阅读说明：本技术 光掩膜版保护膜的去除系统及方法 (System and method for removing protective film of photomask ) 是由 高丁山 于 2018-08-23 设计创作，主要内容包括：本发明提供一种光掩膜版保护膜的去除系统及方法,光掩膜版保护膜的去除系统包括：气罩,底部设有凹槽,顶部设有与所述凹槽相连通的通孔；抽真空装置；吸气管路,一端经由所述通孔与所述凹槽相连通,另一端与所述抽真空装置相连接。本发明的光掩膜版保护膜的去除系统可以在去除光掩膜版上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除保护膜层,然后再去除环形边框,这样在保护膜去除的过程中就不会有保护膜层掉落在光掩膜版上,不会对光掩膜版造成污染,从而提升良率,节约成本。(The invention provides a system and a method for removing a protective film of a photomask, wherein the system for removing the protective film of the photomask comprises the following steps: the bottom of the gas hood is provided with a groove, and the top of the gas hood is provided with a through hole communicated with the groove; a vacuum pumping device; and one end of the air suction pipeline is communicated with the groove through the through hole, and the other end of the air suction pipeline is connected with the vacuumizing device. The system for removing the protective film of the photomask plate can remove the protective film layer by adopting a vacuum air exhaust mode when the protective film on the photomask plate is removed, and then remove the annular frame, so that the protective film layer does not fall on the photomask plate in the process of removing the protective film, the photomask plate is not polluted, the yield is improved, and the cost is saved.)

光掩膜版保护膜的去除系统及方法

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别是涉及一种光掩膜版保护膜的去除系统及方法。

背景技术

现有技术中，为了防止对光掩膜版的图形区域造成污染，光掩膜版的表面都会设置保护膜(Pellice)用于对所述光掩膜版进行保护，所述保护膜包括环形边框及覆盖于所述环形边框上的保护膜层。在所述光掩膜版使用的过程中，需要定期对所述光掩膜版进行维护清洗，此时，需要去除位于所述光掩膜版上的所述保护膜；现有的方法一般为将表面设有所述保护膜的所述光掩膜版加热后或未进行加热直接整体拆除所述保护膜(即将所述环形边框及所述保护膜层一起拆除)，然后，采用上述方式拆除所述保护膜的过程中，所述保护膜层容易破裂掉落在所述光掩膜版的图形区域而污染所述光掩膜版，从而造成所述光掩膜版的报废。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种光掩膜版保护膜的去除系统及方法，用于解决现有技术中的拆除保护模时保护膜层容易掉落在光掩膜版的图形区域而污染光掩膜版，从而造成光掩膜版报废的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种光掩膜版保护膜的去除系统，所述光掩膜版保护膜的去除系统用于去除光掩膜版的保护膜，所述光掩膜版保护膜的去除系统包括：

气罩，底部设有凹槽，顶部设有与所述凹槽相连通的通孔；

抽真空装置；

吸气管路，一端经由所述通孔与所述凹槽相连通，另一端与所述抽真空装置相连接。

优选地，所述抽真空装置包括真空泵。

优选地，所述光掩膜版保护膜的去除系统还包括开关阀，所述开关阀位于所述吸气管路上。

优选地，所述开关阀位于所述吸气管路与所述气罩的连接处。

优选地，所述凹槽的形状与所述保护膜的形状相同，且所述凹槽的尺寸大于所述保护膜的尺寸。

优选地，所述气罩的形状与所述光掩膜版的形状相同，且所述气罩的尺寸与所述光掩膜版的尺寸相同；所述凹槽的尺寸小于所述光掩膜版的尺寸。

本发明还提供一种光掩膜版保护膜的去除方法，所述光掩膜版保护膜的去除方法包括如下步骤：

1)提供一光掩膜版，所述光掩膜版的表面设置有保护膜，所述保护膜包括位于所述光掩膜版的图形区域***的环形边框及覆盖于所述环形边框上的保护膜层；

2)采用真空抽气的方式去除所述保护膜层；

3)将所述环形边框从所述光掩膜版上去除。

优选地，步骤2)中，采用真空吸附的方式去除所述保护膜层包括如下步骤：

2-1)提供一如上述任一方案中的所述的光掩膜版保护膜的去除系统；

2-2)将所述气罩扣置于所述光掩膜版上；

2-3)使用所述抽真空装置抽气，以在所述保护膜层表面形成吸力，从而去除所述保护膜层。

优选地，步骤2)与步骤3)之间还包括如下步骤：

将所述气罩从所述光掩膜版上方移开；

所述抽真空装置停止抽气。

如上所述，本发明的光掩膜版保护膜的去除系统及方法，具有以下有益效果：

本发明的光掩膜版保护膜的去除系统可以在去除光掩膜版上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除保护膜层，然后再去除环形边框，这样在保护膜去除的过程中就不会有保护膜层掉落在光掩膜版上，不会对光掩膜版造成污染，从而提升良率，节约成本；

