阅读说明：本技术 快刀伺服系统和电雕系统及电雕控制方法 (Fast knife servo system, electric carving system and electric carving control method ) 是由 贾松涛 于 2020-05-28 设计创作，主要内容包括：本发明涉及一种快刀伺服系统和电雕系统及电雕控制方法,包括：雕刻头；移动单元,用于带动所述雕刻头沿版辊的轴向运动；辅助运动机构,用于带动所述雕刻头沿垂直于所述版辊的圆柱面运动；控制系统,包括：用于驱动所述移动单元的移动单元驱动模块；雕刻头驱动模块,用于驱动所述雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动；辅助运动机构驱动模块,用于在所述雕刻头开始雕刻起雕点之前,驱动所述雕刻头向靠近版辊的方向移动且移动距离小于所述起雕点的穴深；还用于在雕刻头响应进入稳定状态后,驱动所述雕刻头向远离版辊的方向移动。本发明通过雕刻头驱动模块和辅助运动台的配合,保证起雕点的网穴尺寸能与设计尺寸一致。(The invention relates to a fast knife servo system, an electric carving system and an electric carving control method, wherein the fast knife servo system comprises: an engraving head; the moving unit is used for driving the engraving head to move along the axial direction of the printing roller; the auxiliary movement mechanism is used for driving the engraving head to move along a cylindrical surface vertical to the printing roller; a control system, comprising: a moving unit driving module for driving the moving unit; the engraving head driving module is used for driving a tool tip of the engraving head to reciprocate perpendicular to the cylindrical surface of the printing roller; the auxiliary motion mechanism driving module is used for driving the engraving head to move towards the direction close to the plate roller before the engraving head starts to engrave the engraving starting point, and the moving distance is smaller than the pit depth of the engraving starting point; and the engraving head is also used for driving the engraving head to move towards the direction far away from the plate roller after the engraving head responds to enter a stable state. According to the invention, through the matching of the engraving head driving module and the auxiliary motion table, the size of the mesh point of the engraving starting point can be ensured to be consistent with the design size.)

快刀伺服系统和电雕系统及电雕控制方法

技术领域

本发明涉及工件的加工，特别是涉及一种快刀伺服系统，还涉及一种电雕系统，还涉及一种电雕控制方法。

背景技术

随着现代社会的发展，人们对印刷质量的要求越来越高，而版辊是影响其质量的关键因素。版辊形式上有凸版、平板和凹版,其中凹版以其优良性能占据着市场主流。凹版印刷制版方法包括：刻蚀、激光雕刻和电雕等几种方法。电雕制版方法发展于上世纪50年代，电雕制版有以下优点：1.重复性强；2.网点面积和深度可变，可以印制出色彩层次丰富、轮廓清晰、立体感和质感较强的印刷品；3.成本低廉(满足一定产量的前提下)。所以电雕制版仍然是应用最广泛的制版方法。目前电雕制版最先进的国外雕刻头可达到12000Hz，加工精度可达数微米。

电雕制版的关键技术之一是对雕刻头的控制，其性能对印刷质量有决定性的影响。雕刻头是能够输出高频往复运动的电-机械转换装置，其基本原理是依靠洛仑兹力驱动刀杆，带动金刚石刀尖切入辊筒表面的铜层，同时采用高刚度弹簧提供刀杆回复力，并采用磁流体衰减残余振动。对于运动幅度+/-50μm，加工频率12000Hz的雕刻头，其最大速度3.77m/s，最大加速度28424G。一直以来，高速高精凹印电雕制版机器的技术被德国、美国、日本等发达国家的少数公司掌握。对于这种高速高精结构的控制，对实现制造业关键零部件的突破具有重要意义。

发明人在实际生产中发现，雕刻头开始雕刻的第一个点——也就是通常所说的起雕点——的尺寸往往会比设计尺寸要小。

发明内容

基于此，有必要针对起雕点的尺寸比设计尺寸小的问题，提供一种快刀伺服系统和电雕系统及电雕控制方法。

一种快刀伺服系统，其特征在于，包括：雕刻头；移动单元，用于带动所述雕刻头沿版辊的轴向运动；辅助运动机构，用于带动所述雕刻头沿垂直于所述版辊的圆柱面运动；控制系统，包括：用于驱动所述移动单元的移动单元驱动模块；雕刻头驱动模块，用于驱动所述雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动；辅助运动机构驱动模块，用于在所述雕刻头开始雕刻起雕点之前，驱动所述雕刻头向靠近版辊的方向移动且移动距离小于所述起雕点的穴深；还用于在雕刻头响应进入稳定状态后，驱动所述雕刻头向远离版辊的方向移动。

