阅读说明：本技术 抗蚀剂的剥离液 (Resist stripping liquid ) 是由 谷本树一 文藏隆志 新城沙耶加 都木新介 于 2018-09-12 设计创作，主要内容包括：本发明为用于提供容易除去微细的布线间的抗蚀剂的技术的、以含有钾盐和溶纤剂为特征的抗蚀剂的剥离液、以及以使用上述抗蚀剂的剥离液处理施加有抗蚀剂的基材为特征的抗蚀剂的除去方法。(The present invention provides a resist stripping solution characterized by containing a potassium salt and a cellosolve, and a resist removing method characterized by treating a substrate to which a resist is applied with the resist stripping solution, for providing a technique for easily removing a resist between fine wirings.)

抗蚀剂的剥离液

技术领域

本发明涉及能够从施加有抗蚀剂的基材剥离抗蚀剂的抗蚀剂的剥离液。

背景技术

印刷布线板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蚀剂等抗蚀剂的剥离液中，伴随微细布线化而使用胺系的剥离液。

然而，以往的胺系的抗蚀剂的剥离液有废液处理性难、海外的法规制度的问题，而避免其使用。

近年来，为了避免胺系的抗蚀剂的剥离液的问题点，还报道了一种含有氢氧化钠和溶纤剂的剥离液(专利文献1)，由于剥离时的抗蚀剂没有微细地粉碎，因此存在近年的微细的布线间的抗蚀剂难以除去的问题点。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-323776号公报

发明内容

发明要解决的问题

因此，本发明的课题在于，提供容易除去微细的布线间的抗蚀剂的技术。

用于解决问题的手段

本发明人等为了解决上述课题而深入研究的结果发现，含有钾盐和溶纤剂的溶液与专利文献1那样的含有氢氧化钠和溶纤剂的溶液相比，即使是非常微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎，从而完成本发明。

即，本发明涉及一种抗蚀剂的剥离液，其特征在于，含有钾盐和溶纤剂。

另外，本发明涉及一种抗蚀剂的除去方法，其特征在于，用上述抗蚀剂的剥离液处理施加有抗蚀剂的基材。

此外，本发明涉及一种抗蚀剂的剥离液套件，其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。

再者，本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法，其特征在于，在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法中，使用上述抗蚀剂的剥离液进行抗蚀剂的除去。

发明效果

本发明的抗蚀剂的剥离液即使是微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎。

因此，本发明的抗蚀剂的剥离液适合于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。

具体实施方式

本发明的抗蚀剂的剥离液(以下，称为“本发明剥离液”)含有氢氧化钾和溶纤剂。

本发明剥离液中的钾盐没有特别限定，例如，可以举出氢氧化钾、碳酸钾等。需要说明的是，钾盐中不含相当于后述的硅酸盐的硅酸钾。这些之中优选氢氧化钾。另外，本发明剥离液中的钾盐的含量没有特别限定，例如，优选0.75mol/L以下，更优选0.65mol/L以下，特别优选0.55mol/L以下。

本发明剥离液中使用的溶纤剂是指乙二醇的醚类，例如，可以举出异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基溶纤剂、苯基丁基溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂、苄基溶纤剂、卡必醇溶纤剂、二乙基溶纤剂等。这些之中优选异丙基溶纤剂。另外，这些溶纤剂可以使用1种或组合使用2种以上。本发明剥离液中的溶纤剂的含量没有特别限定，例如，优选0.005～0.2mol/L，更优选0.01～0.1mol/L，特别优选0.01～0.05mol/L。

本发明剥离液中，为了抑制对金属的浸蚀性，优选还含有硅酸盐。硅酸盐没有特别限定，例如，可以举出硅酸钾、硅酸钠等。这些之中优选硅酸钾。本发明剥离液中的硅酸盐的含量没有特别限定，例如，优选0.002～0.15mol/L，更优选0.006～0.1mol/L，特别优选0.03～0.065mol/L。

需要说明的是，本发明剥离液中，优选仅由上述成分构成，但只要不阻碍本发明的效果，可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡剂等其它成分。

以上说明的本发明剥离液可以通过将上述成分溶于水中来制备。需要说明的是，本发明剥离液的pH若为碱性则没有特别限定，但通常仅仅将上述成分溶于水就成为碱性，因此没有特别必要调整pH。另外，本发明剥离液可以通过将上述成分分别分开预先溶于水，成为抗蚀剂的剥离液套件，将它们混合来制备。具体来说，可以举出以包含含有钾盐的第1液和含有溶纤剂的第2液为特征的抗蚀剂的剥离液套件、其中还包含含有硅酸盐的第3液的抗蚀剂的剥离液套件、进而在其中使上述其它成分适当含有于各液中的抗蚀剂的剥离液套件等。

通过使用本发明剥离液对施加有抗蚀剂的基材进行处理，抗蚀剂被细小地粉碎，能够除去抗蚀剂。

用本发明剥离液处理施加有抗蚀剂的基材的条件没有特别限定，例如，可以举出在设为10～80℃的本发明剥离液中浸渍基材1～60分钟左右的条件、将设为10～80℃的本发明剥离液向基材喷雾1～60分钟左右的条件。需要说明的是，浸渍时，可以摇动基材，或对本发明剥离液施加超声波。

