CN111590804A - 用于制备电磁屏蔽密封条的方法和系统 - Google Patents
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Abstract
本公开实施例公开了用于制备电磁屏蔽密封条的方法。该方法的一具体实施方式包括：获取目标电磁屏蔽密封条的规格信息；根据上述规格信息确定点胶机的挤出行程；基于上述挤出行程，控制上述点胶机涂覆含有金属颗粒的原料到密封槽中；通过磁力吸附设备对所涂覆形成的电磁屏蔽密封条进行调整；响应于所调整后的磁性密封条的高度超过预设阈值，确定上述磁性密封条制备完成。该实施方式能够通过调整上述密封条，使该密封条的形状发生改变，在组装好的状态下，能够提高密封效果。此外，通过磁力吸附设备可以使密封条中的金属颗粒重新排布，使金属颗粒的分布更加均匀，进而提高了屏蔽效果。
Description
技术领域
本公开实施例涉及密封条生产领域，具体涉及用于制备电磁屏蔽密封条的方法。
背景技术
现如今，橡胶产品已经应用到各个领域。具体来说，电磁屏蔽密封条是密封条的一种，已经广泛应用到基站等具有一定辐射的电子产品。
由于产品的空间等其他因素的限制，一些产品的密封槽较窄，宽度只有几毫米。因此，密封条的制作与安装需要很高的要求。
目前，相关的处理方式是通过点胶机将原料涂覆到密封槽中，但是这种方式制作的密封条的高度往往是与密封槽的挡板相应，当组装好产品后，通常因为该密封条的高度不足而引起密封效果不佳的情况。另外，涂覆过多的原料，容易出现外溢或者密封条变形的情况发生。
相应地，本领域需要一种新的制造密封条的方法来解决上述问题。
发明内容
本公开的内容部分用于以简要的形式介绍构思，这些构思将在后面的具体实施方式部分被详细描述。本公开的内容部分并不旨在标识要求保护的技术方案的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求的保护的技术方案的范围。
为了解决上述问题，本公开的一些实施例提出了用于制备电磁屏蔽密封条的方法和系统。
第一方面，本公开的一些实施例提供了一种用于制备电磁屏蔽密封条的方法，包括：获取目标密封槽的规格信息；根据上述规格信息确定点胶机的挤出行程；基于上述挤出行程，控制上述点胶机涂覆含有金属颗粒的原料到目标密封槽中；通过磁力吸附设备对所涂覆形成的电磁屏蔽密封条进行调整；响应于所调整后的电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值，确定上述磁性密封条制备完成。
在一些实施例中，上述通过磁力吸附设备对所涂覆形成的电磁屏蔽密封条进行调整，包括：通过传动装置，将上述电磁屏蔽密封条传递到上述磁力吸附设备的预设位置；控制上述磁力吸附设备对上述目标电磁屏蔽密封条进行磁化处理，改变上述电磁屏蔽密封条的形状。
在一些实施例中，上述磁力吸附设备设置到上述传动装置上方，上述磁力吸附设备包括多个均匀设置的电磁铁，上述电磁铁产生的磁场能够改变上述电磁屏蔽密封条的形状。
在一些实施例中，上述响应于所调整后的电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值，完成上述电磁屏蔽密封条的制备，包括：通过多个光学传感器检测上述电磁屏蔽密封条在调整后的高度，其中，上述多个光学传感器沿上述电磁屏蔽密封条的长度方向设置；响应于上述多个光学传感器发出的光信号被阻拦，确定上述电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值。
在一些实施例中，上述响应于所调整后的电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值，完成上述电磁屏蔽密封条的制备，还包括：根据电磁铁的位置信息，将上述电磁屏蔽密封条分成多个检测区段；每个检测区段被一个上述光学传感器检测，其中，上述多个光学传感器中的每个光学传感器设置有序号信息；响应于上述多个光学传感器中的一个或者多个光学传感器发出的光信号被阻拦，基于上述序号信息，断开对应的电磁铁。