在其中一个实施例中，还包括主轴模块，所述主轴模块包括主轴和主轴动力单元，所述主轴动力单元用于通过所述主轴带动所述版辊转动。

在其中一个实施例中，还包括靠头模块，所述靠头模块包括靠头电机和靠头，所述靠头电机用于带动所述靠头将所述雕刻头的刀尖压在所述版辊表面。

在其中一个实施例中，所述辅助运动机构包括压电电机驱动或音圈电机驱动的运动台。

在其中一个实施例中，所述辅助运动机构驱动模块在所述雕刻头开始雕刻起雕点之前驱动所述雕刻头向靠近版辊的方向移动的距离与在雕刻头响应进入稳定状态后驱动所述雕刻头向远离版辊的方向移动的距离相等。

在其中一个实施例中，所述雕刻头驱动模块输出雕刻头指令驱动所述雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动，所述雕刻头指令包括直流指令和交流指令，所述直流指令用于决定所述雕刻头在版辊表面雕刻的网穴深度，所述交流指令用于决定所述雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动的周期。

在其中一个实施例中，所述辅助运动机构驱动模块还用于在所述直流指令的幅值突变时，提前于所述突变驱动所述雕刻头向所述突变对应的雕刻头移动方向移动。

一种电雕系统，包括：雕刻头；移动单元，用于带动所述雕刻头沿版辊的轴向运动；辅助运动机构，用于带动所述雕刻头沿垂直于所述版辊的圆柱面运动；控制系统，包括：用于驱动所述移动单元的移动单元驱动模块；雕刻头驱动模块，用于驱动所述雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动；辅助运动机构驱动模块，用于在所述雕刻头开始雕刻起雕点之前，驱动所述雕刻头向靠近版辊的方向移动；还用于在雕刻头响应进入稳定状态后，驱动所述雕刻头向远离版辊的方向移动。

在其中一个实施例中，还包括主轴模块，所述主轴模块包括主轴和主轴动力单元，所述主轴动力单元用于通过所述主轴带动所述版辊转动。

在其中一个实施例中，还包括靠头模块，所述靠头模块包括靠头电机和靠头，所述靠头电机用于带动所述靠头将所述雕刻头的刀尖压在所述版辊表面。

在其中一个实施例中，所述辅助运动机构包括压电电机驱动或音圈电机驱动的运动台。

在其中一个实施例中，所述辅助运动机构驱动模块在所述雕刻头开始雕刻起雕点之前驱动所述雕刻头向靠近版辊的方向移动的距离与在雕刻头响应进入稳定状态后驱动所述雕刻头向远离版辊的方向移动的距离相等。

在其中一个实施例中，所述雕刻头驱动模块输出雕刻头指令驱动所述雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动，所述雕刻头指令包括直流指令和交流指令，所述直流指令用于决定所述雕刻头在版辊表面雕刻的网穴深度，所述交流指令用于决定所述雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动的周期。

在其中一个实施例中，所述辅助运动机构驱动模块还用于在所述直流指令的幅值突变时，提前于所述突变驱动所述雕刻头向所述突变对应的雕刻头移动方向移动。

一种电雕控制方法，包括：辅助运动机构在雕刻头驱动模块驱动雕刻头开始雕刻起雕点之前，将所述雕刻头向靠近版辊的方向移动，且移动距离小于所述起雕点的穴深；雕刻头驱动模块驱动雕刻头的刀尖垂直于所述版辊的圆柱面往复运动，以雕刻网穴；辅助运动机构在雕刻头响应进入稳定状态后，将所述雕刻头向远离版辊的方向移动；移动单元带动所述雕刻头沿版辊的轴向运动。

在其中一个实施例中，还包括通过主轴带动所述版辊转动的步骤。

在其中一个实施例中，还包括靠头将雕刻头的刀尖压在版辊表面的步骤。

在一个实施例中，距离c1与距离c2相等。

在一个实施例中，还包括在雕刻头指令的直流指令的幅值突变时，辅助运动机构提前于该突变带动雕刻头向突变的直流指令对应的雕刻头移动方向移动的步骤，且移动距离d1小于该突变的直流指令的幅值对应的网穴的穴深。

