将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名,将检索到的图片按照晶圆图片格式插入到最终的输出文件。本发明还公开了一种数据处理系统。采用本发明的对Design Gauge数据进行处理,避免了人工核查能通过系自动完成需求格式转换,极大地提高了工程师的工作效率。(The invention discloses a data processing method for establishing a corresponding relation between Design Gauge derived CD-SEM measurement data and a process technology and/or a measurement picture, which comprises the following steps: extracting measuring point names and measuring point coordinates from a csv file derived from Design Gauge; extracting the process information of the measuring points to reconstruct the distribution format of the measuring values corresponding to the wafers; and acquiring file name information of the original measurement picture from the csv file, retrieving the file name of the original measurement picture from a picture folder exported by the CD-SEM measurement data, and inserting the retrieved picture into a final output file according to a wafer picture format. The invention also discloses a data processing system. By adopting the method and the device for processing Design Gauge data, the condition that manual checking can automatically complete required format conversion through a system is avoided, and the working efficiency of engineers is greatly improved.)

数据处理方法及系统

技术领域

本发明涉及半导体生产制造领域，特别是涉及一种将Design Gauge导出CD-SEM量测数据与制程工艺和或量测图片建立对应关系的数据处理方法。本发明还涉及一种将Design Gauge导出CD-SEM量测数据与制程工艺和或量测图片建立对应关系的数据处理系统。

背景技术

OPC部门在模型建立、模型仿真、weak point分析等过程中需要处理大量的CDSEM量测数据。Design Gauge软件平台提供了基于版图进行离线CD-SEM recipe建立及量测数据检查的解决方案，其优点在于可以批量建立方案recipe，节省CD-SEM机台借机时间，已经成为OPC部门模型数据收集、模型验证数据收集以及工艺弱点数据收集等需要收集大量CD-SEM数据的必要工具DesignGauge工具在CDSEM recipe建立及数据检查方面带来了极大的便利，已成为大量CDSEM量测及数据分析不可或缺的工具。

然而，DesignGauge在数据导出方面仍有不足，目前只能导出一种数据格式，Design Gauge仅提供列表形式的数据文件以及单独的量测图片文件，且无法将图片导入至数据文件中，数据分析过程中需要与wafer shot建立对应关系或需要查看量测图片时需要人工进行数据格式调整，耗费大量的人力。例如，分析FEM wafer data或CDU data时，需要人工转换成wafer格式的数据。此外，其他CDSEM数据分析软件如PWA尚不支持DesignGauge格式的数据，在进行工艺窗口分析时同样需要人工转换。在另外，在使用PWA软件分析量测的FEM数据时，由于PWA软件不支持Design Gauge导出的数据格式，同样需要进行人工转换。

发明内容

在发明内容部分中引入了一系列简化形式的概念,该简化形式的概念均为本领域现有技术简化，这将在

具体实施方式

部分中进一步详细说明。本发明的发明内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

本发明要解决的技术问题是提供一种能将Design Gauge导出CD-SEM量测数据与制程工艺和或量测图片建立对应关系的数据处理方法。

本发明要解决的另一技术问题是提供一种格式转换的功能，用于PWA软件。

为解决上述技术问题，本发明提供的数据处理方法，包括以下步骤：

S1，从Design Gauge导出的.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标；

S2，提取量测点的制程工艺信息重新构建量测值与晶圆对应的分布格式；

S3，从.csv文件获取原始量测图片文件名信息，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

可选择的，进一步改进所述的数据处理方法，采用下述步骤替换步骤S3；

S3’，根据制程工艺信息、量测模板(EPS)信息及图片信息构建叠加量测信息图片的文件名，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

可选择的，进一步改进所述的数据处理方法，该数据处理方法至少能通过Python编程实现。

本发明提供一种数据处理系统，包括：

信息提取模块，其用于从Design Gauge导出的.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标；

第一数据处理模块，其用于提取量测点的制程工艺信息重新构建量测值与晶圆对应的分布格式；

第二数据处理模块，其用于从Design Gauge导出的.csv文件获取原始量测图片文件名信息，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，第二数据处理模块，其根据制程工艺信息、量测模板(EPS)信息及图片信息构建叠加量测信息图片的文件名，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能将Design Gauge导出CD-SEM量测值按照晶圆图片格式输出至新的.xlsx文件中。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能将选中的量测图片按照晶圆图片格式输出至新的.xlsx文件中。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能将曝光条件信息输出到最终的输出文件对应的制程工艺信息中。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能在界面上标记出符合条件的测量值。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能在界面上设置目标ADI值的可接受变化范围。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能在界面上高光显示被权利要求10中所设定条件选择出的的数据和图片内容。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能对FEM数据进行拟合处理，并计算出最优光刻条件，即能量和聚焦平面位置。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能根据PWA软件输出文件的格式要求将Design Gauge输出CD-SEM量测数据转换.txt格式作为PWA软件输入文件。