在一些实施例中，上述磁力吸附设备还包括电磁铁控制器，上述控制器与上述多个电磁铁通信连接，上述电磁铁控制器用于控制上述多个电磁铁的通断，上述电磁铁控制器响应于接收到一个或者多个上述光学传感器发出的被阻拦的光信号，上述电磁铁控制器断开该光学传感器检测的检测区段所对应的电磁铁的电源，其中，所断开电源的电磁铁是通过上述电磁铁控制器所包括的人工智能芯片对该光学传感器的序号信息进行分析得到的，其中，上述人工智能芯片所承载的机器学习模型是通过训练样本集合训练得到的。
在一些实施例中，上述训练样本集合包括样本电磁铁的位置信息和样本光学传感器的序号信息，上述机器学习模型是以样本光学传感器的序号信息作为输入并以上述样本电磁铁的位置信息作为期望输出训练得到的。
第二方面，本公开的一些实施例提供了一种用于制备电磁屏蔽密封条的系统，包括：点胶机、与上述点胶机通信连接的点胶机控制器、磁力吸附设备和与上述磁力吸附设备通信连接的磁力吸附设备控制器，其中：上述点胶机控制器被设置成获取目标电磁屏蔽密封条的规格信息；上述点胶机控制器被设置成根据上述规格信息确定点胶机的挤出行程；上述点胶机控制器被设置成基于上述挤出行程，控制上述点胶机涂覆含有金属颗粒的原料到密封槽中；通过磁力吸附设备对所涂覆形成的电磁屏蔽密封条进行调整；上述磁力吸附设备控制器被设置成响应于所调整后的电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值，确定上述磁性密封条制备完成。
本公开的上述各个实施例中的一个实施例具有如下有益效果：通过上述磁力吸附设备调整上述密封条，使该密封条的形状发生改变。具体而言，在磁力的作用下，该密封条受到向上的吸引力，在自身粘稠力的作用下，该密封条的上表面能够形成中部向上凸起的弧形结构。在组装好的状态下，该弧形结构能够提高密封效果。此外，通过磁力吸附设备可以使密封条中的金属颗粒重新排布，使金属颗粒的分布更加均匀，进而提高了屏蔽效果。
附图说明
结合附图并参考以下具体实施方式，本公开各实施例的上述和其他特征、优点及方面将变得更加明显。贯穿附图中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的元素。应当理解附图是示意性的，原件和元素不一定按照比例绘制。
图1是根据本公开的用于制备电磁屏蔽密封条的方法的一些实施例的流程图；
图2是根据本公开的用于制备电磁屏蔽密封条的系统的主要构成示意图。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的实施例。虽然附图中显示了本公开的某些实施例，然而应当理解的是，本公开可以通过各种形式来实现，而且不应该被解释为限于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例是为了更加透彻和完整地理解本公开。应当理解的是，本公开的附图及实施例仅用于示例性作用，并非用于限制本公开的保护范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
另外需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与有关发明相关的部分。在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本公开。
此外，在本发明的描述中，术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
需要注意，本公开中提及的“一个”、“多个”的修饰是示意性而非限制性的，本领域技术人员应当理解，除非在上下文另有明确指出，否则应该理解为“多个”。
本公开实施方式中的多个装置之间所交互的消息或者信息的名称仅用于说明性的目的，而并不是用于对这些消息或信息的范围进行限制。
下面将参考附图并结合实施例来详细说明本公开。