抗蚀剂的种类没有特别限定，可以是例如干膜抗蚀剂、液体抗蚀剂等中的任一种。干膜抗蚀剂的种类也没有特别限定，例如优选碱可溶型的干膜抗蚀剂。作为这样的碱可溶型的干膜抗蚀剂，例如，可以举出RD-1225(SAP用25μm厚)(日立化成株式会社制)等。

施加抗蚀剂的基材没有特别限定，例如，可以举出印刷布线板、半导体基板、平板显示器、引线框中使用的各种金属、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。

按照上述方式本发明剥离液能够从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂，因此能够在包括除去这样的抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器、引线框等的制造方法中使用。

上述制造方法之中优选包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板的制造方法，特别优选基于半加成法的印刷布线板的制造方法。本发明剥离液能够除去的线/间距(L/S)没有特别限定，例如即使为50/50μm以下的线/间距、优选10/10～40/40μm的线/间距也能除去抗蚀剂。

实施例

以下，举出实施例对本发明进行详细说明，但本发明不受这些实施例任何限定。

实施例1

抗蚀剂的剥离液的制备：

将以下的表1中记载的成分在水中混合、溶解而制备抗蚀剂的剥离液。

【表1】

(mol/L)

	氢氧化钾	氢氧化钠	异丙基溶纤剂	硅酸钾
					本发明组成1	0.2	-	0.015	0.03
本发明组成2	0.25	-	0.015	0.03
					本发明组成3	0.35	-	0.015	0.03
本发明组成4	0.45	-	0.015	0.03
					本发明组成5	0.55	-	0.015	0.03
本发明组成6	0.65	-	0.015	0.03
					本发明组成7	0.75	-	0.015	0.03
本发明组成8	1.0	-	0.015	0.03
					比较组成1	-	0.25	0.015	0.03
比较组成2	-	0.75	0.015	0.03
					比较组成3	-	1.0	0.015	0.03

实施例2

剥离试验：

(1)基板制作方法

为了提高干膜抗蚀剂一基材间的密合，将覆铜层叠板(古河电工(株式会社)制：CCL：电解铜箔GTS 35μm箔)通过粗化处理(JCU制：Ebake Muneo Brown NBSII、蚀刻量0.5μm)使表面粗度成为Ra约0.75μm。其后，使用干膜抗蚀剂(日立化成制：RD-1225(SAP用)：25μm厚)实施从层压到图案曝光、显影。向本基板以15μm厚实施镀铜(JCU制：CU-BRITE VL)后，切出50×50mm²作为试验片。需要说明的是，该试验片是在一片上具有以下的表2的L/S的图案部分和黏性部分的试验片。

(2)图案基板上残留的抗蚀剂的评价方法

上述评价方法中将喷涂运行时间固定在4分钟，按照以下的评价基准评价L/S＝20/20～40/40μm的图案部分有无剥离残渣。将其结果示于表2。

<剥离残渣的评价基准>

(分数)(内容)

1：无残渣

2：有极少量残渣(用显微镜观察也难以看出的程度)

3：有少量残渣

4：基本能剥离，但一部分残渣多

5：一半以上能剥离，但一部分残渣多

6：基本不能剥离，但一部分剥离

7：不能剥离

【表2】

由该结果可知，在含有溶纤剂的抗蚀剂的剥离液中使用氢氧化钾代替氢氧化钠的本发明组成，与使用氢氧化钠的比较组成相比，即使L/S狭窄，也能除去抗蚀剂。

(3)剥离性能的评价方法

将液温设为50℃的各剥离液使用喷涂装置向上述试验片实施剥离处理，将试验片的粘性部分的DFR以目视全部面积的90％以上被剥离的时刻作为剥离时间。另外，剥离片尺寸(长边)是采集喷涂停止后附着于设置于试验基板固定用的台上的排渣用网眼的剥离片以目视实施的。此时的喷涂装置的条件设为全锥喷嘴且流量5L/min、压力0.1MPa。将其结果示于表3。

(4)金属的浸蚀性的评价方法

利用上述评价方法实施将喷涂运行时间固定在10分钟的处理。其后，将基板的镀铜部位通过电子显微镜(日立高新技术制：S-3400N)按照以下的评价基准评价表面形状。其结果也示于表3。

<金属浸蚀性的评价基准>

(分数)(内容)

1：没有变化

2：极略微有变化(用显微镜观察也难以看出的程度)

3：略有变化

4：发生显著变色

【表3】

	剥离时间(sec)	剥离片尺寸(mm)	金属的浸蚀性
				本发明组成1	111	3	1
本发明组成2	67	5	1
				本发明组成3	52	7	1
本发明组成4	48	15	1
				本发明组成5	43	30	2
本发明组成6	38	35	2
				本发明组成7	31	37	2
本发明组成8	28	40	2
				比较组成1	74	10	1
比较组成2	33	41	2
				比较组成3	29	43	2

由该结果可知，在剥离液中的碱浓度相同的情况下，使用氢氧化钾时能够减小剥离片尺寸，还能缩短剥离时间。

实施例3

抗蚀剂的剥离液套件：

将以0.2mol/L含有钾盐的第1液、和以0.015mol/L含有溶纤剂的第2液分别倒入容器，制造抗蚀剂的剥离液套件。

实施例4

抗蚀剂的剥离液套件：

将以0.2mol/L含有钾盐的第1液、以0.015mol/L含有溶纤剂的第2液、和以0.03mol/L含有硅酸盐的第3液分别倒入容器，制造抗蚀剂的剥离液套件。

产业上的可利用性

本发明剥离液可以用于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。