在一个实施例中，还包括在雕刻头响应进入稳定状态后，辅助运动机构带动雕刻头向远离版辊的方向移动距离d2，从而取消位移补偿。

在一个实施例中，距离d1与距离d2相等。

上述快刀伺服系统和电雕系统及电雕控制方法，设置有独立于移动单元和雕刻头驱动模块的辅助运动机构，通过辅助运动机构在开始雕刻起雕点之前提前将雕刻头定位到更靠近版辊的位置，补偿由于雕刻头驱动模块驱动雕刻头滞后导致的响应不及时、不到位问题。而当雕刻头响应进入稳定状态后，再通过辅助运动机构将雕刻头后退取消位移补偿。通过雕刻头驱动模块和辅助运动台的配合，保证起雕点的网穴尺寸能与设计尺寸一致。

附图说明

为了更好地描述和说明这里公开的那些发明的实施例和/或示例，可以参考一幅或多幅附图。用于描述附图的附加细节或示例不应当被认为是对所公开的发明、目前描述的实施例和/或示例以及目前理解的这些发明的最佳模式中的任何一者的范围的限制。

图1是示例性的电雕机结构的示意图；

图2是雕刻头的指令与直流分量，以及对应的版辊表面加工的网穴的示意图；

图3是一示例性的雕刻头在起雕点的指令与对应的雕刻头响应的时序图；

图4是一实施例中快刀伺服系统和电雕系统共同具备的部分机械机构的示意图；

图5是雕刻头在起雕点的直流指令与辅助运动机构驱动模块在雕刻头开始雕刻起雕点之前，驱动雕刻头向靠近版辊的方向移动对应的驱动指令的时序示意图；

图6是一实施例中电雕控制方法的流程图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“竖直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。当元件或层被称为“在...上”、“与...相邻”、“连接到”或“耦合到”其它元件或层时，其可以直接地在其它元件或层上、与之相邻、连接或耦合到其它元件或层，或者可以存在居间的元件或层。相反，当元件被称为“直接在...上”、“与...直接相邻”、“直接连接到”或“直接耦合到”其它元件或层时，则不存在居间的元件或层。应当明白，尽管可使用术语第一、第二、第三等描述各种元件、部件、区、层和/或部分，这些元件、部件、区、层和/或部分不应当被这些术语限制。这些术语仅仅用来区分一个元件、部件、区、层或部分与另一个元件、部件、区、层或部分。因此，在不脱离本发明教导之下，下面讨论的第一元件、部件、区、层或部分可表示为第二元件、部件、区、层或部分。

当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合。单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也意图包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。

图1是示例性的电雕机结构的示意图。正常工作时，电雕机的主轴在交流伺服电机的带动下使版辊高速旋转，雕刻头在靠头电机的驱动下压在主轴驱动的版辊表面，小车在伺服电机丝杠的传动下，带动雕刻头以低速连续运动或以步进方式沿版辊的轴向移动。电雕控制系统中的工控机将电雕机待加工的图案转换成数字化的图像信息，雕刻头驱动模块再通过数模转换器将数字信号经过转换成模拟信号，控制雕刻头以固定频率(4K～8KHz)在版辊铜层表面雕刻出不同大小和深度的雕刻点(网穴)。

电雕机的辅助编码器(辅编)测量版辊位置的原理为：编码器包括叠设的两个光栅(比如一个光栅码盘和一个光栅光圈)，当两个光栅之间发生相对移动时，会产生同步移动的莫尔条纹信号。即光栅码盘会随版辊转动，光栅码盘上黑白刻线的相对移动会产生光强度周期性的光信号，将此光信号由转换成两个相位相差90度的正弦电信号(将这两个相位相差90度的正弦电信号称为正余弦信号)。对该正弦电信号进行一系列处理，比如四倍频技术，可获得位移测量分辨率为光栅间距四分之一的精度，并对倍频后的电信号进行计数，实现位移测量。