首先参阅图1，示出了根据本公开的用于制备电磁屏蔽密封条的方法的一些实施例的流程100。该用于制备电磁屏蔽密封条的方法，包括以下步骤：
步骤101，获取目标密封槽的规格信息。
在一些实施例中，获取目标密封槽的规格信息的执行主体可以是点胶机控制器。具体而言，上述规格信息可以包括该目标密封槽的宽度、长度、形状等信息。上述执行主体可以通过多种方式获取上述目标密封槽的规格信息。作为示例，可以是工作人员通过人机交互界面将规格信息传输到上述执行主体。作为另一示例，还可以通过机器视觉技术，通过工业相机对该目标密封槽进行拍摄，并将生成的图像以信号的形式发送给执行主体。上述执行主体通过机器视觉技术等现有技术对该图像进行分析，从而获取到该目标密封槽的规格信息。上述目标密封槽可以是待制作密封条的产品的密封槽。
步骤102，根据上述规格信息确定点胶机的挤出行程。
在一些实施例中，上述规格信息可以包括目标密封槽的长度、形状等信息。上述执行主体可以建立坐标系。接下来，在上述坐标系中标定多个坐标。上述多个坐标的连线与上述密封槽的形状相适配。进而，上述执行主体将多个坐标的连线作为该点胶机的挤出行程。
步骤103，基于上述挤出行程，控制上述点胶机涂覆含有金属颗粒的原料到目标密封槽中。
在一些实施例中，该点胶机可以包括气动阀门和连接管路。含有金属颗粒的原料可以通过连接管路进入到上述点胶机中。上述执行主体可以控制上述气动阀门的开启大小，控制该点胶机的挤出量。作为示例，上述执行主体可以根据目标密封槽的宽度设置上述气动阀门的开启大小。通过步骤102确定的挤出行程，上述执行主体可以控制上述点胶机完成对目标密封槽的涂覆动作。
步骤104，通过磁力吸附设备对所涂覆形成的电磁屏蔽密封条进行调整。
在一些实施例中，当完成步骤103的涂覆动作之后，可以将上述目标密封槽或者带有该目标密封槽的产品传递到磁力吸附设备之下。具体而言，可以通过传动装置将上述电磁屏蔽密封条传递到上述磁力吸附设备的预设位置。该预设位置可以是上述磁力吸附设备的作用范围之内的位置。上述传动装置可以是传送带。本领域技术人员可以根据本领域的惯用手段来实现。接下来，该磁力吸附设备的执行主体可以是磁力吸附设备控制器，上述执行主体控制该磁力吸附设备对上述目标电磁屏蔽密封条进行磁化处理，改变上述电磁屏蔽密封条的形状。具体而言，执行主体可以是该磁力吸附设备的控制器。在工作状态下，该执行主体控制该磁力吸附设备开启，该磁力吸附设备能够对该电磁屏蔽密封条产生向上的磁力。在磁力的作用下，该密封条受到向上的吸引力，在自身粘稠力的作用下，该密封条的上表面能够形成中部向上凸起的弧形结构。
在一些实施例的一些可选实现方式中，上述磁力吸附设备可以包括多个均匀设置的电磁铁。上述电磁铁产生的磁场能够产生向上的磁力，进而改变上述电磁屏蔽密封条的形状。
步骤105，响应于所调整后的电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值，确定上述磁性密封条制备完成。
在一些实施例中，上述磁力吸附设备的执行主体可以通过多种方式对上述磁性密封条的形变过程进行监测。作为示例，可以通过机器视觉技术检测上述磁性密封条的形变。当上述电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值，断开上述磁力吸附设备的电源。完成上述电磁屏蔽密封条的制备。需要说明的是，上述预设阈值可以是技术人员通过大量实验数据确定的。
在一些实施例的一些可选实现方式中，还可以通过多个光学传感器检测上述电磁屏蔽密封条在调整后的高度。其中，上述多个光学传感器沿上述电磁屏蔽密封条的长度方向设置；响应于上述多个光学传感器发出的光信号被阻拦，确定上述电磁屏蔽密封条的高度满足预设阈值。进一步地，还可以确定每个电磁铁的位置信息，接着，根据上述位置信息将上述电磁屏蔽密封条分成多个检测区段。接下来，每个检测区段被一个上述光学传感器检测，其中，上述多个光学传感器中的每个光学传感器设置有序号信息；响应于上述多个光学传感器中的一个或者多个光学传感器发出的光信号被阻拦，基于上述序号信息，断开对应的电磁铁。如此一来，通过多个光学传感器对该电磁屏蔽密封条的不同区段进行监测，可以更准确地调整该电磁屏蔽密封条的高度。提高了该实施方式的准确性，避免了该电磁屏蔽密封条出现局部高度不符合要求的情况发生，因此提高了该电磁屏蔽密封条的质量。需要说明的是，上述光学传感器可以是光电开关。