本发明的光掩膜版保护膜的去除方法在去除光掩膜版上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除保护膜层，然后再去除环形边框，这样在保护膜去除的过程中就不会有保护膜层掉落在光掩膜版上，不会对光掩膜版造成污染，从而提升良率，节约成本。

附图说明

图1显示为本发明实施例一中提供的光掩膜版保护膜的去除系统的结构示意图。

图2显示为本发明实施例一中提供的光掩膜版保护膜的去除系统的工作原理图。

图3显示为本发明实施例二中提供的光掩膜版保护膜的去除方法的流程图。

图4至图8显示为本发明实施例二中提供的光掩膜版保护膜的去除方法中各步骤对应结构的结构示意图。

元件标号说明

11 气罩

111 凹槽

112 通孔

12 抽真空装置

13 吸气管路

14 开关阀

21 光掩膜版

211 图形区域

22 保护膜

221 环形边框

222 保护膜层

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。

请参阅图1～图8。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，虽图示中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。

实施例一

请参阅图1及图2，本实施例提供一种光掩膜版保护膜的去除系统，所述光掩膜版保护膜的去除系统用于去除光掩膜版21的保护膜22，所述光掩膜版保护膜的去除系统包括：

气罩11，所述气罩11底部设有凹槽111，所述气罩11顶部设有与所述凹槽111相连通的通孔112；

抽真空装置12；

吸气管路13，所述吸气管路13一端经由所述通孔112与所述凹槽111相连通，另一端与所述抽真空装置12相连接。

作为示例，所述吸气管路13与所述气罩11相连接的一端可以直接插设于所述通孔112内以实现与所述凹槽111相连通。当然，在其他示例中，所述气罩11上所述通孔112***还可以设置插接管(未示出)，所述插接管精油所述通孔112与所述凹槽111相连通，所述吸气管路13与所述气罩11相连接的一端套置于所述插接管上。

作为示例，所述通孔112的数量可以根据实际需要设置为一个或多个，图1及图2中以所述通孔112的数量为一个作为示例。当所述通孔112的数量为多个时，所述吸气管路13的数量也应为多个，以确保所述吸气管路13的一端可以与所述通孔112一一对应连接。

作为示例，所述抽真空装置12可以包括但不仅限于机械泵，优选地，本实施例中，所述抽真空装置12包括真空泵。

作为示例，所述光掩膜版保护膜的去除系统还可以包括开关阀14，所述开关阀14位于所述吸气管路13上。在所述抽真空装置12开启的前提下，所述开关阀14通过自身的开启来控制对所述光掩膜版21进行抽气，即在所述抽真空装置12开启的前提下，所述开关阀14开启时对所述光掩膜版21进行抽气，所述开关阀14关闭时则停止对所述光掩膜版21进行抽气。

作为示例，所述开关阀14可以为机械开关阀、电气开关阀等等。

作为示例，所述开关阀14可以设置于所述吸气管路13的任意位置，优选地，本实施例中，所述开关阀14设置于所述吸气管路13与所述气罩11的连接处。

作为示例，所述凹槽111的形状与所述保护膜22的形状相同，且所述凹槽111的尺寸大于所述保护膜22的尺寸；具体的，以所述保护膜22为方形保护膜为例，所述凹槽111的形状也同样为方形，且所述凹槽111的边长大于与其相对应的所述保护膜22的边长，以确保所述气罩11置于所述光掩膜版21的上方时，所述凹槽111在所述光掩膜版21上的正投影可以完全覆盖所述保护膜22，从而确保在真空抽气时可以方便快捷地将所述保护膜22上的保护膜层222完全去除。

作为示例，所述气罩11的形状与所述光掩膜版21的形状相同，且所述气罩11的尺寸与所述光掩膜版21的尺寸相同；所述凹槽111的尺寸小于所述光掩膜版21的尺寸；具体的，以所述光掩膜版21为方形掩膜版为例，所述气罩11的形状也同样为方形，且所述气罩11的边长与与其相对应的所述光掩膜版21的边长相同，且所述凹槽111的边长小于与其相对应的所述光掩膜版21的边长。

请继续参阅图2，本发明的所述光掩膜版保护膜的去除系统的工作原理为：将所述光掩膜版保护膜的去除系统中的所述气罩11移至待处理的所述光掩膜版21上方，且使得所述气罩11与所述保护膜22相对应；开启所述抽真空装置12对所述光掩膜版21表面进行真空抽气，在真空抽气的吸力作用下所述保护膜层222被吸除(其中，图2中向上的箭头即表示所述保护膜层222被吸除的方向)；待所述保护膜层222均被吸除后，将所述气罩11从所述光掩膜版21上方移开，并使得所述抽真空装置12停止工作；去除所述环形边框221即可。本发明的所述光掩膜版保护膜的去除系统可以在去除所述光掩膜版21上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除所述保护膜层222，然后再去除所述环形边框221，这样在所述保护膜22去除的过程中就不会有所述保护膜层222掉落在所述光掩膜版21上，不会对所述光掩膜版21造成污染，从而提升良率，节约成本。

