阅读说明：本技术 掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置 (Mask plate, manufacturing method of display panel and display device ) 是由 彭钊 吴思嘉 于 2020-05-29 设计创作，主要内容包括：本申请公开了一种掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置。所述掩膜板包括：透明基板；以及图案层,所述图案层形成于所述透明基板上；在所述图案层上设有透光区,在所述透光区内设有半透膜；所述半透膜边缘的透光率沿远离边缘的方向逐渐减小。本申请通过控制不同残膜区所对应掩膜板上的半透膜的厚度不同和设置于半透膜的孔的密度不同,使得残膜区的透过率呈现阶梯的变化,即残膜区边缘的透过率较低,残膜区中间通过率高,如此设计使得在曝光显影后的残膜厚度基本保持一致,防止残膜的破膜风险。(The application discloses a mask plate, a manufacturing method of a display panel and a display device. The mask plate includes: a transparent substrate; and a pattern layer formed on the transparent substrate; a light-transmitting area is arranged on the pattern layer, and a semi-permeable membrane is arranged in the light-transmitting area; the light transmittance of the semi-permeable membrane edge is gradually reduced along the direction far away from the edge. This application is different and set up in the density difference in the hole of pellicle through the thickness difference of the pellicle of the different incomplete membrane district's corresponding mask plate of control for the transmissivity of incomplete membrane district presents the change of ladder, and the transmissivity at incomplete membrane district edge is lower promptly, and the transmissivity is high in the middle of the incomplete membrane district, and the design makes the incomplete membrane thickness after exposure and development keep unanimous basically, prevents the broken membrane risk of incomplete membrane.)

掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置。

背景技术

掩模板用于进行曝光，进行构图工艺。在显示面板的制备过程中，需要使用掩模板进行多次曝光工艺，以制备显示面板中的薄膜晶体管、像素电极、黑矩阵、彩色滤光片等结构。

半色调光罩(Halftone Mask)主要是通过特定区域的部分透光特性曝光形成两种不同的膜厚，通过控制光罩基板上不同区域的铬膜的厚度，来控制不同区域的透光度，通常这种光光罩的设计和制作工艺要求都比较高，且残膜区的光阻的膜厚的均一性较低，所以容易产生破膜现象。由于曝光和药液扩散作用，一般残膜中间会先破膜，且残膜区域越大，残膜膜厚的均一性越差。

有鉴于此，亟需一种新的方法以解决残膜区域膜厚的均一性差的问题。

发明内容

本申请实施例提供一种掩膜板、显示面板的制作方法及显示装置，能够有效解决残膜区域膜厚的均一性差而导致膜厚较薄的区域容易破膜的问题。

根据本申请的一方面，本申请实施例提供一种掩膜板，包括：透明基板；以及图案层，所述图案层形成于所述透明基板上；在所述图案层上设有透光区，在所述透光区内设有半透膜；所述半透膜边缘的透光率沿远离边缘的方向逐渐减小。

进一步地，所述半透膜上设有多个孔，所述孔的密度沿远离边缘的方向逐渐减小。

进一步地，所述半透膜的厚度相同。

进一步地，所述半透膜的厚度越厚透光率越小。

进一步地，所述图案层的材料为铬。

进一步地，所述孔的线度小于3um。

进一步地，所述半透膜的厚度为100埃至10000埃。

进一步地，所述半透膜的透光率为20％至60％。

根据本申请的另一方面，本申请实施例提供一种显示面板的制作方法，包括步骤：采用上述掩模板，在基板上形成边缘厚度均匀的第一层图案；以及在所述第一层图案上依次形成后续各层图案。

根据本申请的又一方面，本申请实施例提供一种显示装置，包括：由上述显示面板制作的方法所制作的显示面板。

本申请的优点在于，相较于现有技术，在本申请中先通过设置不同厚度的半透膜，从整体控制透光率。在控制不同残膜区所对应掩膜板上设置于半透膜的孔的密度不同，使得残膜区的透过率呈现阶梯的变化，即残膜区边缘的透过率较低，残膜区中间通过率高，如此设计使得在曝光显影后的残膜厚度基本保持一致，防止残膜的破膜风险。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的

具体实施方式

详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请实施例所提供的一种掩膜板结构示意图。

图2为本申请实施例所提供的半透膜结构示意图。

图3为本申请实施例所提供的一种显示面板的制作方法。

图4为本申请实施例所提供的一种显示装置。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。在本实施例中，所述模拟显示屏触摸单元与所述头部追踪单元连接，用于获取所述显示设备中的感应光标的移动路径。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

如图1所示，为本申请实施例所提供的掩膜板结构示意图，包括：透明基板10、图案层20及半透膜30。

其中所述图案层20形成于所述透明基板10上。

在所述图案层20上设有透光区34，在所述透光区34内设有半透膜30。在本申请实施例中，所述图案层20的材料为铬，但不限于此。

所述半透膜30边缘的透光率沿远离边缘的方向逐渐减小。如此设置，使得在曝光区的光强保持一致，制作形成的各层图案的膜厚保持一致，防止破膜的风险。

如图2所示，为本申请实施例所提供的半透膜30结构示意图。所述半透膜30的厚度相同。

在本申请实施例中，所述半透膜30的厚度为100埃至10000埃，有助于整体上控制透光率。即半透膜的厚度越厚透光率越小。

所述半透膜30上设有多个孔33，所述孔33的密度沿远离边缘的方向逐渐减小。在本申请实施例中，所述孔33的形状不限，为了保证光的衍射效果，所述孔33的线度小于3um。所述半透膜30的厚度为100埃至10000埃。所述半透膜30的透光率为20％至60％，所述半透膜30的透光率主要取决于所述孔33的密度。当所述孔33的密度越大时，则透光率越高，反之，当所述孔33的密度越小时，则透光率越低。

本申请的优点在于，相较于现有技术，在本申请中先通过设置不同厚度的半透膜，从整体控制透光率。在控制不同残膜区所对应掩膜板上设置于半透膜的孔的密度不同，使得残膜区的透过率呈现阶梯的变化，即残膜区边缘的透过率较低，残膜区中间通过率高，如此设计使得在曝光显影后的残膜厚度基本保持一致，防止残膜的破膜风险。

本申请还提供一种显示面板的制作方法，所述方法包括步骤：

步骤S100：采用上述任一实施例所述的掩模板，在基板上形成厚度均匀的第一层图案。

步骤S110：在所述第一层图案上依次形成后续各层图案。

如图3所示，为本申请实施例提供的步骤S100工艺流程图。

在基板上形成边缘厚度均匀的第一层图案(即残膜)，在使用上述实施例所提供的掩模板进行曝光工时，掩膜板的透光区的光强保持一致，从而所制作的各层图案的残膜区42厚度保持均匀，不易破膜。

本申请的优点在于，相较于现有技术，在本申请中先通过设置不同厚度的半透膜，从整体控制透光率。在控制不同残膜区所对应掩膜板上设置于半透膜的孔的密度不同，使得残膜区的透过率呈现阶梯的变化，即残膜区边缘的透过率较低，残膜区中间通过率高，如此设计使得在曝光显影后的残膜厚度基本保持一致，防止残膜的破膜风险。

如图4所示，本申请还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述实施例所述的显示面板。

该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。当本实施例的显示装置50采用上述实施例所述的显示面板时，其显示效果更好。

当然，本实施例的显示装置50中还可以包括其他常规结构，如电源单元、显示驱动单元等。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。