在一些实施例的一些可选实现方式中，上述磁力吸附设备还包括电磁铁控制器，上述控制器与上述多个电磁铁通信连接，上述电磁铁控制器用于控制上述多个电磁铁的通断。上述电磁铁控制器响应于接收到一个或者多个上述光学传感器发出的被阻拦的光信号，上述电磁铁控制器断开该光学传感器检测的检测区段所对应的电磁铁的电源。其中，所断开电源的电磁铁是通过上述电磁铁控制器所包括的人工智能芯片对该光学传感器的序号信息进行分析得到的，其中，上述人工智能芯片所承载的机器学习模型是通过训练样本集合训练得到的。
作为示例，机器学习模型可以是基于训练样本集合执行以下训练步骤得到的：将训练样本集合中的至少一个训练样本的样本光学传感器的序号信息分别输入至初始机器学习模型，得到该序号信息所对应的电磁铁的位置信息；将上述至少一个训练样本中的每个样本光学传感器的序号信息对应的电磁铁的位置信息与对应的样本电磁铁的位置信息进行比较；根据比较结果确定上述初始机器学习模型的预测准确率；确定上述预测准确率是否大于预设准确率阈值；响应于确定上述准确率大于上述预设准确率阈值，则将上述初始机器学习模型作为训练完成的机器学习模型；响应于确定上述准确率不大于上述预设准确率阈值，调整上述初始机器学习模型的参数，以及使用未使用过的训练样本组成训练样本集合，使用调整后的初始机器学习模型作为初始机器学习模型，再次执行上述训练步骤。可以理解的是，经过上述训练之后，机器学习模型可以用于表征光学传感器的序号信息与电磁铁的位置信息的对应关系。上述提及的机器学习模型可以是卷积神经网络模型。
作为示例，上述机器学习模型可以包括光学传感器的序号信息和对应关系表。其中，对应关系表可以是本领域技术人员基于对大量的光学传感器的序号信息与电磁铁的位置信息的对应关系的对应关系表。这样，将该光学传感器的序号信息与对应关系表中的多个光学传感器的序号信息依次进行比较，若对应关系表中的某一个光学传感器的序号信息与该光学传感器的序号信息相同，则将对应关系表中的该光学传感器的序号信息对应的电磁铁的位置信息作为该光学传感器的序号信息所指示的电磁铁的位置信息。
本公开的一些实施例公开的用于制备电磁屏蔽密封条的方法，通过上述磁力吸附设备调整上述密封条，使该密封条的形状发生改变。具体而言，在磁力的作用下，该密封条受到向上的吸引力，在自身粘稠力的作用下，该密封条的上表面能够形成中部向上凸起的弧形结构。在组装好的状态下，该弧形结构能够提高密封效果。此外，通过磁力吸附设备可以使密封条中的金属颗粒重新排布，使金属颗粒的分布更加均匀，进而提高了屏蔽效果。
此外，通过多个光学传感器对该电磁屏蔽密封条的不同区段进行监测，可以更准确地调整该电磁屏蔽密封条的高度。提高了该实施方式的准确性，避免了该电磁屏蔽密封条出现局部高度不符合要求的情况发生，因此提高了该电磁屏蔽密封条的质量。
另外，通过人工智能芯片对光学传感器的序号信息进行分析，能够低延迟、高效地确定电磁铁的位置信息。进而可以及时地关闭对应的电磁铁的电源，提高了该实施方式的及时性与准确性。避免了该电磁屏蔽密封条出现局部高度不符合要求的情况发生。
最后参阅图2，图2是根据本公开的用于制备电磁屏蔽密封条的系统的主要构成示意图。
如图2所示，一些实施例的用于制备磁性密封条的系统200包括：点胶机201、与上述点胶机通信连接的点胶机控制器202、磁力吸附设备203和与上述磁力吸附设备通信连接的磁力吸附设备控制器204。其中，上述点胶机控制器202被设置成获取目标电磁屏蔽密封条的规格信息；上述点胶机控制器202被设置成根据上述规格信息确定点胶机201的挤出行程；上述点胶机控制器202被设置成基于上述挤出行程，控制上述点胶机201涂覆含有金属颗粒的原料到密封槽中；通过磁力吸附设备203对所涂覆形成的电磁屏蔽密封条进行调整；上述磁力吸附设备控制器204被设置成响应于所调整后的电磁屏蔽密封条的高度超过预设阈值，确定上述磁性密封条制备完成。