实施例二

请参阅图3，本发明还提供一种光掩膜版保护膜的去除方法，所述光掩膜版保护膜的去除方法包括如下步骤：

1)提供一光掩膜版，所述光掩膜版的表面设置有保护膜，所述保护膜包括位于所述光掩膜版的图形区域***的环形边框及覆盖于所述环形边框上的保护膜层；

2)采用真空抽气的方式去除所述保护膜层；

3)将所述环形边框从所述光掩膜版上去除。

在步骤1)中，请参阅图3中的S1步骤及图4，提供一光掩膜版21，所述光掩膜版21的表面设置有保护膜22，所述保护膜22包括位于所述光掩膜版21的图形区域211***的环形边框221及覆盖于所述环形边框221上的保护膜层222。

作为示例，所述光掩膜版21的具体结构为本领域技术人员所知晓，此处不再累述。所述保护膜22的具体结构同样为本领域技术人员所知晓，此处不再累述。

在步骤2)中，请参阅图3中的S2步骤及图5至图7，采用真空抽气的方式去除所述保护膜层22。

作为示例，采用真空吸附的方式去除所述保护膜层222包括如下步骤：

2-1)提供一如实施例一中所述的光掩膜版保护膜的去除系统，所述光掩膜版保护膜的去除系统的具体结构请参阅实施例一，此处不再累述；

2-2)将所述气罩11扣置于所述光掩膜版21上；具体的，所述气罩11可以距离所述光掩膜版21的表面具有一定的间距；

2-3)使用所述抽真空装置12抽气，以在所述保护膜层222表面形成吸力，从而去除所述保护膜层222，如图5及图6所示。

需要说明的是，在步骤2-3)中，所述抽真空装置12抽气时的功率可以根据实际需要进行设定，此处不做限定。但需要注意的是，所述抽真空装置12抽气时的功率必须满足在所述保护膜22表面产生的吸力足以使得所述保护膜层222破裂并被吸除，且使得所述保护膜层222不会在重力的作用下掉落至所述光掩膜版21上。

需要进一步说明的是，步骤2-3)中，所述抽真空装置12处于持续不间断抽气工作状态，以防止所述保护膜层222掉落至所述光掩模版21的表面。

作为示例，步骤2)之后还包括如下步骤：

将所述气罩11从所述光掩膜版21上方移开，如图7所示；

所述抽真空装置12停止抽气，即关闭所述抽真空装置12以使其停止工作。先将所述气罩11从所述光掩膜版21的上方移开后再停止抽气，可以有效防止已经移除的所述保护膜层222再次掉落至所述光掩膜版21上。

在步骤3)中，请参阅图3中的S3步骤及图8，将所述环形边框221从所述光掩膜版21上去除。

作为示例，可以在加热的情况下或未加热的情况下去除所述环形边框221，去除所述环形边框221的具体方法为本领域技术人员所知晓，此处不再累述。由于此时所述保护膜层222已经被完全移除，在去除所述环形边框221的过程中不会有所述保护膜层222掉落至所述光掩膜版21上，不会对所述光掩膜版21造成污染。

本发明的光掩膜版保护膜的去除方法在去除所述光掩膜版21上的所述保护膜22时先采用真空抽气的方式去除所述保护膜层222，然后再去除所述环形边框221，这样在所述保护膜22去除的过程中就不会有所述保护膜层222掉落在所述光掩膜版21上，不会对所述光掩膜版21造成污染，从而提升良率，节约成本。

综上所述，本发明的光掩膜版保护膜的去除系统及方法，所述光掩膜版保护膜的去除系统用于去除光掩膜版的保护膜，所述光掩膜版保护膜的去除系统包括：气罩，底部设有凹槽，顶部设有与所述凹槽相连通的通孔；抽真空装置；吸气管路，一端经由所述通孔与所述凹槽相连通，另一端与所述抽真空装置相连接。本发明的光掩膜版保护膜的去除系统可以在去除光掩膜版上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除保护膜层，然后再去除环形边框，这样在保护膜去除的过程中就不会有保护膜层掉落在光掩膜版上，不会对光掩膜版造成污染，从而提升良率，节约成本；本发明的光掩膜版保护膜的去除方法在去除光掩膜版上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除保护膜层，然后再去除环形边框，这样在保护膜去除的过程中就不会有保护膜层掉落在光掩膜版上，不会对光掩膜版造成污染，从而提升良率，节约成本。

上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。