半导体装置

文档序号:119070 发布日期:2021-10-19 浏览:39次 >En<

阅读说明:本技术 半导体装置 (Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips ) 是由 山崎舜平 生内俊光 肥塚纯一 冈崎健一 于 2020-02-19 设计创作,主要内容包括:提供一种电特性良好的半导体装置。提供一种可靠性高的半导体装置。提供一种电特性稳定的半导体装置。该半导体装置包括半导体层、第一绝缘层、第二绝缘层以及导电层。半导体层、第二绝缘层及导电层依次层叠在第一绝缘层上。半导体层包含铟及氧,在表示铟、元素M、锌的各原子数比的三角图中具有以直线分别依次连接第一坐标(1:0:0)、第二坐标(2:1:0)、第三坐标(14:7:1)、第四坐标(7:2:2)、第五坐标(14:4:21)、第六坐标(2:0:3)、第一坐标的范围内的组成。另外,元素M为镓、铝、钇和锡中的任一个以上。(A semiconductor device having excellent electrical characteristics is provided. A highly reliable semiconductor device is provided. A semiconductor device with stable electrical characteristics is provided. The semiconductor device includes a semiconductor layer, a first insulating layer, a second insulating layer, and a conductive layer. The semiconductor layer, the second insulating layer, and the conductive layer are sequentially stacked on the first insulating layer. The semiconductor layer contains indium and oxygen, and has a composition in a range in which a first coordinate (1: 0: 0), a second coordinate (2: 1: 0), a third coordinate (14: 7: 1), a fourth coordinate (7: 2: 2), a fifth coordinate (14: 4: 21), a sixth coordinate (2: 0: 3), and the first coordinate are connected in this order by straight lines in a triangular diagram showing the atomic ratios of indium, an element M, and zinc. The element M is any one or more of gallium, aluminum, yttrium, and tin.)

半导体装置

技术领域

本发明的一个方式涉及一种半导体装置及其制造方法。本发明的一个方式涉及一种显示装置。

注意,本发明的一个方式不限定于上述技术领域。作为本说明书等所公开的本发明的一个方式的

技术领域

的一个例子,可以举出半导体装置、显示装置、发光装置、蓄电装置、存储装置、电子设备、照明装置、输入装置、输入输出装置、其驱动方法或者其制造方法。半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置。

背景技术

作为可用于晶体管的半导体材料,使用金属氧化物的氧化物半导体受到瞩目。例如,专利文献1公开了如下半导体装置:层叠有多个氧化物半导体层,在该多个氧化物半导体层中,被用作沟道的氧化物半导体层包含铟及镓,并且铟的比例高于镓的比例,由此场效应迁移率(有时,简称为迁移率或μFE)得到提高的半导体装置。

非专利文献1及非专利文献2公开了一种InGaO3(ZnO)m(m:自然数)的氧化物半导体材料。

由于能够用于半导体层的金属氧化物可以利用溅射法等形成,所以可以被用于构成大型显示装置的晶体管的半导体层。此外,因为可以将使用多晶硅或非晶硅的晶体管的生产设备的一部分改良而利用,所以还可以抑制设备投资。此外,与使用非晶硅的晶体管相比,使用金属氧化物的晶体管具有高场效应迁移率,所以可以实现设置有驱动电路的高性能的显示装置。

[先行技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利申请公开第2014-7399号公报

[非专利文献]

[非专利文献1]M.Nakamura,N.Kimizuka,and T.Mohri,“The Phase Relationsin the In2O3-Ga2ZnO4-ZnO System at 1350℃”,J.Solid State Chem.,1991,Vol.93,p.298-315

[非特許文献2]N.Kimizuka,M.Isobe,and M.Nakamura、“Syntheses and Single-Crystal Data of Homologous Compounds,In2O3(ZnO)m(m=3,4,and 5),InGaO3(ZnO)3,andGa2O3(ZnO)m(m=7,8,9,and 16)in the In2O3-ZnGa2O4-ZnO System”、J.Solid StateChem.、1995、Vol.116,p.170-178

130页详细技术资料下载
上一篇:一种医用注射器针头装配设备
下一篇:增韧的半导体基板、用增韧的半导体基板生产的器件及其生产方法

网友询问留言

已有0条留言

还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!

精彩留言,会给你点赞!