在一些可选的一些实现方式中，上述系统还包括传动装置，上述传动装置用于将上述涂覆的电磁屏蔽密封条传递到上述磁力吸附设备的预设位置。该传动装置可以是皮带机或者机械手臂等等。本领域技术人员可以根据实际情况对上述传动装置进行选择。
在一些可选的一些实现方式中，上述磁力吸附设备可以包括多个均匀设置的电磁铁。上述电磁铁产生的磁场能够产生向上的磁力，进而改变上述电磁屏蔽密封条的形状。
在一些可选的一些实现方式中，上述系统还包括与磁力吸附设备控制器相连接的多个光学传感器，上述多个光学传感器沿上述电磁屏蔽密封条的长度方向设置，用于检测上述电磁屏蔽密封条在调整后的高度是否超过预设阈值。上述多个光学传感器响应于发出的光信号被阻拦，发送阻拦信号到上述磁力吸附设备控制器，上述磁力吸附设备控制器确定上述电磁屏蔽密封条调整完成。
在一些可选的一些实现方式中，上述磁力吸附设备控制器对每个上述电磁铁设定位置信息，以及上述磁力吸附设备控制器基于上述位置信息对上述电磁屏蔽密封条设定区段信息。其中，每个检测区段被一个上述光学传感器检测。上述磁力吸附设备控制器对上述多个光学传感器中的每个光学传感器设定序号信息。上述多个光学传感器中的一个或者多个光学传感器响应于发出的光信号被阻拦，将上述被阻拦的光信号发送给上述磁力吸附设备控制器。上述磁力吸附设备控制器根据该光学传感器的上述序号信息，确定与上述序号信息相对应的断开对应的电磁铁。
在一些实施例的一些可选实现方式中，上述磁力吸附设备还包括电磁铁控制器，上述控制器与上述多个电磁铁通信连接，上述电磁铁控制器用于控制上述多个电磁铁的通断。上述电磁铁控制器响应于接收到一个或者多个上述光学传感器发出的被阻拦的光信号，上述电磁铁控制器断开该光学传感器检测的检测区段所对应的电磁铁的电源。其中，所断开电源的电磁铁是通过上述电磁铁控制器所包括的人工智能芯片对该光学传感器的序号信息进行分析得到的，其中，上述人工智能芯片所承载的机器学习模型是通过训练样本集合训练得到的。
作为示例，机器学习模型可以是基于训练样本集合执行以下训练步骤得到的：将训练样本集合中的至少一个训练样本的样本光学传感器的序号信息分别输入至初始机器学习模型，得到该序号信息所对应的电磁铁的位置信息；将上述至少一个训练样本中的每个样本光学传感器的序号信息对应的电磁铁的位置信息与对应的样本电磁铁的位置信息进行比较；根据比较结果确定上述初始机器学习模型的预测准确率；确定上述预测准确率是否大于预设准确率阈值；响应于确定上述准确率大于上述预设准确率阈值，则将上述初始机器学习模型作为训练完成的机器学习模型；响应于确定上述准确率不大于上述预设准确率阈值，调整上述初始机器学习模型的参数，以及使用未使用过的训练样本组成训练样本集合，使用调整后的初始机器学习模型作为初始机器学习模型，再次执行上述训练步骤。可以理解的是，经过上述训练之后，机器学习模型可以用于表征光学传感器的序号信息与电磁铁的位置信息的对应关系。上述提及的机器学习模型可以是卷积神经网络模型。
作为示例，上述机器学习模型可以包括光学传感器的序号信息和对应关系表。其中，对应关系表可以是本领域技术人员基于对大量的光学传感器的序号信息与电磁铁的位置信息的对应关系的对应关系表。这样，将该光学传感器的序号信息与对应关系表中的多个光学传感器的序号信息依次进行比较，若对应关系表中的某一个光学传感器的序号信息与该光学传感器的序号信息相同，则将对应关系表中的该光学传感器的序号信息对应的电磁铁的位置信息作为该光学传感器的序号信息所指示的电磁铁的位置信息。
以上描述仅为本公开的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本公开中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本公开中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。