雕刻头的指令分为两部分：直流指令和交流指令。参照图2，直流指令决定雕刻头在版辊表面雕刻的网穴深度，交流指令驱动雕刻头往复运动，不断雕刻。

然而雕刻头工作在开环模式，无反馈控制，同时由于机电系统的响应时间相对过大、响应滞后等因素，导致不能及时跟踪阶跃信号，跟踪效果如图3所示。

本申请提供一种快刀伺服(Fast Tool Servo)系统。快刀伺服通常将被加工的复杂形面分解为回转形面和形面上的微结构，然后将两者叠加。由X轴和Z轴进给实现回转形面的轨迹运动，对车床主轴只进行位置检测并不进行轨迹控制。借助安装在Z轴但独立于车床数控系统之外的冗余运动轴来驱动刀具，完成车削微结构形面所需的Z轴运动。快刀伺服系统具有高频响、高刚度、高定位精度的特点。

参照图4，本申请一实施例中的快刀伺服系统包括雕刻头、移动单元、辅助运动机构及控制系统(图4中未示)。移动单元用于带动雕刻头沿版辊的轴向运动。辅助运动机构用于带动雕刻头沿垂直于版辊的圆柱面运动。控制系统包括移动单元驱动模块、雕刻头驱动模块及辅助运动机构驱动模块。雕刻头驱动模块用于驱动雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动，以在版辊铜层表面雕刻出不同大小和深度的雕刻点。移动单元驱动模块用于驱动移动单元，带动雕刻头以低速连续运动或以步进方式沿版辊的轴向移动。辅助运动机构驱动模块用于在雕刻头开始雕刻起雕点(即雕刻头开始雕刻的第一个点)之前，驱动雕刻头向靠近版辊的方向移动距离a1，且a1小于起雕点的穴深；辅助运动机构驱动模块还用于在雕刻头响应进入稳定状态后，驱动雕刻头向远离版辊的方向移动距离a2。

上述快刀伺服系统，设置有独立于移动单元和雕刻头驱动模块的辅助运动机构，通过辅助运动机构在开始雕刻起雕点之前提前将雕刻头定位到更靠近版辊的位置，补偿由于雕刻头驱动模块驱动雕刻头滞后导致的响应不及时、不到位问题。而当雕刻头响应进入稳定状态后，再通过辅助运动机构将雕刻头后退取消位移补偿。通过雕刻头驱动模块和辅助运动台的配合，保证起雕点的网穴尺寸能与设计尺寸一致。

在一个实施例中，快刀伺服系统还包括主轴模块。主轴模块包括主轴和主轴动力单元，主轴动力单元用于通过主轴带动版辊转动。

在一个实施例中，快刀伺服系统还包括靠头模块。靠头模块包括靠头电机和靠头，靠头电机用于带动靠头将雕刻头的刀尖压在版辊表面。

在一个实施例中，辅助运动机构需要采用响应速度较快的机电系统，例如压电电机驱动的运动台，或者音圈电机驱动的运动台。在一个实施例中，辅助运动机构是压电电机驱动或者音圈电机驱动的高速高加速微动运动台。

在一个实施例中，辅助运动机构的行程为0.1～0.2mm，进一步地可以为0.15mm左右。

在一个实施例中，雕刻头驱动模块输出雕刻头指令驱动雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动，雕刻头指令包括直流指令和交流指令，直流指令用于决定雕刻头在版辊表面雕刻的网穴深度，交流指令决定雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动的周期。图5是雕刻头在起雕点的直流指令与辅助运动机构驱动模块在雕刻头开始雕刻起雕点之前驱动雕刻头向靠近版辊的方向移动对应的驱动指令的时序示意图。

在一个实施例中，距离a1与距离a2相等(此处a1与a2相等指距离的绝对值相等)，即当雕刻头响应进入稳定状态后(即雕刻头的刀尖在垂直于版辊的圆柱面方向上的位置跟随上了雕刻头指令中直流指令的幅值)，辅助运动机构后退到初始位置。

在一个实施例中，辅助运动机构驱动模块还用于在直流指令的幅值突变时，提前于该突变驱动雕刻头向突变的直流指令对应的雕刻头移动方向移动，且移动距离b1小于该突变的直流指令的幅值对应的网穴的穴深；并在雕刻头响应进入稳定状态后，驱动雕刻头向远离版辊的方向移动距离b2，从而取消位移补偿。实现在不同直流输入指令驱动下，尤其是直流指令切换导致的突变时，保证网穴尺寸能与设计尺寸一致。在一个实施例中，b1＝b2(指距离的绝对值相等)。