可选择的，进一步改进所述的数据处理系统，能通过Python编程实现。

Design Gauge导出的CD-SEM量测数据的基本结构如图1所示，包含如下三部分内容，关于量测数据详细信息的.txt文件、量测数据经过一定格式处理的.csv文件以及包含原始量测图片和叠加量测标记的图片的文件夹，其中原始图片的命名与.csv文件EP_Image列中一致。本发明在数据处理时的基本原理如下：从.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标，并通过提取量测点的shot信息重新构建关于量测值与wafer对应的分布格式。从.csv文件中直接获取原始量测图片的文件名信息或根据shot、量测模板(EPS)及MP信息构建叠加量测信息图片的文件名，随后从导出的图片文件夹中检索相应图片，并按照wafer map格式***到最终的输出文件中。

采用本发明的对Design Gauge数据进行处理，能将Design Gauge导出CD-SEM量测数据通过格式转换(例如通过python实现的脚本)与制程工艺和或量测图片建立对应关系，将数据转换为与wafer shot对应的格式时，可选择输出曝光条件、量测图片等，避免了人工核查能极大地提高了工程师的工作效率。此外，还可以通过脚本将数据转换成PWA软件支持的.txt格式文件用于PWA window分析。

附图说明

本发明附图旨在示出根据本发明的特定示例性实施例中所使用的方法、结构和/或材料的一般特性，对说明书中的描述进行补充。然而，本发明附图是未按比例绘制的示意图，因而可能未能够准确反映任何所给出的实施例的精确结构或性能特点，本发明附图不应当被解释为限定或限制由根据本发明的示例性实施例所涵盖的数值或属性的范围。下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明：

图1是本发明对Design Gauge导出数据的基本结构提取信息基本原理示意图。

图2是本发明数据处理方法第一实施例流程示意图。

图3是本发明数据处理方法第二实施例流程示意图。

具体实施方式

以下通过特定的具体实施例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容充分地了解本发明的其他优点与技术效果。本发明还可以通过不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点加以应用，在没有背离发明总的设计思路下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。本发明下述示例性实施例可以多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的具体实施例。应当理解的是，提供这些实施例是为了使得本发明的公开彻底且完整，并且将这些示例性具体实施例的技术方案充分传达给本领域技术人员。

第一实施例，如图2所示，本发明提供的数据处理方法，包括以下步骤：

S1，从Design Gauge导出的.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标；

S2，提取量测点的制程工艺信息重新构建量测值与晶圆对应的分布格式；

S3，从.csv文件获取原始量测图片文件名信息，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

第二实施例，如图3所示，本发明提供的数据处理方法，包括以下步骤：

S1，从Design Gauge导出的.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标；

S2，提取量测点的制程工艺信息重新构建量测值与晶圆对应的分布格式；

S3’，根据制程工艺信息、量测模板(EPS)信息及图片信息构建叠加量测信息图片的文件名，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

其中，无论是上述第一实施例还是第二实施例的数据处理方法至少能通过计算机编程技术实现，例如Python编程实现。

第三实施例，本发明提供一种数据处理系统，包括：

信息提取模块，其用于从Design Gauge导出的.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标；

第一数据处理模块，其用于提取量测点的制程工艺信息重新构建量测值与晶圆对应的分布格式；

第二数据处理模块，其用于从Design Gauge导出的.csv文件获取原始量测图片文件名信息，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

第四实施例，本发明提供一种数据处理系统，包括：

信息提取模块，其用于从Design Gauge导出的.csv文件中提取量测点命名及量测点坐标；

第一数据处理模块，其用于提取量测点的制程工艺信息重新构建量测值与晶圆对应的分布格式；

第二数据处理模块，其根据制程工艺信息、量测模板(EPS)信息及图片信息构建叠加量测信息图片的文件名，将CD-SEM量测数据导出的图片文件夹中检索原始量测图片文件名，将检索到的图片按照晶圆图片格式***到最终的输出文件。

其中，无论是上述第三实施例还是第四实施例的数据处理系统均能通过改变相应的格式对应关系实现下述功能；

能将Design Gauge导出CD-SEM量测值按照晶圆图片格式输出至新的.xlsx文件中。

数据处理系统能将选中的量测图片按照晶圆图片格式输出至新的.xlsx文件中。

数据处理系统能将曝光条件信息输出到最终的输出文件对应的制程工艺信息中。

数据处理系统能在界面上标记出符合条件的测量值。

数据处理系统能在界面上设置目标ADI值的可接受变化范围。

数据处理系统能在界面上高光显示被权利要求10中所设定条件选择出的的数据和图片内容。

数据处理系统能对FEM数据进行拟合处理，并计算出最优光刻条件，即能量和聚焦平面位置。

数据处理系统能根据PWA软件输出文件的格式要求将Design Gauge输出CD-SEM量测数据转换.txt格式作为PWA软件输入文件。

除非另有定义，否则这里所使用的全部术语(包括技术术语和科学术语)都具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的意思相同的意思。还将理解的是，除非这里明确定义，否则诸如在通用字典中定义的术语这类术语应当被解释为具有与它们在相关领域语境中的意思相一致的意思，而不以理想的或过于正式的含义加以解释。

以上通过具体实施方式和实施例对本发明进行了详细的说明，但这些并非构成对本发明的限制。在不脱离本发明原理的情况下，本领域的技术人员还可做出许多变形和改进，这些也应视为本发明的保护范围。