在一个实施例中，辅助运动机构的驱动指令的大小与时序可以通过对快刀伺服系统进行动力学建模，然后基于动力学模型来求算。

在一个实施例中，辅助运动机构的驱动指令的大小与时序可以由快刀伺服系统的厂商根据经验进行设定。在另一个实施例中，也可以开放出来供快刀伺服系统的用户自行设置，从而试凑出最优参数。

本申请还提供一种电雕系统，同样参照图4，电雕系统包括雕刻头、移动单元、辅助运动机构及控制系统(图4中未示)。移动单元用于带动雕刻头沿版辊的轴向运动。辅助运动机构用于带动雕刻头沿垂直于版辊的圆柱面运动。控制系统包括移动单元驱动模块、雕刻头驱动模块及辅助运动机构驱动模块。雕刻头驱动模块用于驱动雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动，以在版辊铜层表面雕刻出不同大小和深度的雕刻点。移动单元驱动模块用于驱动移动单元，带动雕刻头以低速连续运动或以步进方式沿版辊的轴向移动。辅助运动机构驱动模块用于在雕刻头开始雕刻起雕点(即雕刻头开始雕刻的第一个点)之前，驱动雕刻头向靠近版辊的方向移动距离c1，且c1小于起雕点的穴深；辅助运动机构驱动模块还用于在雕刻头响应进入稳定状态后，驱动雕刻头向远离版辊的方向移动距离c2。

上述电雕系统，设置有独立于移动单元和雕刻头驱动模块的辅助运动机构，通过辅助运动机构在开始雕刻起雕点之前提前将雕刻头定位到更靠近版辊的位置，补偿由于雕刻头驱动模块驱动雕刻头滞后导致的响应不及时、不到位问题。而当雕刻头响应进入稳定状态后，再通过辅助运动机构将雕刻头后退取消位移补偿。通过雕刻头驱动模块和辅助运动台的配合，保证起雕点的网穴尺寸能与设计尺寸一致。

在一个实施例中，电雕系统还包括主轴模块。主轴模块包括主轴和主轴动力单元，主轴动力单元用于通过主轴带动版辊转动。

在一个实施例中，电雕系统还包括靠头模块。靠头模块包括靠头电机和靠头，靠头电机用于带动靠头将雕刻头的刀尖压在版辊表面。

在一个实施例中，辅助运动机构需要采用响应速度较快的机电系统，例如压电电机驱动的运动台，或者音圈电机驱动的运动台。在一个实施例中，辅助运动机构是压电电机驱动或者音圈电机驱动的高速高加速微动运动台。

在一个实施例中，辅助运动机构的行程为0.1～0.2mm，进一步地可以为0.15mm左右。

在一个实施例中，雕刻头驱动模块输出雕刻头指令驱动雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动，雕刻头指令包括直流指令和交流指令，直流指令用于决定雕刻头在版辊表面雕刻的网穴深度，交流指令决定雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动的周期。图5是雕刻头在起雕点的直流指令与辅助运动机构驱动模块在雕刻头开始雕刻起雕点之前驱动雕刻头向靠近版辊的方向移动对应的驱动指令的时序示意图。

在一个实施例中，距离c1与距离c2相等(此处c1与c2相等指距离的绝对值相等)，即当雕刻头响应进入稳定状态后(即雕刻头的刀尖在垂直于版辊的圆柱面方向上的位置跟随上了雕刻头指令中直流指令的幅值)，辅助运动机构后退到初始位置。

在一个实施例中，辅助运动机构驱动模块还用于在直流指令的幅值突变时，提前于该突变驱动雕刻头向突变的直流指令对应的雕刻头移动方向移动，且移动距离d1小于该突变的直流指令的幅值对应的网穴的穴深；并在雕刻头响应进入稳定状态后，驱动雕刻头向远离版辊的方向移动距离d2，从而取消位移补偿。实现在不同直流输入指令驱动下，尤其是直流指令切换导致的突变时，保证网穴尺寸能与设计尺寸一致。在一个实施例中，d1＝d2(指距离的绝对值相等)。

在一个实施例中，辅助运动机构的驱动指令的大小与时序可以通过对电雕系统进行动力学建模，然后基于动力学模型来求算。

在一个实施例中，辅助运动机构的驱动指令的大小与时序可以由电雕系统的厂商根据经验进行设定。在另一个实施例中，也可以开放出来供电雕系统的用户自行设置，从而试凑出最优参数。

本申请还提供一种电雕控制方法。图6是一实施例中电雕控制方法的流程图，包括：

S610，辅助运动机构在雕刻头开始雕刻起雕点之前，将雕刻头向靠近版辊的方向移动。

辅助运动机构在雕刻头驱动模块驱动雕刻头开始雕刻起雕点之前，将雕刻头向靠近版辊的方向移动距离c1，且c1小于起雕点的穴深。

S620，雕刻头驱动模块驱动雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动，以雕刻网穴。

在一个实施例中，雕刻头驱动模块输出雕刻头指令驱动雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动，在版辊铜层表面雕刻出不同大小和深度的雕刻点。雕刻头指令包括直流指令和交流指令，直流指令用于决定雕刻头在版辊表面雕刻的网穴深度，交流指令决定雕刻头的刀尖垂直于版辊的圆柱面往复运动的周期。图5是雕刻头在起雕点的直流指令与辅助运动机构驱动模块在雕刻头开始雕刻起雕点之前，驱动雕刻头向靠近版辊的方向移动对应的驱动指令的时序示意图。

S630，辅助运动机构在雕刻头响应进入稳定状态后，将雕刻头向远离版辊的方向移动。

雕刻头响应进入稳定状态是指，雕刻头的刀尖在垂直于版辊的圆柱面方向上的位置跟随上了雕刻头指令中直流指令的幅值。

S640，移动单元带动所述雕刻头沿版辊的轴向运动。

移动单元带动雕刻头以低速连续运动或以步进方式沿版辊的轴向移动。移动单元沿版辊轴向的移动速度由电雕机待加工的图案所决定，移动单元沿版辊轴向的移动是与雕刻头垂直于版辊的圆柱面的往复运动同步进行的，因此步骤S640不是必然在步骤S610之后、S620之后或S630之后进行。

上述电雕控制方法，通过辅助运动机构在开始雕刻起雕点之前提前将雕刻头定位到更靠近版辊的位置，补偿由于雕刻头驱动模块驱动雕刻头滞后导致的响应不及时、不到位问题。而当雕刻头响应进入稳定状态后，再通过辅助运动机构将雕刻头后退取消位移补偿。通过雕刻头驱动模块和辅助运动台的配合，保证起雕点的网穴尺寸能与设计尺寸一致。

在一个实施例中，电雕控制方法还包括通过主轴带动版辊转动的步骤。

在一个实施例中，电雕控制方法还包括靠头将雕刻头的刀尖压在版辊表面的步骤。

在一个实施例中，距离c1与距离c2相等(此处c1与c2相等指距离的绝对值相等)，即当雕刻头响应进入稳定状态后，辅助运动机构后退到初始位置。

在一个实施例中，电雕控制方法还包括在雕刻头指令的直流指令的幅值突变时，辅助运动机构提前于该突变带动雕刻头向突变的直流指令对应的雕刻头移动方向移动的步骤，且移动距离d1小于该突变的直流指令的幅值对应的网穴的穴深。电雕控制方法还包括在雕刻头响应进入稳定状态后，辅助运动机构带动雕刻头向远离版辊的方向移动距离d2，从而取消位移补偿。实现在不同直流输入指令驱动下，尤其是直流指令切换导致的突变时，保证网穴尺寸能与设计尺寸一致。在一个实施例中，d1＝d2(指距离的绝对值相等)。

应该理解的是，虽然图6的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，这些步骤可以以其它的顺序执行。而且，图6中的至少一部分步骤可以包括多个步骤或者多个阶段，这些步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，这些步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其它步骤或者其它步骤中的步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程，是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，所述的计算机程序可存储于一非易失性计算机可读取存储介质中，该计算机程序在执行时，可包括如上述各方法的实施例的流程。其中，本申请所提供的各实施例中所使用的对存储器、存储、数据库或其它介质的任何引用，均可包括非易失性和易失性存储器中的至少一种。非易失性存储器可包括只读存储器(Read-Only Memory，ROM)、磁带、软盘、闪存或光存储器等。易失性存储器可包括随机存取存储器(Random Access Memory，RAM)或外部高速缓冲存储器。作为说明而非局限，RAM可以是多种形式，比如静态随机存取存储器(Static Random Access Memory，SRAM)或动态随机存取存储器(Dynamic Random Access Memory，DRAM)等。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。